Способ отжига ионно-легированных полупроводников
Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1028202
Авторы: Васильев, Герасименко, Ободников
Описание
E




где

To - температура отжига ионно-легированного слоя полупроводника;
TH - начальная температура полупроводника;
Cn - теплоемкость полупроводника;
dn - толщина отжигаемого полупроводника;

t - длительность импульса СВЧ-излучения.
Заявка
3345989/25, 13.10.1981
Институт физики полупроводников СО АН СССР, Новосибирский государственный университет
Васильев С. В, Герасименко Н. Н, Ободников В. И
МПК / Метки
МПК: H01L 21/477
Метки: ионно-легированных, отжига, полупроводников
Опубликовано: 20.11.1999
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-1028202-sposob-otzhiga-ionno-legirovannykh-poluprovodnikov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ отжига ионно-легированных полупроводников</a>
Предыдущий патент: Пресс-автомат для прессования изделий из порошковых материалов
Следующий патент: Установка для изготовления активного слоя радионуклидных поверхностных источников
Случайный патент: Машина для сборки радиальных подшипниковс цилиндричпскилги роликами