Патенты с меткой «плазменный»
Коаксиальный плазменный ускоритель
Номер патента: 1101164
Опубликовано: 07.09.1986
Авторы: Сиднев, Скворцов, Умрихин
МПК: H05H 1/54
Метки: коаксиальный, плазменный, ускоритель
...эрозии, что затрудняет применение такого, устройства втермоядерных системах.Целью изобретения является повышение коэффициента использованиярабочего вещества, а также повышениенадежности ускорителя за счет снижения тепловых нагрузок на внешнийэлектрод.Поставленная цель достигается тем,что в известном коаксиальном плазменном ускорителе, содержащем источник энергии, систему напуска газа,два коаксиальных профилированныхэлектрода, помещенных в вакуумнуюкамеру, 1 азделенных изолятором, образующая поверхности каждого изэлектродов имеет вид вогнутой кривойпо отношению к продольной оси элект родов, причем радиус кривизны образующей в .каждой точке определяется из соотношения К = ш 9 /Р, , где а -масса ускоряемой плазмы; 1 - ско= Г созо 6 30...
Плазменный источник электронов
Номер патента: 1140641
Опубликовано: 30.11.1986
МПК: H01J 37/077
Метки: источник, плазменный, электронов
...и стабилизация тока пучка за счет увеличения давления остаточного газа в районе катода и амплитуды скачка плотности плазмы в области формированияплазменных, электродов,Поставленная цель достигается тем,что в плазменном источникеэлектронов, состоящем из керамической разрядной трубки, расположенно 9 внутри 406412индукционной секции, игольчатого ка-.тода, анода и анодной магнитной линзы, разрядная трубка выполнена из двух сообщающихся между собой цилиндрических полостей, диаметры ЙЙи длины 1, 1 которых удовлетворяют условиям8- 16 60- 80ЙД 9,1У1а 1 равняется среднему диаметруанодной линзы.Схема плазменного источника элек-:тронов изображена на чертеже.Источник состоит из разряднойтрубки 1 из диэлектрика, размещенной в индукционной...
Многоэлектродный плазменный ускоритель
Номер патента: 1282366
Опубликовано: 07.01.1987
Авторы: Кольченко, Мельников, Скворцов, Умрихин
МПК: H05H 1/54
Метки: многоэлектродный, плазменный, ускоритель
...предлагаемый ускоритель для случая, когдачисло дополнительных электродов равно 1.Источник 1 энергии через коммутирующее устройство 2 подключен кдополнительному электроду 3, размещенному между заземленными электродами 4 и 5, коаксиально им. Металлические электроды 3 - 5 разделены изоляторами 6 и помещены н вакуумную камеру 7. Дополнительныйэлектрод 3 выполняется в проницаемом для газа, например прутковомварианте, для подачи газа в ускорительный канал, образованный внешними дополнительным электродами, отсистемы 8 напуска газа, расположенной на внутреннем электроде 5,30Устройство работает следующим образом.С помощью системы 8 напуска газав межэлектродные зазоры ускорителя,помещенного в вакуумную камеру 7, 35напускается рабочий...
Плазменный резак
Номер патента: 1328123
Опубликовано: 07.08.1987
МПК: B23K 31/10, B23K 9/16
Метки: плазменный, резак
...13, из которых он поступает в полость 11. Из этой йолости часть воздуха, обеспечивающая в последующем формирование сжатой дуги, через завихритель 4 по- ступает в полость .10, Остальная часть воздуха, обеспечивающая в последующем охлаждение сопла 7, из полости 11 выходит наружу по зазору между обращенными одна к другой поверхностями корпуса 1 и сопла 7. Сжатый воздух, поступивший в полости 10 и 11, отжимает сопло 7 от электрода 3, пере. мещая сопло 7 в продольном направлении. При этом винты 8 движутся по прорезям б, длина которых определяет величину хода сопла 7, равную величине заданного зазора 12 между электродом 3 и соплом 7. Таким образом, при подаче в резак сжатого воздуха между соплом 7 и электродом 3 имеется...
