Способ изготовления дифракционной решетки на поверхности монокристалла

Номер патента: 705986

Авторы: Волков, Лысогоров, Мизеров, Портной, Смирницкий

ZIP архив

Текст

Союз Советских Социалистических Республик ф 4 с у,:-:.:ф у(54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ДИФРАКЦИОННО РЕБЕТКИ НА ПОВЕРХНОСТИ МОНОКРИСТАЛЛА Изобретение относится к дифракцион.ной оптике и может быть использовано в лазерной технике и оптике, особенно в оптике мощных световых пучков.Известен способ изготовления решеток путем нарезки алмазным резцом мягкой металлической поверхности Ц. Необходимый профиль штриха и наклон его отражающих граней достигается соответствующим углом заточки и установки режуще го алмаза. Данным способом получают решетки с пространственной частотой до 2400 шт/мм. Однако этот способ имеет малую производительность и не позволяет получать качественные решетки с высокой 15 пространственной частотой.Известен способ изготовления решеток нг поверхности монокристаллов путем получения маски на поверхности монокристалла с последующим селективным травлением поверхности через эту маску. Однако использование стандартно ориентированных подложек позволяет получать решетки только определенной формы (с определенным углом блеска), что суще ственно сужает область применения таких решеток 2,Целью изобретения является получение решетки с наперед заданным значением угла блеска.30 Для этого перед травлением рабочую поверхность монокристалла обрабатывают под требуемым углом блеска к плоскости данного монокристалла, имеющей наи меньшую скорость травления.При конструировании целого ряда спектральных оптических приборов огромную важность приобретает решение проблемы создания дифракционных решеток с одинаковым шагом и различными углами блеска. Решение этой проблемы позволяет существенно расширить спектральный интервал таких приборов, что ведет к расширению круга задач, решаемых,ими. Кроме того, при создании целого ряда интегрально-оптических и оптоэлектронных приборов возможность получать решетки с различными углами блеска позволяет направленно изменять их основные характеристики.Предлагаемый технологический процесс изготовления решетки заключается в следующем.Изготавливают монокристалл (подложка будущей решетки) с исходной кристаллографической плоскостью, наиболее устойчивой к какому-либо химическому травителю (аналогично устойчивой к фотохимическому травителю или устойчивой при ионно-плазменном распылении).705986 Рабочую поверхность будущей дифракционной решетки получают сошлифовыванием или резкой (например, алмазнымдиском) с последующей шлифовкой и полировкой так, чтобы рабочая поверхностьсоставляла с исходной плоскостью угол,равный углу блеска,На рабочеи"йовеьрхности"решеткиголографическим путем создают картину решетки,Получение профилированных штриховре 1 йе 1 ки йройсходит при использовании од- ного нз следующим способов:фотохимического травления в избирательном травителе;при использовании фоторезйста; -его=засветкеи" проявлении споследующимтравлением через фоторезистивную маскув избирательном химическом травителе;при использовании фоторезиста, его за=" сМетке й проявлении "споследующим ионноплазменным избирательным травлением.4Формула изобретенияСпособ изготовления дифракциой ной решетки на поверхности монокристалла, включающий селективное травление поверхности монокристалла; о т л и ч а ю. щи й с я тем; что, с целью получения решеткис наперед заданным значением угла блеска, перед травлением рабочую поверхность монокристалла обрабатывают под требуемым углом блеска к плоскостиданного монокристалла, имеющей наименьшую скорость травления. Источники информации, принятые во- ФФОЫЖьФнс.1 лФ ык Мгеюг": п а ф.жом .-. й.ю:шдж ." ъс=::."- -. "."."- ."""Составитель В, Вангоринффунадщфэа+ы . ,. : ,.- - : РРедактор Е. Месропова Техред И. Пенчко Корректор С. файнЗаказ 257/167Изд.120Тираж 516 ПодписноеНП .П ск Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 45тнн. Харьк. фил. вред, Патент

Смотреть

Заявка

2625826, 12.06.1978

ОРДЕНА ЛЕНИНА ФИЗИКО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ ИМ. А. Ф. ИОФФЕ

ВОЛКОВ В. Н, ЛЫСОГОРОВ О. С, МИЗЕРОВ М. Н, ПОРТНОЙ Е. Л, СМИРНИЦКИЙ В. Б

МПК / Метки

МПК: G02B 5/18

Метки: дифракционной, монокристалла, поверхности, решетки

Опубликовано: 30.03.1982

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-705986-sposob-izgotovleniya-difrakcionnojj-reshetki-na-poverkhnosti-monokristalla.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления дифракционной решетки на поверхности монокристалла</a>

Похожие патенты