Патенты с меткой «галия»

Номер патента: 715475

Опубликовано: 15.02.1980

Авторы: Ещенко, Печковский, Становая

МПК: C01G 15/00

Метки: безводного, галия, фосфата

...при 100-150 ОС, фильтрацией,отмывкой и сушкой продукта.Способ заключается в следующем.Нитрат галлия растворяют в фосфорной кислоте при мольном соотноше(61) Дополнительное к авт. свид-ву-Редактор С. Патрушева Техред М.Кузьма КорректорН, Задерновская Заказ 9610/3 Тираж 565ЦНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб;, д. 4/5 Подписное Филиал ППП Патент , г. Ужгород, ул. Проектная,:,л;": 4 ф ношения приводит к резкому снижению выхода продукта вследствие увеличения растворимости безводного фосфата галлия за счет появления избыточного количества ионов водорода в растворе.Полученный раствор выдерживаютопри 100-150 С. Понижение температуры уменьшает скорость процесса, при...

Номер патента: 990668

Опубликовано: 23.01.1983

Авторы: Антонов, Штенке, Шульгин

МПК: C01F 17/00

Метки: галия, иттрия, редкоземельных, соединениях, элементов

...соотношение компонентов кристаллофосфора, мас. 3; окись 20 галлия 50-66; окись иттрия 34-501 окись тербия 0,00001-0,02 у окись празеодима 0,00001-0,02 у окись европия 0,00001-0,02. Изменениепроцентного содержания основных компонентов оксида галлия и оксида иттрия от оптимальных приводит к ухудшению преде" лов обнаружения РЗЭ в 2-10 раз. Иэ данных табл. 1 следует, что при содержании РЗЭ выев указанных пределов наблюдается концентрационное гашение и нарушается линейная зависимость между интенсивностью люминесценции и концентрацией РЗЭ, при содержании РЗЭ менее указанных пределов интенсивность люминесценции снижается, что нв позволяет устойчиво зарегистрировать ее на используемом оборудовании.При тВмпвратурах прокаливания ниже 1350 С...

Номер патента: 1135382

Опубликовано: 15.10.1986

Авторы: Лазарев, Луфт, Хусид, Яссен

МПК: H01L 21/306

Метки: антимонида, галия, монокристаллов, основе, полирования, прецизионного, растворов, твердых, травитель, химического

...и 457-ного ра 40створа плавиковой кислоты НР при соотношениях компонентов, указанных впримерах 1-5. Используются реактивы .марок ОСЧ или ХЧ (молочная кислота)и деионизованная вода марки АТравление поверхности монокристал 45лов СаЯЬ.Образец, например монокристаллическую пластину СаЯЬ ориентации100) или 111 В толщиной 400 -600 мкм, предварительно подвергнутую химико-механическому полированию (ХМП), очищают от поверхностныхзагрязнений, помещают во фторопластовую кассету и подвергают химико-динамическому полированию вначале в55 известном составе травителя (1) или(2) с большой скоростью травления35382 43 мин; обработка в концентрированной НГ - 5 мин, промывка в воде2-3 мин, сушка в центрифуге - 2 мин.Такая последовательная обработкапри...