Вакуумный эрозионный плазменный ускоритель
Номер патента: 1358114
Опубликовано: 07.12.1987
Авторы: Архипов, Васильев, Завойкин, Исаков, Киселев, Лутц
МПК: H05H 1/24
Метки: вакуумный, плазменный, ускоритель, эрозионный
...экран 4, электрически 20развязанный с катодом изолятором 5,Экран 4 через изоляцию 6 соединен с.анодом 2, На аноде через изоляцию 7установлен пусковой электрод 8, который может быть выполнен в виде кольца 25или им может служить корпус (не показан) вакуумной камеры, который также монтируют через изоляцию 7 на аноде 2.Электрод 8 через источник 9 постоянного тока соединен с катодом 1,В изолятор 5 встроен патрубок 10 дляподвода газа в полость между катодом1 и экраном 4. Электрод 8 подключенк заземлению 11.ЗБУстройство работает следующим образом. ния, после чего источник питания пускового электрода отключается, Повышение надежности запуска обусловленотем, что напряжение между пусковымэлектродом ускорителя и его...
Плазменный диод
Номер патента: 1362343
Опубликовано: 30.06.1988
Метки: диод, плазменный
...некоторое давлениеостаточного газа в вакуумной камере 1. Затем осаждается инициатор 4катодной плазмы на металлическуюподложку катодной ножки 3 путем ееохлаждения жидким азотом посредствомего заливки в криогент, При этом взависимости от давления остаточногогаза и температуры подложки подбирают условия для создания слоя твердо"го газа. Так, при Р - 510 Торр итемпературе жидкого азота на поверхности подложки катодной ножки 3 будет наращиваться твердый слой молекул воды при цалуске паров воды.Согласно диаграмме тройной точки длякаждого газа можно найти температуруС С, при которой давление насыщенного пара меньше некоторого рабочегодавления в вакуумной кФмере 1.Это означает, что при данной температуре напускаемый газ будет...
Плазменный лазер
Номер патента: 1432642
Опубликовано: 23.10.1988
Авторы: Полонский, Пятницкий, Увалиев
МПК: H01S 3/22
Метки: лазер, плазменный
...й = 3аиз стекла с 0, = 15 и 0 радиус г отверстий в г=(1+1)г 8 агся 1 п(п я 1) - с5 ) - 15 0,4 см логичным аксикону 2. Затем они фокусируются сферической линзой 9 на перегородку б, расположенную в фокальной плоскости этой линзы. Сходящиеся лучи 12 благодаря отьерстиям в линзах 8 и 9 беспрепятственно фокусируются вдоль фокального отрезка аксикона 2. Лучи, сфокусированные линзой 9 до момента образования лазерной искры, прожигают отверстие в перегородке 6. Диаметр отверстия порядка диаметра каустики сферической линзы 9, После возникновения лазерной искры 10, состоящей из многозарядной неравновесной плазмы, в ней происходит усиление спонтанного излучения, распространяющегося вдоль оси. Усиленное излучение 13 выходит через отверстие в...
Плазменный сорбционный вакуумный насос
Номер патента: 758812
Опубликовано: 30.01.1989
Авторы: Саксаганский, Сорокин, Турченко
МПК: F04B 37/02, H01J 7/18
Метки: вакуумный, насос, плазменный, сорбционный
Коаксиальный стационарный плазменный ускоритель
Номер патента: 1356948
Опубликовано: 30.03.1990
Автор: Морозов
МПК: H05H 1/54
Метки: коаксиальный, плазменный, стационарный, ускоритель
...питания 9 ускорителя, систему 10 иони. зации и предварительного ускорениярабочего вещества, дрейфовый канал 11 25катодную магнитную сепаратриснуюповерхность 12, ребра катодной магнитной сепаратрисной поверхности 13,о иусы 14 катодной магнитной сепаратрисной поверхности, магнитную систе- ЗОму катодного блока 15 замыкающийэлектрод катодного блока (эмиттерэлектронов или приемник ионов) 16,канал отвода обесточенной плазмы 17,Устройство работает следующим образом; включают магнитные системы 7анодного и 15 катодного блоков, атакже систему ионизации и предускорения 10. Кроме того, включают дополнительный источник анодной плазмы 5, 40катодиый эмиттер электронов 16, атакж включают источник питания ускорителя 9.В результате формируются внутренние...
