Патенты с меткой «микроизображений»

Номер патента: 446865

Опубликовано: 15.10.1974

Авторы: Козырев, Любимов

МПК: G03B 21/11

Метки: микроизображений, селектор

...подсвечивания 1 Ф, содержащим проекционную лампу й конденсор, и с , неподвижной частью 15 проектора с экраном 16 для просмотра кадров.Каретка 5 снабжена механизмом 17 выдвижения выбранной матрицы по оси М . Механизм 17 представляет собой, например, электропривод, ки пематйчески связанный с подвижной по оси Х рейкой 18, имеющей подеречную прорезь. Каждая из матрицимеет выступающую из магазина 1 часть, на нижней кромке которой имеется выступ, заходящий в поперечную прорезь. Каждая из матриц 2имеет выступающую из магазина 1часть, на Нижней кромке которойимеется выступ, заходящий в поперечную прорезь рейки 18 при ееустановке против данной матрицы,что обеспечивает сцепление матрицы с рейкой.На каретке 5 размещены датчик19 положения...

Номер патента: 528537

Опубликовано: 15.09.1976

Авторы: Баюков, Волков, Журавлев, Калинин

МПК: G03C 11/04, H01L 21/70

Метки: микроизображений, например, реставрации, фотошаблонов

...1 и 2, где 1 - фотошаблон с дефектами, 2, 3 - диазотипный материала, 4 - краска, 5 - зеркальная копия, 6 - пятно. Фотошаблон с нанесенным диазоматериалом устанавливают под микроскоп и наносят на дефекты 2 капельки невысыхающей крас ки 4, максирующей УФ излучение, после чего пластину экспонируют УФ светом. Временную краску убирают тампоном, Изображение проявляют в парах аммиака прп нормальных условиях, В результате над дефектом об разуется пятно 6, маскирующее дефект в УФсвете.Невысыха 10 щу 10 1 сраску можно использовать для маскирования при размере ретушируемых дефектов на темных полях размером 20 более 50 мкм, Реставрированное микроизображение является безрельефным, что важно для операции копирования пзооражений контактным аюсобом. 25...

Номер патента: 1075217

Опубликовано: 23.02.1984

Авторы: Кузнецов, Немчинов, Полетаев

МПК: G02B 21/06

Метки: качества, микроизображений, носителе, прозрачном

...магниты, взаимодействующие между собой через светорассеивающий экран.Ведущая и ведомая части синхронного магнитного механизма выполнены из кольцевых приемно-полюсных магнитов с аксиально-симметричным магнитным полем и числом чередующихся полюсов не менее двух, соосных соответственно с оптической осью микроскопа и осветителя, Осветитель содержит пружинное контактное устройство для автоматического включения источника света при взаимодействии ведущей и ведомой частей синхронного магнитного механизма.На чертеже изображено предложенное устройство, разрез.В корпусе 1 накладного микроскопа 2 на резьбовом соединении размещается ведущая часть синхронного магнитного механизма, состоящая из кольцевого перемен- но-полюсного магнита 3 и...

Номер патента: 1182475

Опубликовано: 30.09.1985

Авторы: Алферов, Талалаев, Улитин, Филин

МПК: G03B 27/32

Метки: информации, копирования, материал, микроизображений, носителя, светочувствительный, термопластического

...например отверстия одинаковых размеров. Радиус входного отверстия, длина светопроводящего канала и межцентровое расстояние соседних отверстий светопроводя-ЗО щих каналов зависят от размера минимального элемента копируемого изображения. Угол наклона светопроводящего канала минимальный, чтобы исключить влияние дифракции света на качество копий микрофильма.Свет, проходящий через термопластический носитель диффузно, рассеивается участками деформированной поверхности, образующими рельефную за- о пись. Для преобразования фазооптической информации в амплитудную форму необходимо отделить рассеянный свет от нерассеянного. Отделение рассеянного света от нерассеянного происходит на выходе светопроводящих каналов копировального элемента, в...

Номер патента: 1337872

Опубликовано: 15.09.1987

Авторы: Макарычев, Нюнько

МПК: G03B 27/04

Метки: копирования, микроизображений, фазовых

...существенно возрастает время экспонирования (5 мин), что недопустимо при использовании в качестве светочувствительного материала везикулярных пленок из-эа существенного снижения оптической плотности изображеа ния. С увеличением 1 до 0 5 - контУ раст и оптическая плотность копируемых линий снижает четкость изображеания. Если 10,5 - , как это имеет место для тонких фазовых штрихов (10 мкм), происходит их уширение и они воспроизводятся с очень малыми контрастом 0,2 Б) с размытыми и нерезкими краями,При копировании бугорковых фазовых микроизображений с форматных фототермопластических носителей (микрофиш) для получения качественных копий с искажением геометрических размеров,не влияющих существенно на читабельность текста, апертура...

Номер патента: 1363127

Опубликовано: 30.12.1987

Авторы: Громов, Макарычев, Нюнько

МПК: G03B 27/32

Метки: копирования, микроизображений

...волокон 4, не превышающей 0,2 рад.Устройство работает следующим образом.При копировании амплитудного оригинала (фотографической микрофиши) блок 2 из размещенных слой к слою копируемого оригинала и регистрирующей диазопленки помещается на внешнюю сторону а световолоконной планшайбыи прижимается к ней по всей площади. Световой поток 6 от осветителя в виде источников света из трубчатых ламп 3 проходит через планшайбу 1 и освещает блок 2, Поскольку свет проходит только через волокна 4 планшайбы 1, происходит растрирование оригинала в блоке 2 в соответствии со структурой используемой планшайбы 1, Растрированное изображение оригинала в блоке 2 экспонирует регистрирующий материал, который затем отделяют от оригинала и проявляютПри...

