G03C 11/04 — ретуширование

Номер патента: 9949

Опубликовано: 29.06.1929

Автор: Суковицын

МПК: G03C 11/04

Метки: негативов, ретуши

...Предлагаемое изобретение ка-сается приспособления для ретуши негативов и имеет целью ускорение процесса их обработки.Проявленный и тщательно промытый негатив прижимается к фильтровальной бумаге с целью удаления остатков воды, после чего к слою эмульсии негатива прикладывается тонкая целлюлоидная пластинка, обработанная между двумя матовыми сторонами зеркальных стекол, и осторожно приглаживается рукой через фильтровальную бумагу, накладываемую нанее. После удаления фильтровальной бумаги негатив готов для производства ретуши и копировки.Вышеупомянутая целлюлоидная пластинка подготовляется следующим образом; использованную пленку опускают в кипящую воду для удаления слоя эмульсии, после чего вкладывают ее между двумя матовыми сторонами двух...

Номер патента: 13784

Опубликовано: 31.03.1930

Автор: Дмитриев

МПК: G03C 11/04

Метки: прибор, ретуши

...пустотелого цилиндра с уширяющейся верхней частью, которая пальцами скользит в направляющем кольце 9, прикрепленном к корпусу А, В якорь со стороны сердечника вставлен кусок железа, в боку уширенной части помещен платиновый штифтик Й, а снизу в канал якоря закладывается,графитовый стержень д, зажимаемый гайкой 7. Пружина Р, предназнмченная для движения графита, одним концом ,припаивается к якорю, а другим в щеке 2 катушки спаивается вместе с одним концом обмотки электромагнита, другойконец которой подходит к штепсельному гнезду Ь. При работе, прижимал кнопку Г к пластинке Ю имеющей на, нижнем конце чашечку Ь со ртутью, служащую вместе со штифтом Х прерывателем, замыкают цепь, вследствие чего якорь пад действием электромагнита...

Номер патента: 25045

Опубликовано: 31.01.1932

Автор: Шапаров

МПК: G03C 11/04

Метки: диапозитивов, негативов, производства, ретуши

...поливается раствором по слою для получения добавочной плотности с одного угла к другим таким образом, чтобы заполнить всю пластину, помещается в центро- фугу, затем еще доливается немного раствора на середину пластины. Вращением центрофуги, нанесенный слой равномерно распределяется по пластине и высушивается, после чего поверхность пластины принимает блестящий лакированный вид. Полученному слою дают про.стоять 10 - 12 часов, после чего присту,пают к ретуши. В нужном месте рисунка нанесенный слой смывается кисточкой или заостренной палочкой, смоченной нижеуказанным раствором,Рецепт раствора для нанесения добавочного слоя плотности таков: 10 - 20 ч. жирового нигрозина, настаивается на бензоле в объеме 200 см, Затем берется 100 см жидкого...

Номер патента: 33814

Опубликовано: 31.12.1933

Автор: Мин

МПК: G03C 11/04, G11B 27/36

Метки: звуковых, монтажа, стол, фильмов

...установкой из двух проекторов.Целью настоящей конструкции является дальнейшее усовершенствование такого монтажного стола.На чертеже фиг, 1 изображает вид стола сбоку в продольном разрезе; фиг, 2 - то же, вид сверху,Предлагаемый стол для монтажа звуковых фильмов состоит из системы двух перемоток б - б и 7 - 7, механизма 2 для протягивания ленты с изображениями и механизма 3 для протягивания лентс фонограммой, Система б - б служит для закладывания фонограммы, а система 7 - 7 - фотозаписи. Механизмы 3 и 2 получают вращение от общего вала 1 О мотора 4 и соединены не. непосредственно,а через диференциальный механизм 1. Такое устройство дает возможность производить следующие операции: пропускать фото- и фоно- записи и на ходу, путем...

