Фотополимеризующаяся композиция для получения рельефных изображений

"х чеонйтЩ: т 1 м 4 ы я л ОПИС ИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ Союз Советских Социалистических РеспубликК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ ависимое от авт. свидетельств( 1160659,/23-4)явок1160689/23-4 аявлено ОЗХ. Кл, 57;., 2/ с присоединением и1160690/23 митет по делам Приорите 1 Г 1 К С 0317 О зооретений и открытийпри Совете МинистровСССР публиковацо О. И, Ефименко и А,околов Заявитель ОТОПОЛ ИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ПОЛУЧЕНИЯ РЕЛЬЕФНЫХ ИЗОБРАЖЕНИЙ высокой стоцкостпроцессах в гал ее состоит цз хлс енсцбцлизатора а -дц- (4-азцдобецза мер 1. Берут ко ава: также ческих состав ра ц с 5 ью прц электролцтцьванцческцх ваннах рвцццлового полцмезцдного типа, напрцль) ццклогексанона. мпозццьпо следующемер 2,6 При го состИзобретение относится к фотополимерцзующимся композициям для получения рельефных изображений, которые могут быть использованы, например, для получения печатных форм в полиграфии или для получения изделий, выполненных фотогравировкой, ьсапример при изготовлении полупроводниковых приборов - диодов, триодов и др., а так:ке для изготовления металлических масок, сеток, шаблонов и других изделий в электронной промышленности.Известны фотополимеризующиеся композиции, состоящие из полимера - сополимера бутадиена ц акрилонитрила и сенсибилизатора азидного типа, например 2,6-ди-(4-азидобензаль) циклогексанона.Однако эти фотополцмерцзующиеся композиции удовлетворительно выдерживают действие кислых травцтелей ццзкцх и средних концентраций. Концентрированные кислоты, например плавиковая, и особенно окислители, азотная кислота, разрушают эти фотополимеризующиеся композиции. В щелочных средах с концентрацией выше 5 эти фотополимернзующиеся композиции не применяются ввиду их недостаточной щелочестойкости.Предлагаемая композиция отличается тем, что для получения рельефных изображений с высокой химической стойкостью к кислым ц щелочным средам любой концентрации, а Лак ХСЛ (ГОСТ 733 - 55), .цл 50 Сенсцбцлцзатор, г ,5 - 1 10Хлорбензол, лгл 1 огТолуол, лсл 35Расчетное количество сенсцбцлцзатора(очувствцтеля) растворяют в смеси хлорбен зола ц толуола, добавляют в лак ХСЛ цфильтруют. Полученный композцстиоццый лак наносят ца обезжиренную поверхность заготовкц поливом с последующим цецтрцфугчСрваццем.,т)ля активации фотогюлцмерцзаццц 20 заготовку с нанесенным слоем подвергаюттермообработке прц 100 - 120 С в теченце 10 ясин. Затем через стеклянный негатив ртутно-кварцевой лампой производят экспонирование слоя в течение 5 псин прц освещен ности 20000 лк. Полученную копию проявляют в смеси органических растворцтелей, например, бутцлацетат, ацетон ц толуол в соотношении 1: 2: 7 об, ч. в течение 3 иин с последующей душевой промывкой водой для 30 удаления остатков растворенного слоя и275739 Полпхлорвпппловая смола, г Сенспбилизатор, гЦпклогексанон, лл 100,5 - 1100 Перхлорвиниловая смола, гСенсибилизатор, гХлорбензол, ялТолуол, ял 100,5 - 13070 Составитель Э. Рамзова Редактор О. Филиппова Корректор Т. А, Абрамова Эаказ 30 7/4 Тираж 480 ПодписноеЕ 1.ИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССРМосква, Ж, Раушская наб., д, 4/5 Типография, пр. Сапунова, 2 сушкоп. Прп необходимости для увеличения адгезип полученного рельефного изображения к подложке последнее подвергаот термообработке при 180 - 190 С в течение 10 лссск йо получения черного блестящего слоя.П р и м е р 2. Берут композицию следующего сосгава: Расчетное количество смолы растворяют в толуоле, а сенсибилизатор в хлорбензоле, Полученные растворы сливают и фильтруют. Композицио наносят па обезжиренную поверхность заготовки путем полива с последующим центрифугированием. Для активации фотополимеризацпи заготовку с нанесенным слоем подвергают термообработке при 100 - 120 С в течение 10 лак, Через стеклянный негатив производят экспонирование слоя ртутно-кварцевыми лампами 5 лак при освещенности 20000 лк. Копшо проявляют в органических растворителях, например в смеси бутплацетат, ацетон, бутанол, в соотношении 1: 2:7 об. ч. в течение 3 лчик с последующеи душевой промывкой водой для удаления остатков растворенного слоя и сушкой. При необходимости полученное рельефное изображение подвергают термообработке прп 180 - 190 С в течение 10 лпк.П р и м е р 3, Берут композицию следующего состава: 5 Расчетное количество смолы и очувствителя (сенсибилизатора) растворяют в циклогексаноне, Полученный раствор фильтруют, Композицию наносят на обезжиренную поверхность заготовки путем полива с последующим 10 центрифугированием, С целью активации фотополимеризации заготовку с нанесенным слоем сушат при 100 - 120 С в течение 10 лтик, Затем через стеклянный негатив производят экспонирование с помощью ртутнокварцевой 15 лампы в течение 5 лик при освещенности20000 лк. Копию проявляют в смеси циклогексапона и бутанола (2: 1) в течение 2 - 3 пик с последующей душевой промывкой водой и сушкой. Для улучшения адгезии по лученного рельефного изображения к подложке последнее нагревают до 180 - 190 С и выдерживают при этой температуре 10 яак. Предмет изобретения25 Фотополимерпзующаяся ком позиция дляполучения рельефных изображении ца основе хлорвиниловых полимеров, отличающаяся тем, что, с целью получения рельефных изображений с высокой стойкостью к кислым и 30 щелочным средам любой концентрации, атакже высокой стойкостью при электролитическпх процессах в гальванических ваннах, в состав композиции введен сенспбилпзатор азпдного типа, например 2,6-дп-(4-азпдобен заль) циклогексанон.