Патенты с меткой «плазмы»

Номер патента: 1533618

Опубликовано: 20.11.1997

Авторы: Базанов, Павловский

МПК: H05H 1/00

Метки: высокотемпературной, плазмы

Устройство для получения высокотемпературной плазмы, содержащее источник начального магнитного поля, источник электромагнитной энергии, осесимметричную плазменную камеру, состоящую из камеры ускорения плазмы, образованной подключенными к источнику электромагнитной энергии основными коаксиальными электродами, кольцевой зазор между которыми выполнен в форме сопла Лаваля, и камеры торможения плазмы, выполненной в виде кольцевого зазора между основными коаксиальными электродами, отличающееся тем, что, с целью повышения надежности работы устройства путем устранения гальванической связи между источниками электромагнитной энергии и начального магнитного поля, устройство содержит осесимметричный дополнительный электрод, соосный основным...

Номер патента: 1508548

Опубликовано: 10.01.1998

Авторы: Бычко, Валуев, Канцельсон, Мазур, Николайчик, Никольская, Новиков, Осповат, Платэ, Царенков, Чупов, Чупова

МПК: C08F 220/60, C08F 226/10

Метки: адсорбента, выделения, крови, плазмы, полимерного, профибринолизина

Способ получения полимерного адсорбента для выделения профибринолизина из плазмы крови путем радикальной сополимеризации в водном растворе 4,5 17,5 мас. акриламида, 0,5 7,5 мас. бифункционального мономера-сшивателя и 0,1 - 2,5 мас. (мет)акрилоильного производного L-лизина, отличающийся тем, что, с целью повышения емкости по профибринализину и проницаемости адсорбента для плазмы крови, сополимеризацию проводят в присутствии 2 5 мас. от смеси сомономеров поли-N-винилпирролидона с мол.м. 10000 20000.

Номер патента: 1766234

Опубликовано: 27.04.1998

Авторы: Носков, Орликов

МПК: H01J 27/22, H05H 1/24

Метки: генератор, металлосодержащей, плазмы

Генератор металлосодержащей плазмы, содержащий соосно расположенные катод в форме спирали, содержащий рабочий распыляемый металл и служащий источником магнитодвижущей силы, и анод, к которым подключены генератор тока и генератор напряжения, отличающийся тем, что, с целью упрощения конструкции при генерации аксиально направленных потоков плазмы за счет совмещения в одной камере импульсного испарения металла и ионизации его паров в индукционном импульсном разряде, катодная спираль выполнена в форме конуса и снабжена внешним коническим экраном из ферромагнитного материала, анод выполнен в виде многослойной электромагнитной катушки с выводами от внутреннего и внешнего слоев, расположенной над большим основанием конической катодной спирали, в...

Номер патента: 1828734

Опубликовано: 27.03.1999

Авторы: Давыдов, Мешков, Невмержицкий, Попов

МПК: H05H 1/00

Метки: взрывного, генератора, плазменного, плазмы, помощью

Способ получения плазмы с помощью взрывного плазменного генератора, включающий адиабатическое сжатие рабочего газа в камере взрывного плазменного генератора с помощью плоского лайнера до образования плазмы, отличающийся тем, что, с целью повышения плотности энергии плазмы, в качестве рабочего газа используют газ, способный к химическому взрывчатому превращению при воздействии на него ударной волной.

Номер патента: 1575920

Опубликовано: 20.07.1999

Авторы: Киселев, Лишин, Сорокина

МПК: H05H 1/00

Метки: магнитоактивной, параметров, плазмы

Способ измерения параметров магнитоактивной плазмы, включающий воздействие на плазму электромагнитной волны частота f, измерение напряженности электрического поля в плазме и определение плазменной частоты электронов fo, отличающийся тем, что, с целью расширения диапазона измерений за счет обеспечения измерения гирочастоты электронов fн в плазменных цилиндрических объемах, поперечные размеры которых много меньше длины волны воздействующей электромагнитной волны, электромагнитную волну направляют таким образом, чтобы вектор ее электрического поля был перпендикулярен оси плазменного цилиндра, измеряют...