Плазменный источник заряженных частиц
Номер патента: 1633467
Опубликовано: 07.03.1991
Автор: Лобанов
МПК: H01J 1/30
Метки: заряженных, источник, плазменный, частиц
...мощность пс -ступающу)о в разряд. Нд черте;кс )цкд)ацо предложен)ц)сустройство,Устройс гво содержит полый катод 1 и электрод 2 ,анод). )ектрод механически связан с кдтодом с помощью11 з ол 51 т о р 1 3 . 11 а к д то)с р ) с и олож ц пдтрубок 4 для ндпу кд рабочего газд. Вытягцвдющиц электрод 5 рдсположец вблизи эсктродд 2 вблдсти выскговаккума, Вытя)иванпий электрод 5эа)емлсц. Олектрод 2 1)аходится подпотенциалом, соответствующим требуемой энергии цучкд. Полый катод 1 находится под отрицдтслшым по отношению к эекгроду 2 цотсцццдпом. 1 дружный и вцутрс цшц) дцдмс гр полого л 1- тодд со тдвлцг соотвстст)еш)оООи 14 мм. То)1 щица к;одной полостисоставляет 5 мм.Устройство рабо гает следующим образом.Рабочии гдз чере )дгрубок 4 пос тупает в...
Электродуговой плазменный диспергатор
Номер патента: 1650369
Опубликовано: 23.05.1991
Автор: Денисов
МПК: B22F 9/14
Метки: диспергатор, плазменный, электродуговой
...10, имеющей навивку вокруг стержня 1, с "плюсом" генератора 11 дуги постоянною тока, Электроды 1, 8 и 9 заключены в разрядную камеру 12 с атмосферой инертного газа.Диспергатор работает следующим образом,Стержень 1 помещают в камеру 12 и герметизируют ее. Воздух из камеры удаляют форвакуумным насосом (не показан) и заполняют ее инертным газом. Конденсаторы 5 заряжают до рабочего напряжения пробоя разрядника 6. Разрядный промежуток разрядника 6 существенно меньше основного разрядного промежутка между электродом 8 и электродом-стержнем 1, Включают генератор 11 дуги и инициируют поджиг дуги между кольцевым электродом 9 и стержнем 1. Дуга постоянного тока, перемещаясь под действием магнитного поля навивки 10 в кольцевом зазоре между...
Плазменный запальник
Номер патента: 1651041
Опубликовано: 23.05.1991
Авторы: Десятков, Мусин, Окопник, Сайченко, Энгельшт
МПК: F23Q 5/00
Метки: запальник, плазменный
...электроды 2 выполнены изогнутыми и установлены в канале 1 подачи топпивовоздушной смеси так, что участки электродов 2, расходящиеся под углом, по ходу потока топливовоздушной смеси переходят в параллельные.Запальник работает следующим образом.После поступления в канал 1 топливовоздушной смеси при подаче напряжения от источника 3 на электроды 2 между ними возникает электрическая дуга, которая выдувается потоком топливовоздушной смеси в промежуток, образованный параллельными участками электродов 2, После выдувания на тор цы электродов 2 дуга вытягивается,напряжение; на ней растет, при этомвремя горения дуги между параллель 5ными участками электродов 2 и на торцах электродов 2 составляет 907. всеговремени существования дуги. Поскольку...
Плазменный свч прибор
Номер патента: 1426334
Опубликовано: 07.12.1991
МПК: H01J 25/00
Метки: плазменный, прибор, свч
...в пространстве вза 15 маде 55 ствия,так и в приборах беэ магнитного поляв прострацстве взаимодействия.СВЧ-прибор садеожит установленные соосна электронную 1 и плазменную 2 пупп(15 (см. фиг.Р), ВОлновоД 3пространства взаимодействия окно 4вывода энергии и коллектор 5. Волновод 3 установлен в однородном полесолецоцда б, а окно 4 " в адиабатически спадающем поле, Окна Ф можетбыть выполнено иэ любой 1 прозрачнойдля излучения керамики, однако во избежание переизлучеция в паразитныемоды целе"оабразно выполнить его ввиде Отрезка металлическойтрубы срасширяющ 5 в(ися вдоль оси щелями, эапалнецными ксрамикай, Угол раскрь 1"ва щелей выбирается из соотношения360" кРР 1где О - число щелей;1. - длина окна;з - координата вдоль окна,5 Лс. 55Для...