Номер патента: 35569

Опубликовано: 31.03.1934

Автор: Охотин

МПК: G03C 11/04

Метки: негативов, прибор, ретуши

...поддержки длякарандаша производится посредством пневматического приспособления,Как видно на чертеже, поддержка 4для карандаша оканчиваетея поршнем 1 передвигающимся по трубке 3, которая еоединена резиновым шлангом 5 с воздушным насосом или с ножными мехами, В трубке 3 установлен особый прерыватель 2, состоящий из шарика с четырьмя выемками под прямым углом, который плотно пришлифован к стенкам трубки,з Эксперт и .редактор АГ. Бремзе ИА ИЗОБРЕТЕИИЕ М. Д. Охотина, заявленыпр. о перв.127899). опубликовано 31 марта 1934 го но в то же время может свободно щаться . на своей оси внутри тру Передвижение поршню сообщается очень небольшое расстояние, а пруж обвивающая поддержку 4, подбира так, чтобы удар карандаша по нега был не слишком крепкий,...

Номер патента: 45568

Опубликовано: 31.12.1935

Автор: Красников

МПК: G03C 11/04, G03C 5/18, G03C 7/46 ...

Метки: мозаики

...применяются по желанию и кисти. При ретушировании можно ввести и все желаемые дополни-тельные краски, а также золото и т. и.После ретуши плитки рязбнраютая (гда зуруются) и обжигаются (при керамиче ских материалах н стекле) при большом или малом огне. Дефекты первого об, жига исправляются вторичным рвтуши рованием, как зто обычно в декорировании керамическими красками. После окончательного исправления плитки монтируются в порядке нумерации на той поверхностп, для которой декориро вание предназначалось.2. Прием выполнения способа по п, д, ОтЛИЧаю 1 цнйСя тЕМ, ЧтО ПЛИТКИ ПОСЛе окраски ретушируют.3. Прием выполнения способа по пп, 1 и 2, отлича 1 ощийся тем, что плитки после их окраски глазуруют и подвергают...

Номер патента: 76603

Опубликовано: 01.01.1949

Автор: Степанов

МПК: G03C 11/04, G03F 3/02

Метки: второго, карты, нагрузки, например, негативов, производства, расчленения, ретуши, элемента

...Вместо ретуши, рсту- ШЕ) ЗЗК)ЫВЗЕТ НСГЯТИВ СПЛОШЬ КИСТЫО 1)СТВО)О. ЖИРОВОГО КРЗС 11 СГ 1 Я.ЭтОт ряство) Окряшивяст на неГЗтизе когГсдиоппь 1 Ззпитньй с.01 (Бп)Тыв 251 ь В неГО) ВО всех те места ., Глс Он пс ззк;)ьт зквзрсгп- ной крзско 1, но Оп 1 е спосооен пронкнут, через су:01 СГОЙ зкв 1)ел- ИОЙ 1:,рас 1,и. КОГда )Яствор красителя Высо.нет, с псГ 1 тиВ 2 смыВЯют ВО- дОЙ квя)ельную кр доку. П)и этом нз нсГзтпвс авто Зтисски Откры 2 ется элеяепт нагрузки, относящийся к другому красочному обьскту, 2 котурная основа о:тастся за)крашенной до полной светопепроницасмоЪо .у 660 сти, приведсрпным раств 01)ом красителеЙ, которые В Воде совершенно нераСТВОрИМЫ И ПОЭТОМУ ПрИ СКЫВЕЕ аКВарЕЛЬНОЙ КраСКИ НЕ ьдад 5 ИОТСЯ.Такик образом, после такой...

Номер патента: 84203

Опубликовано: 01.01.1950

Автор: Волков

МПК: G03C 11/04

Метки: кинопленки, пресс, ремонта

...перпендикулярном к пленке,В плоском прижиме имеются четыре отверстия-ловителя, расположенных в соответствии с расположением зубцов на фнксируюшей плите д. При нажатии сверх 1 прижимная крышка приближается и основа-, нию гпресса и защелкивается пружинящим затвором,С той и другой стороны от прижимных крышек 5 расположены дополнительные крышки 7. Между прижимными крышками 5 и 7 для увеличения фиксирующей поверхности плиты 3 установлены еще по два с каждой стороны дополнительных зубца.ДОГ 0)(ИТС,1 ЬИЫС 1)РЫШЕИ / Л 1 Кат ДЛЯ ПРОСТОГО ДГ)ИГ)ЛНИ 1( (иО. ) ири)кима:лсик.В основании 1 пресса имеется капал, сдс,аиный по Нириис пленки, глубигОю для данной конструкции прссса в 1,5 - 2,1(л. Работа ирссса 3 аключастся в следующем.Фиг110...