Номер патента: 1829878

Опубликовано: 20.07.1999

Автор: Балмашнов

МПК: H05H 1/46

Метки: источник, плазмы

Источник плазмы, содержащий цилиндрический резонатор, СВЧ-генератор, диэлектрическую разрядную трубу, размещенную соосно резонатору и соединенную с системой откачки и системой напуска рабочего газа, и магнитную систему в виде соленоидов, соосных с диэлектрической трубой и подключенных к источнику постоянного напряжения, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности ионизации рабочего газа, источник содержит дополнительную магнитную систему, состоящую по меньшей мере из четырех электромагнитов, установленных симметрично относительно продольной оси симметрии разрядной трубы, причем каждый электромагнит подключен к источнику переменного напряжения таким образом, чтобы разность фаз...

Номер патента: 1651760

Опубликовано: 20.07.1999

Авторы: Балмашнов, Голубев

МПК: H05H 1/00

Метки: генерации, плазмы

Способ генерации плазмы, включающий подачу газа в рабочую камеру, создание в рабочей камере магнитного поля с пробочной конфигурацией силовых линий, подачу СВЧ-энергии в резонатор, в полости которого находится рабочая камера, и зажигание разряда при частоте 1 СВЧ-поля, выбранной из условия электронно-циклотронного резонанса в плазме разряда, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности ионизации рабочего газа, на плазму разряда дополнительно воздействуют СВЧ-полем, частоту 2 которого выбирают из условия

Номер патента: 1322962

Опубликовано: 27.03.2000

Авторы: Андреев, Голованивский

МПК: H05H 1/00

Метки: нагрева, плазмы, релятивистских, температур

Способ нагрева плазмы до релятивистских температур, включающий создание и удержание первоначально холодной плазмы в статических магнитных полях открытых ловушек, последующий нагрев плазмы под воздействием электромагнитного СВЧ-поля в режиме электронного циклотронного резонанса, отличающийся тем, что, с целью увеличения КПД нагрева плазмы, нагрев плазмы осуществляют при одновременном воздействии электромагнитного СВЧ-поля и меняющегося во времени импульсного магнитного поля, дополнительно наложенного на статическое магнитное поле открытой ловушки, причем скорость нарастания дополнительного магнитного поля и амплитуда напряженности СВЧ-поля связаны соотношением

Номер патента: 1301118

Опубликовано: 27.08.2000

Авторы: Маречек, Поляков, Тищенко

МПК: G01N 22/00

Метки: параметров, плазмы

Способ определения параметров плазмы, включающий измерение интенсивности собственного радиоизлучения исследуемой стационарной плазмы на двух частотах i, по которым определяют концентрацию электронов и частоту их столкновения, отличающийся тем, что, с целью расширения функциональных возможностей путем определения параметров распадающейся плазмы и их температурной зависимости, значения частот i выбирают из условия i

Номер патента: 1053727

Опубликовано: 20.09.2000

Авторы: Колесников, Соловьев, Тищенко

МПК: H05H 1/00

Метки: однородной, параметров, плазмы, слабоионизованной

Способ определения параметров слабоионизированной однородной плазмы путем регистрации спектра собственного электромагнитного излучения плазмы и определения по полученному спектру параметров плазмы, отличающийся тем, что, с целью расширения пределов измерения и повышения точности определения параметров плазмы, в плазме образуют мелкомасштабные неоднородности путем ввода мелкодисперсных частиц, причем частицы вводят с температурой плавления, превышающей температуру ионов плазмы, и дозами, обеспечивающими концентрацию частиц, при которой мощность излучения частиц не превышает мощности собственного излучения плазмы.

Номер патента: 906337

Опубликовано: 27.01.2002

Авторы: Березин, Елисеев, Кубарев

МПК: H05H 1/00

Метки: внешним, магнитным, оптимизации, плазмы, полем, регулировочных, ускорителя, характеристик

Способ оптимизации регулировочных характеристик ускорителя плазмы с внешним магнитным полем путем определения равенства относительных градиентов напряженности магнитного поля, давления и концентрации электронов плазмы, отличающийся тем, что, с целью упрощения и сокращения времени оптимизации характеристик, на оси ускорителя с включенным магнитным полем и при подаче рабочего тела помещают термозонд с возможностью перемещения, создают между катодом ускорителя и зондом электрическое поле и определяют момент равенства оптимальных градиентов по моменту возникновения плазменного шнура между катодом и зондом.

