Способ контроля точности совмещения при микролитографии

СОЮЗ СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИХРЕСПУБЛИН БО,А вН О 1 1.2166 ТЕН К В гически бных ли ерение ича ю пов ы в дом лиавиродс,зр ьная толщиленки;ество литоссов,- нач нойде афических коли процо ОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССРПО делАм изОБРетений и ОтнРытий ОПИСАНИЕ ИЗО КОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВ(56) 1. Владимиров В.И Лисовский В.А. Фотоэлектрический компаратор для конт" роля совмещаемости фотошаблонов. "Электронная техникан сер. "Микроэлектроника", 1970, вып. 3, с.82-87.2. Зеэюлин В.П. Повышение качества эталонных фотошаблонов. - "Элек тронная промышленность, Н 81, 1978, с. 40-43 (прототип) .(54)(57) СПОСОБ КОНТРОЛЯ ТОЧНОСТИ СОВМЕЩЕНИЯ ПРИ МИКРОЛИТОГРАФИИ, включающий последовательную пропечатку рисунков тополо ложку путем про процессов и изм вмещения, о т л тем, что, с це контроля, все л кие процессы п же прозрачной д ке, причем в к процессе микро ляют на глубин по формуле х слоев на подтографических погрешностей сою щ и й с я щения точности литографичеспо одной и той мого света плентографическом уг осуществ- определяемую10 ч 6804 2определенному топологическому слою,Так как в процессе контроля на подложку не наносятся, никакие пленки,очертания элементов всех топологи 5 ческих рисунков остаются четкими,что обеспечивает высокую точностьконтроля,1Изобретение относится к микроэлектронике и может быть исполвзовано для контроля топологического рисунка при изготовлении фотошаблоновдля полупроводниковых приборов иинтегральных схем.Известен способ контроля совмещаемости фотошаблонов на оптическомкомпараторе, при котором изображения,контролируемых фотошаблонов проеци Оруются на экран и совмещаются 1.Недостатком данного способа является то, что он не позволяет контролировать более двух Фотошаблонов,Наиболее близким к предлагаемому 15является способ, контроля точностисовмещения, при котором на подложкупоследовательно наносят планки окисикремния, по каждой из которых проводят пробную Фотолитографию с ис" 20пользованием различных Фотошаблоновкомплекта, а затем измеряют погрешмности совмещения элементов топологического рисунка, расположенных в разных слоях 2 1 .,25Недостатком известного способа является низкая точность контроля;обусловленная тем, что границы элементов, расположенных в нижних слоях,получаются нечеткими. Цель изобретения - повышение точности контроля. На чертеже показан рельеф, получаемый в результате микрогравировки,В результате последовательной пропечатки рисунков топологических слоев на одну и ту же прозрачную пленку 1, расположенную на подложке 2, элемен" ты этих рисунков представляют собой углубления, вписанные друг в друга, и образуют ступенчатый рельеф 3 с четкими очертаниями каждой ступени,Затем подложку наблюдают под микроскопом в отраженном свете. При этом ступенй рельефа оказываются поразному окрашенными за счет интерференции лучей 1 и 5 света, отраженных от нижней и верхней поверхностей прозрачной пленки соответственно, что обеспечивает хорошую контрастность изображения. Далее проводят измерение погрешф ностей совмещения с помощью специальных измерительнь,х приспособлений, например окулярного микрометра.Поставленная цель достигается тем, что согласно способу контроля точнос 35 ти совмещения при микролитографии, включающему последовательную пропечатку рисунков топологических слоев на подложку путем пробных литографических процессов и измерение погрешностей совмещения, все пробные литографические процессы проводят по одной и той же прозрачной для видимого света пленке, причем в каждом лито".45 гр афи чес ком процессе микрогравировку; осуществляют на глубину М, определяемую по ФормулесойЮгде- начальная толщина прозрачнойпленки;М - количество литографическихпроцессов.В результате осуществления предла гаемого способа в прозрачной пленке,формируется ступенчатый рельеф, к." нФдая ступенька которого соответствует П р и м е р, На стандартной стеклянной подложке, покрытой прозрачной для видимого света пленкой Фоторезиста типа ФП17 выполняют совмещенный рисунок семи топологическихслоев линейной интегральной схемы.,формирование осуществляют на прецизионном Фотоповторителе ЭИпу. тем последовательной пропечатки семи промежуточных фотооригиналов со вре; менем экспонирования в семь раз меньше, чем при обычной экспозиции, Затем пластину обрабатывают в 0,5 Ф-ном растворе КОН, В результате получают ступенчатый рельеф, где каждый топологический слой совмещенного рисунка имеет определенный цвет, и определенную глубину рельефа, что позволяет четко определить границы элементов каждого слоя и точно оценить степень совмещенности контролируемых слоев,Таким образом, изобретение позволяет повысить точность контроля, что при контроле совмещаемости комплектов фотошаблонов дает возможность повысилСоставитель В.РубцовТехред М,Костик Корректор 1 А.Зимокосов Редактор Н.Ковалева Заказ 7738/50 Тираж 703 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4Ф 3 1046804 4качество этих комплектов, а при техни- этой диагностики, что в конечном итоге ческой диагностике литографического приведет к повышению выхода годных иноборудования повысить.,достоверность тегральных схем.