Номер патента: 94828

Опубликовано: 01.01.1953

Авторы: Павлов, Попов, Пылаев, Шевченко

МПК: G03C 11/04

Метки: рельефных, составления, участков, фотопланов

...резкость.Для построения и фотографирования обратной модели местностипредлагается прибор, имеющий следующие основные части: специальный экран (монтажную решетку) и фотоустанавку,Монтажная решетка (фиг. 3) изготовляется из легкого металла,толщиной не менее 7 мм. На площади ЗООХЗС 0 мм высверливаются отверстия для вставки штифтов, Расстояния между центрами отверстий=5 лм, диаметр=З мм.Для закрепления отпечатка и подъема плоскостей на требуемуювысоту Ьр изготовляется набор стальных штифтов. Длина штифтовравна величине Лр для соответствующей зоны плюс расстояние отверхней плоскости монтажной решетки до плоскости экрана. Штифтверхней части заканчивается шайбочкой со скошенными краями илой для закрепления отпечатков.Фотоустановка...

Номер патента: 102585

Опубликовано: 01.01.1956

Автор: Милославов

МПК: G03C 11/04

Метки: ретушевальный, станок

...рсгулцрогтКУ МаещтДОа УВЕЛПЧСН(гн (Е КаДРИРОВКУи:50 бргтжсни 5 по Высоте п по у 1 лу поворота,Г 1 а черт.же показана с.;ла (Еписгц(О- мого станка.Ртдпок состг(ит гз двум и;Ерд;Лс;ьнык. Пзогцутык иод уг;011 Гт(1 - 15 НВправляющпк (1) и (О), несущим ид наклонной части (1) подвижцув( напел,(3) С уКрЕПЛ(Ч(НОй Нд Псй КОПирОВаЛШГОйрамн Ой (1). Ндправляюп;пе ш(осй гщи(ЗОИТ(.:ГЬЕ 1(511 ЧДСТЬЮ ( ) ПОД(1 тпжНО 55 йгтРСЕ 1 лены в .;омутикдк (5) идцслг увеличителя. Пд штативе увели пгтсля крсИцт(", Нд СТтсдтЕ(501 1.Ен П 1:ТЕ;г(М т;15(11 т:цт: иц( 1) з(ркалО (7), цдктои(нноеК ОЦТЦЧС( КОй (И и (тгттУ 50:ттПГте:51 (ЯтоТпод уГлом соответ(тв 1 т(О ЕЕ - Д т11 гдт 1 гвцос пз Ег(0(1;Г: итс, 1 гв 5;т 1 (ус 110( Фг тст вслцшюс,г(м Ч), От(трсгптастсяНД(:,Гт 1...

Номер патента: 528537

Опубликовано: 15.09.1976

Авторы: Баюков, Волков, Журавлев, Калинин

МПК: G03C 11/04, H01L 21/70

Метки: микроизображений, например, реставрации, фотошаблонов

...1 и 2, где 1 - фотошаблон с дефектами, 2, 3 - диазотипный материала, 4 - краска, 5 - зеркальная копия, 6 - пятно. Фотошаблон с нанесенным диазоматериалом устанавливают под микроскоп и наносят на дефекты 2 капельки невысыхающей крас ки 4, максирующей УФ излучение, после чего пластину экспонируют УФ светом. Временную краску убирают тампоном, Изображение проявляют в парах аммиака прп нормальных условиях, В результате над дефектом об разуется пятно 6, маскирующее дефект в УФсвете.Невысыха 10 щу 10 1 сраску можно использовать для маскирования при размере ретушируемых дефектов на темных полях размером 20 более 50 мкм, Реставрированное микроизображение является безрельефным, что важно для операции копирования пзооражений контактным аюсобом. 25...

Номер патента: 1215081

Опубликовано: 28.02.1986

Авторы: Попова, Суслов

МПК: G03C 11/04, H01L 21/00

Метки: фотошаблонов

...Светочувствительного покрытия не превышает нескольких микрон. Образуемый вторым слоем гарантированный зазор между фотошаблоном и подложкой УФЭ не приведет к искажениям изображения при последующих фотолитографических операциях.В качестве светочувствительного слоя можно использовать негативно работающие диазосоединения с различными механизмами образования изображения. Например, такие диазосоединения, которые, разрушаясь под действием Уф света, образуют продукты взаимодействия с оставшимися диазосоединениями с образованием красителя.В качестве негативно работающих материалов можно предложить материалы, дающие везикулярное изображение. Диазосоединения являются светочувствительной составной частью этих материалов.При экспонировании слоя...

