Способ отжига ионно-легированных полупроводников

Номер патента: 1028202

Авторы: Васильев, Герасименко, Ободников

Описание

Способ отжига ионно-легированных полупроводников, включающий импульсный СВЧ-нагрев, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса термообработки и повышения однородности отжига ионно-легированных слоев полупроводников с малой величиной проводимости, нагрев полупроводников проводят импульсом СВЧ-излучения со следующими параметрами: длительность импульса СВЧ-излучения 10-6 - 102С, основная частота СВЧ-излучения 950 Мгц - 10 ГГц, плотность поглощенной энергии СВЧ-импульса рассчитывают по формуле
E T(Cndn+2 c T3t), Дж/см2
где T = To = Tн;
To - температура отжига ионно-легированного слоя полупроводника;
TH - начальная температура полупроводника;
Cn - теплоемкость полупроводника;
dn - толщина отжигаемого полупроводника;
c - постоянная Стефана-Больцмана,
t - длительность импульса СВЧ-излучения.

Заявка

3345989/25, 13.10.1981

Институт физики полупроводников СО АН СССР, Новосибирский государственный университет

Васильев С. В, Герасименко Н. Н, Ободников В. И

МПК / Метки

МПК: H01L 21/477

Метки: ионно-легированных, отжига, полупроводников

Опубликовано: 20.11.1999

Код ссылки

<a href="https://patents.su/0-1028202-sposob-otzhiga-ionno-legirovannykh-poluprovodnikov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ отжига ионно-легированных полупроводников</a>

Похожие патенты