Номер патента: 1441972

Опубликовано: 27.02.2004

Авторы: Беляков, Бендер, Литуновский, Миняев, Румянцев, Теплов, Шаховец

МПК: G21B 1/00

Метки: плазмы, равновесия, токамаке

Система автоматического регулирования равновесия плазмы в токамаке, содержащая датчик магнитного потока и два датчика производных магнитного потока по радиусу, первый сумматор, ко входам которого через соответствующие интеграторы подключены все датчики, второй сумматор, ко входам которого через соответствующие интеграторы подключены два датчика производных магнитного потока, аналоговый делитель, первый и второй входы которого подключены к выходам соответствующих сумматоров, аналоговый умножитель, первый вход которого связан с выходом аналогового делителя, а второй вход - с первым источником опорного напряжения, третий сумматор, входы которого связаны соответственно с выходами аналогового...

Номер патента: 1839903

Опубликовано: 20.05.2006

Авторы: Аверьянов, Балощин, Крылов, Любарский, Мартюхина, Недбай, Павлишин, Суденков, Филиппов, Шорохов

МПК: G01N 21/39, H01S 3/08

Метки: вблизи, зеркала, лазерного, металлического, образования, плазмы, порога

1. Устройство для измерения порога образования плазмы вблизи лазерного металлического зеркала, содержащее импульсный лазер, систему формирования излучения, измеритель мощности излучения и испытуемое зеркало, отличающееся тем, что, с целью сохранения работоспособности испытуемого зеркала без его разрушения с одновременным повышением точности определения величины порога образования плазмы за счет нелинейного закона измерения акустического сигнала вблизи порога ее образования, на задней стороне зеркала симметрично пятну излучения введен пьезодатчик, электрически связанный с анализирующим блоком.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что, с целью автоматизации измерений, в него введен цифропечатающий блок, входы которого соединены с...

Номер патента: 696982

Опубликовано: 20.10.2006

Авторы: Коршаковский, Красненьков, Кубарев, Мельников, Пушкин, Соловьев, Ткачев

МПК: H05H 1/00

Метки: источник, плазмы

Источник плазмы, содержащий катод и охватывающий его цилиндрический анод, отличающийся тем, что, с целью управления плазменной струей, он содержит узел перемещения, по крайней мере одного из электродов относительно оси симметрии источника.

Номер патента: 584704

Опубликовано: 20.10.2006

Авторы: Коршаковский, Красненьков, Кубарев, Соловьев, Ткачев

МПК: H05H 1/00

Метки: источник, плазмы

Источник плазмы, содержащий соосно установленные электроды и магнитную систему, отличающийся тем, что, с целью упрощения управления отклонением струи плазмы, он снабжен узлом перемещения магнитной системы относительно оси симметрии источника.

Номер патента: 1679947

Опубликовано: 10.05.2007

Авторы: Авраменко, Бахтин, Николаева, Поскачеева, Широков

МПК: H05H 1/00

Метки: плазмы, энергоемкой

Способ получения энергоемкой плазмы, включающий зажигание импульсного электрического разряда между электродами в полузамкнутом канале с испаряющимися диэлектрическими стенками, отличающийся тем, что, с целью повышения удельного энергосодержания генерируемой неидеальной низкотемпературной плазмы, разряд зажигают в канале с полированными стенками при отношении длины канала к его диаметру, равном 3-5, с помощью электрода, расположенного у открытого конца канала, удаленного на 2-3 диаметра канала от его оси и не более чем на 2 диаметра от выходного сечения канала, при напряженности электрического поля на разрядном промежутке, равной 0,5-0,8 кВ/см, максимальной плотности тока в поперечном...

Номер патента: 1704491

Опубликовано: 10.05.2012

Авторы: Бельчин, Вершина, Изотова, Мрочек, Пителько

МПК: C23C 14/32

Метки: вакууме, генератор, длинномерные, изделия, нанесения, плазмы, покрытий, преимущественно, электродуговой

Электродуговой генератор плазмы для нанесения покрытий в вакууме преимущественно на длинномерные изделия, содержащий коаксиально расположенные катод, анод и электромагнитную систему, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет равномерности толщины покрытий, упрощения конструкции при сохранении высокой производительности, катод выполнен в виде цилиндрической спирали с шагом l=(1,5-2,5)d, где d - диаметр трубки (прутка) спирали.