Стационарный плазменный двигатель
Номер патента: 1796777
Опубликовано: 23.02.1993
Авторы: Гопанчук, Лысиков, Сорокин
Метки: двигатель, плазменный, стационарный
...прототипа, Одной из потенциалом катода-компенсатораираэмеспецифических особенностей двигателей 20 щенным внутри разрядной камеры в зоне,такого типа является анизотропность алек- где выпуклость магнитных силовых линийтрических свойств материальной среды в . достаточно слаба или полностью отсутствузоне межполюсиого зазора, а именно - : ет. Дополнительный электрод может бытьвысокая электронная проводимость вдоль выполнен в виде кольца или одного или нефланец, а также центральный и несколько периферийных стержней, соединяющих полюса с задним фланцем, Источник магнитодвижущей силы катушек состоит из центральной катушки 2 и нескольких периферийных 6, установленных, соответственно, на центральном и периферййных стержнях магнитопровода,...
Импульсный плазменный ускоритель
Номер патента: 1798937
Опубликовано: 28.02.1993
Авторы: Плюта, Сиваков, Сивакова
МПК: H05H 5/00
Метки: импульсный, плазменный, ускоритель
...катоды тиристоров 7,17, М/2 соединены между собой и споджигающим электродом 8.,Первые выводы Й-накопительных конденсаторов2,1,2,Й через импульсный трансформатор9 соединены с входом магнитной катушки 5510, выход которой соединен с металлическим цилиндром 11, а вторые выводы Й-накопительных конденсаторов 2.12,Исоединены с соответствующими Й-электродами 12.1. 12. гч,Первый конец вторичной обмотки импульсного трансформатора 9 через ограни-чительное сопротивление 13 соединен и сземлей, а второй конец - с рабочим столом14, установленным в вакуумной камере 15,Поджигающий электрод 8 выполнен в видевтулки, Металлические планки 16 через керамические вставки 17 связывают соответствующую йару электродов 12.112.И.Соединение электродов попарно...
Плазменный реактор
Номер патента: 1813561
Опубликовано: 07.05.1993
МПК: B01J 19/08
Метки: плазменный, реактор
...из выходных электродов 14 и 15. Из отверстий 12 и 13 конусообразных секций 8 и 9 поступает сырье в виде порошка или штапиковых (стержневых) материалов, нагревается и выводится через выходные отверстия 4 и 5 вкольцевых секциях 1 и 2, Кольцевая секция 3, диаметр которой меньше секций 1 и 2 препятствует проникновению обработанного материала его полости секции 2 в секцию 1 и наоборот, Таким образом, одновременно можно обрабатывать два вида сырья, причем в одной секции может обрабатываться порошкообразное сырье, а в другом в виде штапика (стержня), В зависимости от того, в каком процессе используют получаемый материал - напылении, нзплавке или получении минеральных волокон, степень нагрева исходного сырья, а значит и его качество, можно...
Управляемый плазменный разрядник
Номер патента: 1818650
Опубликовано: 30.05.1993
Автор: Капишников
МПК: H01T 2/02
Метки: плазменный, разрядник, управляемый
...основное напряжение Оз амплитудой 6 - 15 кВ напряжение Оз отрицательной полярности). На поджигающий промежуток, образованный плоскопараллельными пластинчатыми электродами 3, 4 с размещенными на них дополнительными электродами 5 от блока поджига 6 пода.ется поджигающее напряжение Оп полярность Оп положительная), что приводит к пробою промежутка между дополнительными электродами 5. Ток поджигающей искры увеличивается во времени и вместе с ним растет собственное магнитное поле которое "выталкивает" дугу на плоскопараллельные электроды и она перемещается в сторону основного разрядного промежутка между электродами 1 и 2, Скорость "выдувания" поджигающей дуги в промежуток между основными электродами 1 и 2 дополнительно повышается эа...