Номер патента: 1303989

Опубликовано: 15.04.1987

Авторы: Макарычева, Смирнов, Чебунин

МПК: G03C 11/04

Метки: ретуширования, слоев, состав, фоторезистивных, фотошаблонов

...готовят следующим образом.В углеводородном растворителе (бензин марки БР) растворяют пара. фин, воск и бутилкаучук при их определенном соотношении. Используют892парафин ГОСТ 13577-71, воски - природный (пчелиный) и ископаемый (церезин) по ГОСТ 2488-74 марки 67, бутилкаучук по ТУ 38103-20-70 марки Аили по МРТУ 38-3 У 232-69 марки БК 1045.Полученную смесь тщательно перемешивают до получения однородной массы, Полученный ретуширующий составнаносят на экспонированную и проявленную заготовку фотошаблона. Послеретуширования, травления маскирующего слоя и снятия фоторезистивногослоя вместе с решутирующим слоем контролируют полученные фотошаблоны наколичество дефектов типа прокол.В качестве заготовок фотошаблоновиспользуют стекла с...

Номер патента: 1365036

Опубликовано: 07.01.1988

Авторы: Горячева, Дерновский, Кислов, Маликов

МПК: G03C 11/04, G03F 7/26

Метки: дефектов, устранения, фотошаблонов

...лазерного излучения на807, Затем сфокусировали лазерноеизлучение н дефектное место со стороны маскирующего слоя фотошаблонаи проводили осаждение до полученияоптически плотного слояМощностьлазерного излучения контролировалис помощью измерителя мощности ИМОН.Показателем качества ремонта прозрачных деФектов фотошаблоцов являетсяИОП дефектного места после технохимической обработки, которую определяли фотометрировацием на микроденситометре Ди которая равна 987Продолжительность процесса 15 мин,П р и м е р 2, Провели ремонтпрозрачных дефектов фотошдблона состороны маскирующего слоя по известному способу при параметрах процесса, описанных н примере 1. Интегральная оптическая плотность дефекти. го места после технохимическойобработки панна...

Номер патента: 1553948

Опубликовано: 30.03.1990

Авторы: Краева, Мельников, Смирнов, Шубина

МПК: G03C 11/04

Метки: ретуширования, состав, фотошаблонов

...спирт),приМеняемых для отмывки Фотошаблонов 0после нескольких актов контактной печати на Фоторезистивные слои заготовок изделия. После второй отмывкивсе Фотошаблоны, изготовленные с использованием состава по прототипу,приходили в негодность, годность жеФотошаблонов, изготовленных с использованием предложенного состава, всреднеи составляла 903, после пятойотмывки (последней) - в среднем 807 Формула изобретения 9,4-20,8 41,6-56,6 20,7-25,0 10,3-12,6 40 Состав для ретуширования фотошаб лонов, включающий краситель и растворитель, о т л и ч а ю щ и й с ятем, что, с целью повышения выходагодных фотошаблонов, в качестве красителя он содержит эриохром черный Т 30 или эриохром синий ЗЕ, или эриохроморанжевый, в качестве растворителя...

Номер патента: 1559324

Опубликовано: 23.04.1990

Авторы: Краева, Мельников, Смирнов

МПК: G03C 11/04

Метки: ретуширования, состав, фотошаблонов

...0,4 г эриохрома чернего Т,Получают состав, мас.ч., "эриохромчерный Т 20; диметилсульфоксид 80Далее, как в примере 1.П р и м е р 3. В 2,7 мл диметилсульфокснда (уд.в, 1,0946) раство1559324 Устойчивость ретуши к воздействию растворителей (спирт, водный раствор мыиа), применяемых для отмывки фотошаблонов, проверяли после пяти (1-я отмывка), десяти (2-я отмьвка), и двадцати пяти актов контактной печати (5-я отмывка),Срок службы фотошаблона 30 актов.10 Отмьвки проводят после каждых 5актов, Результаты проверки представлены в таблице. 1 Количество отмьвк и образцов,шт,первой второй пятой 10 100 80 10 70 10 100 10 80 70 10 100 80 10 10 70 010 Из представленных в таблице дан ных следует, что предлагаемый состав обеспечивает хорошее качество....