Симметричный проекционный объектив
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1254402
Автор: Бобров
Текст
(57) Из оческому опти- воляет етение относитиборостроению УДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР,увеличить полезное поле изображенияс одновременным улучшением хроматической коррекции. Между рефракционными менисками 2 и 7 и дифракционнойлинзой 4 с апертурной диафрагмой 5установлены плосковыпуклые рефракционные линзы 3 и 6, Компенсация хроматических аберраций в объективе осуществляется за счет противоположныхзнаков дисперсии рефракционных 3,6и дифракционной 4 линз и не связанас подбором стекол. Выполнение апертурной диафрагмы 5 на стеклянной подложке, идентичной подложке дифракционной линзы 4, обеспечивает симметрию объектива. Допустимая ширинаспектра освещения составляет 10 нмв осевой точке н 5 нм на краю рабочего поля. Поле высококачественногоизображения объектива около 80 ммв диаметре. 1 ил.+га т Изобретение относится к оптическому приборостроению и может найти применение в проекционной Фотолитографии и системах оптической обработки информации. 5Целью изобретения является увеличение полезного поля изображения с одновременным улучшением хроматической коррекции.На чертеже показан ход лучей в 10 предложенном объективе.Плоскость объекта 1 отображается в масштабе 1: 1 симметричным объективом, состоящим из рефракционного мениска 2, плосковыпуклой рефракцион ной линзы Э, дифракционной линзы 4, апертурной диафрагмы 5, плосковыпуклой рефракционной линзы 6 и рефрак"ционного мениска 7, в плоскость Ф изображения 8, 20Пучок световых лучей, исходящих иэ точки объекта 1, несколько расширяется мениском 2 и собирается в почти параллельный пучок плосковыпуклой рефракцион ной линзой 3, Дифракционная линза 4 превращает падающий на нее расходя- щийся пучок в симметричный относительно ее плоскости сходящийся, который ограничивается апертурной диафрагмой 5 и фокусируется плосковыпуклой линзой 6 и мениском 7 в плоскости изображения 8.Для обеспечения симметрии объектива апертурная диафрагма 5 выполняется на стеклянной подложке, идентичной35 подложке дифракционной линзы.Предложенный объектив, имеющий те же разрешение и габарит, что и прототип: разрешение Э мкм на длине волны 441,6 нм (апертура 0,09), габарит40 810 мм, имеет поле высококачественного изображения (волновая аберрация не превышает Ъ /4) около 80 мм в диаметре, что в 4 раза больше, чем у прототипа. Допустимая ширина спектра освещения составляет 10 нм в осевой точке и уменьшается до 5 нм на краю рабо 50 чего поля (у = 40 мм), что на 3 порядка больше, чем у прототипа. Компенсация хроматических аберраций в предлагаемом объективе осуществляется эа счет противоположных знаков дисперсии рефракционных и дифракционной линз и не связана с подбором стекол (в приведенном примере все компоненты предлагаются изготовленными иэ одного стекла), поэтому предлагаемая схема может быть примененадля ультрафиолетовой области, гдеотсутствует достаточный выбор оптических материалов. формула изобретения Симметричный проекционный объектив, содержащий дифракционную линзу на плоскопараллельной подложке, апертурную диафрагму, расположенную вплотную к дифракционной линзе, и два рефракционных мениска, расположенных по обе стороны дифракционной линзы и обращенных к ней вогнутыми поверхнос" тями, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью увеличения полезного поля изображения с одновременным улучшением хроматической коррекции, в него введены две плосковыпуклые рефракционные линзы, расположенные между менисками и дифракционной линзой и обращенные плоскими поверхностями в последней, причем расстояние между плосковыпуклой и дифракционной линзами Йь, Фокусное расстояние дифракционной линзы Г выбирается иэ соотно;шенийгд = (О 6 - 0 9)фи г 4 + иАй = (08 - 10) - -(Уи где Й, - суммарная толщина плосковыпуклой рефракционной лин.зы н подложки дифракционной линзы;г - радиус сферической поверхности плосковыпуклой линзы;и - показатель преломленияплосковыпуклой линзы;М - в " - нормированная дисперсиядэматериала плосковыпуклойлинзы на средней длине волны 9 используемого спектрального интервала,при этом радиус выпуклой поверхностимениска г,. составляет (1,5 - 2,5) г,а радиус вогнутой поверхности мениска г выбирается в соответствии сусловием
СмотретьЗаявка
3842289, 08.01.1985
ОРГАНИЗАЦИЯ ПЯ Х-5263
БОБРОВ СЕРГЕЙ ТИМОФЕЕВИЧ
МПК / Метки
МПК: G02B 13/14, G02B 27/44
Метки: объектив, проекционный, симметричный
Опубликовано: 30.08.1986
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-1254402-simmetrichnyjj-proekcionnyjj-obektiv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Симметричный проекционный объектив</a>
Предыдущий патент: Светосильный телеобъектив
Следующий патент: Телецентрический объектив
Случайный патент: Устройство для разрыхления кип табака в потоке