Плазменный генератор для обработки поверхностей из диэлектрических материалов
Номер патента: 1498371
Опубликовано: 07.07.1993
Авторы: Волокитин, Трофимов, Чибирков, Шишковский
МПК: H05B 7/22
Метки: генератор, диэлектрических, плазменный, поверхностей
...3. Через дугу протекает постоянный ток величиной 200-400 А. Магнитное поле тока, протекающего по электролам, 3 1498371 взаимодействуя с током дуги, вызывает ее перемещение по электродам, Направление перемещения дуги задается местом подключения токоподводов к элек" тродам анода, Для устойчивой работы плазменного генератора токоподводы осуществлены в точках А и С. При до" стижении дугой концов электродов, на+ пример в точках,В и К, под действием 1 О магнитного поля дуга вытягивается, принимая форму подковы, тем самым иониэирует промежуток КА между элек" тродами. Вследствие уменьшенного меж, электродного расстояния КА возрастает 1 напряженность электрического поля в этом промежутке, что улучшает условия самовозбуждения дуги между...
Плазменный генератор для обработки материалов
Номер патента: 950165
Опубликовано: 07.07.1993
Авторы: Аньшаков, Волокитин, Дедюхин, Филиппов, Чибирков
МПК: H05H 1/00
Метки: генератор, плазменный
...изобретения является иние производительности обработктериалов,(54)(57) ПЛАЗИЕННЫИ Г РАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ по о т л и ч а ю щ и й с целью повышения произ обработки материалов, ком наполнителе выпол отверстия вдоль образ ческого цилиндра, рав ложенные по эллипсу. Цель достигается тем, что в плазменном генераторе для обработки материалов, содержащем коаксиально расположенные анод, катод, выполненные ввиде эллиптических цилиндров, разде"ляющий их диэлектрический наполнительи соленоид, в диэлектрическом наполнителе выполнены сквозные отверстиявдоль образующей эллиптического цилиндра, равномерно расположенные поэллипсу,На чертеже изображен плазменныйгенератор для обработки материалов,Генератор катод 1, анод 2, диэлектрический...
Плазменный генератор для обработки материалов
Номер патента: 749355
Опубликовано: 07.07.1993
Авторы: Венедиктов, Волокитин, Петров, Филиппов, Шиманович
МПК: H05H 1/00
Метки: генератор, плазменный
...а ю щ и й с я тем, что, с цельюобеспечения равномерности обработки,электроды выполнены в виде эллиптических цилиндров и разделень 1 междусобой диэлектрическим наполнителем,осуществляется с низкоительностью,Известен плазменныйдержащий. коаксиально ра. анод, катод и окружающиПри работе наблюдаютсягового разряда с рабочиэлектродов,Целью изобретения явчение равномерности обрЦель достигается темменном генераторе для обтериалов, содержащем коположенные катод, анодих соленоид, электродывиде эллиптических цилиУЙ 9355 дакто Нефедо 1 оргентал Корректор Т,Вашков ех ж Подписноеитета по изобретениям и открытиям сква, И, Раушская наб., д. Ц/5 аказ 2830; ТираНИИПИ Государственного ком113035, Ио ГКНТ СССР Производственно-издательский комбинат "Патент",...
Плазменный испаритель
Номер патента: 1832131
Опубликовано: 07.08.1993
Авторы: Батов, Горбунов, Иванов, Новиков, Поскачеев, Саенко
МПК: C23C 14/26
Метки: испаритель, плазменный
...По мере увеличения моцсности дуги выключа)от нагреватель 6 и дальнейшую работу испарителя осуществллОт В сзморазогревном рРжим 8 зз счет подвода тепла ( СТЕНКЗМ КЗМ 8 РЫ с И СОПЛЗ 5 ОТ РсУГОВОГО разряда, С помощью мзг 1 ип)ого поля соле" ноида 8 регулируют заполнение положительным столбом дуги площади критического сечения сопла 5, По достикении рабочего режима испарителя г)одэют отрицательный потенцизса подложкодержатель 12 и подложку 13 от источника 11,открывают заслонку Ил 1 Вводят подложку в стру 10) и начинаот осажден)ле покрытия наподложке 13. ся минимальный промежуток исходного 1,:зтериала в твердом состоянии. При этом тигель-катод охлаждают или принудительно с помощью охлзждзОгцих жидкостей или газов, или за счет радиационного...