Номер патента: 1379765

Опубликовано: 07.03.1988

Авторы: Кекелия, Морозов

МПК: G03G 13/00

Метки: микроизображений, негативных, штриховых, электрофотографических

...зарядного изображения, Осевшие частицы изменяют поверхностную плотность заряда т 1 тоновых участков ЭФН, высота зарядного рельефа штриха уменьшается,Уменьшается тангенциальная составляющая поля, обедненная зона стягивается, приближаясь к границам зарядного изображения штриха и к поверхности ЭФН. Частицы тонера оседают и задерживаются ближе к границамзарядного изображения штриха,Изображение штриха на поверхностиЭФН сужается с одновременным повышением оптической плотности фоновыхучастков.Проявление продолжают до уменьшения электрического поля над штрихому поверхности ЭФН до нуля. Величинаэлектрического поля над штрихом однозначно связана с величиной обедненной зоны, так что при уменьшении поля до нуля граница обедненной зоныдостигает...

Номер патента: 1379770

Опубликовано: 07.03.1988

Авторы: Аксенчиков, Макарычев, Недужий, Нюнько

МПК: G03G 16/00

Метки: копирования, микроизображений, фазовых

...и качествоИспытание усчто эффективно копии.тройства доказывает,маадле ртурппе рс Гение ОтНОСИтея К МИКрафИЛЬкц 1 кш, в част:асти к копирова- :и 1 ксцопрджецц, записанных на 11, к;Осителях., обретения - повышение кдгс пц, калцрсвлпя:тутем повьппениякц, трдгтл 1 рлзрепдюпе 1 способностицз,цзццИцага цзабрлжРния.цзабрлжецл схема устрой -л ц Р пц"Р. Идя ГиГ тема 1 арьИру 1 1 РСЬ 11 ГВРТСВО 1 ПОТОК СРт р; ы ,1 л :д Иг,2 - га жР, кк,.ц - 0 т;1 ческ;1 Я 1 пдйбд н,папцРдГ 0 ТН,0.РРЖИТ ОСВЕТЦТРЛЕ)НУ 10пс "., 1 .;.я Ф р:црсв ця цлпрдвле,,,Р : ,; с , ,а Г сл 1 , л. 5 О Р ЕЫГ Г 0 ;н .м пс 1 материала капни,. .:Р .ец . са свс.Опраная.:,5 ц, .ару лля р;1 з.гпсния цк раиз б рджецц 5г; ц:гн р:бтле г следуюши аб -ю ,Ц Г1 Ц Ц 1 ОК СГВ РЦТЕСЫ 1 СЦС -1...

Номер патента: 1413583

Опубликовано: 30.07.1988

Авторы: Макарычев, Нюнько, Рапопорт

МПК: G03B 27/04

Метки: копирования, микроизображений, фазовых

...растра. Если копируют нерастрированное фазовое изображение, то для устранения искажений полностью подавляют модуляцию света фазовыми элементами, направленными ортогонально к выделяемым. Это достигается тем, что расхождение световых лучей в плоскости, ортогональной поперечной плоскости трубчатого источника 5, ограничивают снизу, т.е. в неизотропном световом потоке в плоскости, совпадающей по направлению с направлением выделяемых при копировании элементов фазовой записи, не допускают снижения угдового расхождения лучей ниже 45 ф. При таком расхождении лучей фазовая запись практйчески не создает ощутимой модуляции интенсивности, поскольку контраст линий, не совпадающих с выбранным направлением, снижается относительно фона до уровня...

Номер патента: 1472867

Опубликовано: 15.04.1989

Автор: Макарычев

МПК: G03G 16/00

Метки: копирования, микроизображений, растрированных, фазовых

...превосходит фотографическую широту фоточувствительного мате риала. Соответствующие рассеивающим элементам фазового растра участки ко 1пии практически и не экспонируются, а участки, где свет сфокусирован, из-за нелинейности характеристической кривой имеют тот же Фотографический эффект, что и на фоне. В среднем растрированный элемент практически не экспонируется, так как по площади проэкспонированные участки значительно меньше, чем неэкспонированные.Менее глубокий фазовый растр, характерный для участков с меньшейоптической плотностью полутонового изображения, имеет большее фокусное расстояние, поэтому соответствующие элементы растрированного микроизображения тем хуже сфокусированы, чем мельче фазовый растр. Увеличение ввизуалированном...

Номер патента: 1834530

Опубликовано: 20.05.1995

Авторы: Артемова, Кононов, Мещеряков, Огурцов, Поликарпов, Смоляницкий, Шульгин, Яковлев

МПК: G03F 7/20

Метки: микроизображений, формирования

...в масштабе "0:1). Максимально допустимым током луча, при котором обеспечивается возможность фор- " мирования изображений размером 0,2 мкм, является 0,25 мкА, При формировании изобракений в масштабе 10:1 требования к точности не будут удовлетворены, если ток превысит значение 10 мкА. Отсюда устанавливается требование ограничения площади сечения электронного луча в плоскости фокусировки таким образом, чтобы при выбранной на основании соотношения (1) плотности тока, общий ток луча не превышал значения иэ указанного выше диапазона.Известен способ экспонирования электронным лучом, согласно которому форми 1834530рование микроизображений обеспечивается облучением фигуры топопогического рисунка, прямоугольными штампами площадью, равной...