Способ получения изображения

Номер патента: 1455334

Опубликовано: 30.01.1989

Авторы: Бретош, Гофман, Гусельщиков, Десятник, Дубовский, Покаров, Штрейс

МПК: G03F 7/00

Метки: изображения, металлической, подложке, рельефного

...пульверизаторомкопировальныйслой на основе хинондиазидов (ФПо051 Т), сушат при 25 С в течение 7 мин.Перед экспонированием материал подвергают выдержке,при 30 С в течениео12 ч, экспонируют 11 мин, проявляютв слабощелочном водном растворе (рН7,5-9,0) азотной кислоты в течение3 мин и травят 4 ч.П р и м е р 3. Латунную подложкуобрабатывают 57.-ным раствором смесигидроксида натрия и гидроксида калияв этаноле, затем 57.-ным растворомэпоксидной смолы ЭДв ацетоне, наносят на нее восьмикратно пульверизатором копировальный слой на основециклокаучука (ФН, ТУ 6-14-681-78),сушат при 35 С в течение 5 мин. Полученный материал экспонируют 6. мин,затем проявляют в уайт-спирите в течение 2 мин и травят 3 ч. При этомперед экспонированием необходима...

Номер патента: 1818617

Опубликовано: 30.05.1993

Авторы: Котов, Лупарев, Мкртичан, Попов, Селимханов, Шнейдман

МПК: G03G 5/082

Метки: изображения, нанесения, носителя, подложку, промежуточного, цилиндрическую

...ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб., 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101 носителей информации следует изменитьрасстояние между подложкой и испарителем, изменяя и их диаметры. Оптимальноесоотношение диметров испарителя и под-,ложки должно соответствовать условию4исп5, При ис4 фоточувстви Оисп ОиспОподлОподлтельность промежуточного носителя изображения уменьшается, т.е, градиенттемпературы в слое низкий и удельный тепловой поток, проходящий через слой не может формировать высокочувствительнуюнадмолекулярную структуру аморфного селена.При соотношении5 градиентОиспОподлтемпературы в слое высокий, на свободнойповерхности...

Номер патента: 738456

Опубликовано: 20.06.1999

Авторы: Куликов, Немтинов, Пашков

МПК: G03F 7/04

Метки: изображения, подложке, полимерной, полиметилметакрилате, преимущественно

Способ получения изображения на полимерной подложке, преимущественно на полиметилметакрилате, включающий нанесение на поверхность подложки светочувствительного материала, формирование защитной маски, окрашивание пробельных участков поверхности подложки в растворе органического красителя, удаление защитной маски, отличающийся тем, что, с целью повышения качества изображения, перед нанесением светочувствительного материала на поверхность подложки последовательно наносят слой токопроводящей эмали и гальванический слой меди, а после формирования защитной маски проводят избирательное удаление нанесенных слоев.

Номер патента: 1091107

Опубликовано: 07.05.1984

Авторы: Данько, Костко, Костышин, Романенко, Сопинский

МПК: G03C 5/00

Метки: диэлектрической, изображения, подложке, рельефного

...растворение у 5 Изобретение относится к способамполучения рельефных иэображенийсистем металл - полупроводник и может быть использовано для изготовления джозефсоновских контактов длясверхпроводящих микросхем, диАракционнцх решеток, поляризаторов электромагнитного излучения решеточноготипа и других оптотехнических иэделий.Известны способы получения рельефного изображения на диэлектрическойподложке, один из которых включаетпоследовательное нанесение на нееслоя серебра, слоя сульфида мышьяка,экспонирование усльтрафиолетовымн видимым светом и проявление в водном растворе гидроокиси щелочногометалла.Недостатком известного способаявляется использование драгоценногометалла - серебра.Наиболее близким к предлагаемомуявляется способ...

Номер патента: 1721040

Опубликовано: 23.03.1992

Авторы: Белокуров, Васильев, Галиев, Гиззатуллин, Закирова, Комаров, Мельников, Петухов

МПК: C07C 1/24, C07C 15/46, C07C 4/22

Метки: дегидратации, метилфенилкарбинола, остатка, переработки, после

...по жидкости 0,3 ч .Состав продуктов до и после обработкиостатка приведен в табл, 5.При переработке остатка образуется, 41,80 стирола, а суммарный выход ароматических углеводородов Св - стирола, этилбензола, ацетофенона составляет 56,2%,Селективность по стиролу равна 71,09мас,0 .П р и м е р 6. Процесс ведут по примеру2. Температура на входе в реактор 360 С,давление 0,3 ати, объемная скорость подачиостатка по жидкости 0,6 ч ",Состав продуктов до и после обработкиостатка приведен в табл. 6.При переработке остатка образуется 240,10 стирола, а суммарный выход ароматических углеводородов Св - стирола, этилбензола, ацетофенона составляет 53,360 .Селективность по стиролу составляет 74,29мас % 3П р и м е р 7. Процесс ведут по примеру2....