Способ получения смеси гептанола-1, гептаналя-1 и этиллаурата и плазменный реактор для его осуществления
Номер патента: 1834882
Опубликовано: 15.08.1993
МПК: B01J 19/12, C07C 45/50, C07C 47/02 ...
Метки: гептаналя-1, гептанола-1, плазменный, реактор, смеси, этиллаурата
...определения углеродной структуры полученных продуктов.Сопоставление результатов ИК спектрометрии и результатов, полученных посредством5 газовой хроматографии СР 6, позволяетпроследить за эволюцией различных продуктов разряда и объяснить роль, которуюиграют некоторые параметры,С целью оценки химических модификаций в результате разряда, проводился ИК 1834882спектрометрический анализ продуктов, полученных после реакции, а также контрольного образца, Продукт и контрольный образец показаны на одном и том же спектре, см., например, фигура 2.- Спектр КТГ (ИК-спектр фурье-преобразования) 1-гексена - контрольного образца имеет абсорбционные полосы 2920 - 2840 см, 1610 - 1650 см и 138 - 1410 см, которые характеризуют связи С-Н, С=С и...
Плазменный генератор для обработки цилиндрических поверхностей
Номер патента: 961536
Опубликовано: 15.02.1994
Авторы: Волокитин, Дандарон, Дедюхин, Чибирков
МПК: H05H 1/24
Метки: генератор, плазменный, поверхностей, цилиндрических
ПЛАЗМЕННЫЙ ГЕНЕРАТОР ДЛЯ ОБРАБОТКИ ЦИЛИНДРИЧЕСКИХ ПОВЕРХНОСТЕЙ, содержащий систему электродов в виде рельсотрона, отличающийся тем, что, с целью упрощения обработки цилиндрических поверхностей, электроды выполнены в виде колец одинакового диаметра с зазором между свободным и токоподводящим концом каждого электрода, меньшим диаметра пути, при этом зазоры электродов смещены по окружности относительно друг друга.
Плазменный дуговой генератор
Номер патента: 1519516
Опубликовано: 15.02.1994
Авторы: Волокитин, Истомин, Шишковский
Метки: генератор, дуговой, плазменный
ПЛАЗМЕННЫЙ ДУГОВОЙ ГЕНЕРАТОР, содержащий катод и анод, выполненный в виде двух электрически связанных водоохлаждаемых вращающихся электродов, расположенных друг от друга на расстоянии, не превышающем диаметра дугового шнура, отличающийся тем, что, с целью повышения устойчивости разряда за счет дополнительной стабилизации прианодной области разряда, анод дополнительно содержит третий электрод, при этом электроды выполнены в виде дисков, оси вращения которых расположены в плоскости, перпендикулярной дуговому шнуру, под углом 60o друг к другу с возможностью их вращения в противоположном от катода направлении в области дугового шнура.
Плазменный ускоритель с анодным слоем
Номер патента: 1715183
Опубликовано: 30.04.1994
Авторы: Гопанчук, Козубский, Римша, Сорокин
Метки: анодным, плазменный, слоем, ускоритель
ПЛАЗМЕННЫЙ УСКОРИТЕЛЬ С АНОДНЫМ СЛОЕМ, содержащий разрядную камеру, образованную соосно размещенными кольцевым полым анодом с газораспределителем и кольцевым полым катодом, катод-компенсатор, расположенный за срезом разрядной камеры, источник электропитания, подключенный к электродам, и магнитную систему, включающую магнитопровод с внутренним и внешним по отношению к разрядной камере кольцевыми магнитными полюсами, и источник магнитодвижущей силы, отличающийся тем, что, с целью увеличения ресурса и КПД ускорителя, а также снижения содержания продуктов эрозии материала катода в ускоренном потоке плазмы за счет улучшения его фокусировки, в полости анода вдоль направления ускорения плазмы установлены по меньшей мере два кольцевых элемента,...
