Способ изготовления матрицы голографических линз

Номер патента: 1275354

Авторы: Клишина, Кравцов, Телешов, Шац

ZIP архив

Текст

(50 4 ЕНИЯ авц 773, 1970.3, 1973. ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССРПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ САНИЕ ИЭОБР ТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ(56) Патент франции У 202кл. С 03 В 35/00, опубликПатент франции 9 21775кл. С 11 С 13/ОО, опублик 54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАТРИЦЫОЛОГРАФИЧЕСКИХ ЛИНЗ(57) Изобретение относится к оптическому приборостроению и можетбыть использовано для передачи оптических сигналов и построения многократных изображений с высоким качесвом. Целью изобретения является повышение разрешающей способности изготавливаемой матрицы путем увеличения количества зон Френеля в лзах при неизменном шаге матрицы.плоскоцараллельной подложке форми руют систему из М неперекрывающихсяидентичных голографических дифракционных линз, представляющих собойсовокупности зон Френеля. Дифракционные линзы формируются с геометрическими размерами 2 йх 2 й и распо -лагаются с шагом с 1. Делят каждуюлинзу на одинаковые по размерам четыре строки и столбца и оставляютв ее составе зоны Френеля в областяпересечения первой строки и четвертго столбца, второй строки и второгостолбца, третьей строки и третьегостолбца, четвертой строки и первогостолбца. Матрица имеет следующие характеристики: фокусное расстояние11 мм, шаг растра 1,8 мм. Растр разрешает линии в 2 мкм по мире Р 5 изнабора оптической скамьи. 2 ил, 12 5354Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для передачи оптических сигналов и построения многократных изображений с высоким качеством,Цель изобретения - повышение разрешающей способности изготавливаемой матрицы путем увеличения количества зон Френеля в линзах при неизменном шаге матрицы.На фиг, 1 показана схема формирования элементарной голографической дифракционной линзы; на фиг. 2 схема формирования матрицы таких линз,Способ реализуется следующимобразом.На поверхности плоскопараллельной подложки формируют систему из Мнеперекрывающихся идентичных голографических дифракционных линз,расположенных с шагом Й и представляющих собой совокупности зон Френеля. При этом геометрические размерыформируемых дифракционных линз выполняют равными 2 й х 2 д, делят каждую из М линз на одинаковые пс размерам четыре строки и четыре столбца и оставляют в ее составе зоныФренеля, содержащиеся в областяхпересечения первой строки и четверто.го столбца, второй строки и второгостолбца, третьей строки и третьегостолбца, четвертой строки и первогостолбца,П р и м е р, Рисунок зонной пластинки Френеля программировался наЭВМ - "Электроника - 100 М" и вводился в устройство вырезки оригиналовв КПЛ. Затем выбирались прозрачные зоны Френеля и оригинал снималсяс уменьшением в 10 раз на редукционной камере ЗМ. В результатеэтой операции получался фотошабпонединичной зонной пластинки Френеля сразмерами 36 х 36 мм. На этот шаблоннакладывали маску, которая делилаего на 4 строки и 4 столбца, пропуская лишь четвертый столбец в первойстроке, второй - во второй строке,третий - в третьей строке, первыйв четвертой строке, а остальныемаскировала, и снимали копию наустановке контактной фотолитографииЭмв масштабе 1:1. После этогона стеклянную подложку со слоем фоторезиста экспонировался рисунок полученного фотошаблона в масштабе 1:10 5 15 2 О 25 ЗО и мультиплицировался с шагом 1,8 мм.При этом в слое фо"орезиста получался рисунок матрицы с шагом 1,8 мми размером зонной пластинки Френеля3,6 х 3,6 ммФокусное расстояние матрицы былоравно 11 ммЗа счет исключения ряда столбцовиз некоторых строк плотность заполнения оставалась равномерной, Полученный рисунок проявляли, дубили,а затем стеклянная подложка травилась на установке типа УРМ со специальным ионным источником. Фоторезист при этом служил защитной маской,а там, где его не было, стекло стравливалось на глубину до 0,5 мкм, Затем фоторезист смывался и получаласьматрица фазовых зснных пластин Френеля, обладающая следующими характеристиками; общее. поле 45 х 45 мм,шаг растра 1,8 ьщ, фокусное расстояние 11 м, размер единичной зоннойпластинки 3,6 х 3,6 мм.Растр разрешал линии в 2 мкм помире Ф 5 из набора оптической скамьи, что было достаточно близко ктеоретическому пределу (1,7 мкм) изначительно лучше, чем если бы растрвыполнялся известным способом (теоретически 3,4 мкм),Формула из о бр ет ения Способ изготовления матрицы голографических линз, включающий формирование на поверхности плоско-параллельной подложки системы из М перекрывающихся идентичных голографических дифракционных линз, расположенных с шагом Й, причем каждую из линз выполняют в виде совокупности зон Френеля, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью повышения разрешающей способности изготавливаемой матрицы лутем увеличения количества зонФренеля в линзах при неизменном шагематрицы, геометрические размеры формируемых дифракционных линз выполняют равными 2 д х 2 а делят каждую изМ линз на одинаковые по размерамчетыре строки и четыре столбца и оставляют в ее составе зоны Френеля,содержащиеся в областях пересеченияпервой строки и четвертого столбца,второй строки и второго столбца,третьей строки и третьего столбца,четвертой строки и первого столбца,1275354 Составитель В. Кравченкоедактор В. Данко Техред Н.Глущенко Коррект Лугова аж 50 ушская наб,Проектная, 4 Производственно-полиг ское предприятие, г. Ужгород Заказ 6556/36 Т Вниипи Гос по дела 113035, Москарственно изобретен Ж, Р Подписноео комитета СССРй и открытий

Смотреть

Заявка

3922592, 27.06.1985

ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ В-8657

КЛИШИНА ТАТЬЯНА ВАСИЛЬЕВНА, КРАВЦОВ ВЛАДИМИР БОРИСОВИЧ, ТЕЛЕШОВ БОРИС ВИКТОРОВИЧ, ШАЦ ЯКОВ БОРИСОВИЧ

МПК / Метки

МПК: G02B 27/44

Метки: голографических, линз, матрицы

Опубликовано: 07.12.1986

Код ссылки

<a href="https://patents.su/3-1275354-sposob-izgotovleniya-matricy-golograficheskikh-linz.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления матрицы голографических линз</a>

Похожие патенты