Плазменный экспандер
Номер патента: 1676433
Опубликовано: 15.07.1994
МПК: H05H 1/00
Метки: плазменный, экспандер
1. ПЛАЗМЕННЫЙ ЭКСПАНДЕР, содержащий камеру, диафрагму, размещенную со стороны входа плазмы, и по крайней мере, два изолированных электрода в виде сеток, расположенных перпендикулярно оси симметрии камеры, отличающийся тем, что, с целью улучшения однородности и стабильности эмиссионной поверхности экспандера, каждый электрод соединен с корпусом камеры через сопротивления Ri, где i - порядковый номер электрода со стороны диафрагмы, при этом каждый электрод соединен с близлежащими электродами через последовательно подключенные сопротивления и емкости Ci, причем значения величин Ri ,
Плазменный резак
Номер патента: 1483779
Опубликовано: 30.12.1994
Авторы: Гусельников, Желтобрюх, Иванов, Котиков, Трояножко
МПК: B23K 31/10
Метки: плазменный, резак
ПЛАЗМЕННЫЙ РЕЗАК, содержащий катод и кольцевое сопло с выходным каналом, канал подачи плазмообразующего газа и канал подачи воды с выходными отверстиями, расположенными на поверхности выходного канала сопла, отличающийся тем, что, с целью повышения качества резки путем снижения насыщения кромок реза азотом, выходные отверстия каналов для подачи воды расположены между входным отверстием выходного канала сопла и критическим сечением сопла.
Плазменный источник проникающего излучения
Номер патента: 347006
Опубликовано: 09.02.1995
Авторы: Макеев, Филиппов, Филиппова
МПК: H05H 1/06
Метки: излучения, источник, плазменный, проникающего
1. ПЛАЗМЕННЫЙ ИСТОЧНИК ПРОНИКАЮЩЕГО ИЗЛУЧЕНИЯ, состоящий из газоразрядной камеры, заполненной изотопами водорода и содержащей газоразрядные электроды, и источника электрического питания, отличающийся тем, что, с целью повышения удельного выхода излучения, в частности, нейтронов, на единицу затраченной энергии и уменьшения габаритов камеры, электроды выполнены в виде коаксиальных расположенных один в другом электропроводных тел вращения с криволинейной образующей.2. Источник по п.1, отличающийся тем, что ввод внутреннего электрода имеет диаметр, меньший диаметра рабочей части внутреннего электрода.3. Источник по пп.1,2, отличающийся тем, что, с целью равномерного распределения тока в разрядной камере, во внешнем электроде...
Плазменный диод с магнитной изоляцией
Номер патента: 1237055
Опубликовано: 27.02.1995
Автор: Коренев
МПК: H05H 1/00
Метки: диод, изоляцией, магнитной, плазменный
ПЛАЗМЕННЫЙ ДИОД С МАГНИТНОЙ ИЗОЛЯЦИЕЙ, содержащий коаксиально расположенные анод, катод с магнитодиэлектрической прокладкой, разделенные высоковольтным изолятором, и соленоид, установленный коаксиально электродам, отличающийся тем, что, с целью увеличения тока пучка электронов, в него введены два кольцевых электрода, установленных с двух сторон на магнитодиэлектрической прокладке, при этом один из электродов выполнен из углеродноволокнистого материала и соединен с торцом катода, а толщина h и диэлектрическая проницаемость магнитодиэлектрической прокладки связаны с радиусом катода R0 и радиусом анода Rr соотношением
Плазменный источник электронов
Номер патента: 728573
Опубликовано: 10.04.1995
Авторы: Лозовой, Никитинский
МПК: H01J 3/02
Метки: источник, плазменный, электронов
1. ПЛАЗМЕННЫЙ ИСТОЧНИК ЭЛЕКТРОНОВ на основе дугового контрагированного разряда с катодным пятном, перемещаемым магнитным полем по рабочей поверхности катода, содержащий анод, промежуточный электрод с контрагирующим отверстием, катод и экстрактор, отличающийся тем, что, с целью повышения энергетической экономичности источника путем снижения уровня низкочастотных колебаний в разряде, катод выполнен в виде стакана, закрытого диафрагмой с отверстием не менее, чем на порядок превышающим диаметр контрагирующего отверстия в промежуточном электроде, причем ширина кольцевой щели, образованной стаканом и диафрагмой, равна глубине стакана.2. Источник электронов по п.1, отличающийся тем, что стакан выполнен из материала с работой выхода ниже...