Способ азотирования углеродистых сталей

Номер патента: 579098

Опубликовано: 05.11.1977

Авторы: Коротушенко, Кузьмина, Сон, Чухрин

МПК: B22D 19/00

Метки: двухслойных, отливок, сталь-чугун

...до одного часа, после чего форму с отливкой охлаждают. Во время выдержки повышается концентрация углерода в поверхностном слое отливки, например, при выдержке 5 мнн - до 0,8 - 52%Меняя продолжительность выдержки, получают различную глубину чугунного слоя. Обмаэка может быть нанесена на . отдельные участки рабочей поверхности формы.Пример. При изготовлении отливок диаметром 50 мм сталь маркн 40 Л заливали в формы с графитовыми оболочками, подогретыми в пе.чи до 800 С я 1200 С, Металл выдерживали прн указанных температурах в течение 5 мин.В первом случае толщина слоя чугуна составляет 1,2 мм, содержание углерода в нем 2,8 - 3,9%, во втором - толщина слоя чугуна 5,3 мм, содержание углерода 2,7- 4,6%.Йри изготовлении отливок с...

Номер патента: 745592

Опубликовано: 05.07.1980

Авторы: Аравин, Баранцев, Голубев, Клочко, Смирнов

МПК: B22D 19/00

Метки: биметаллических, отливок, сталь-бронза

...мин) через слойфлюса в заготовку заливают бронзу, имеющую температуру на 90-140 фС 15 выше температуры заготовки и флюса.После заливки залитую заготовку выдерживают во флюсе 30-45 сек.При этом процесс диффузии бронзы в сталь протекает интенсивно и 20 сцепление двух металлов получаетсякачественное.П р и м е р. В расплавленный дотемпературы 1110 С флюс (состав".бура 80, криолит 11, хлористый 25 калий 9) опускали графитовый стакан,в котором находился блок цилиндров для аксиально-поршневой гидромашины, выдерживали (20 мин) длядостижения температуры флюса. Затем 30 блок заливали антифрикииомиоя брон"745592 формула изобретения Составитель Т. КоролеваРедактор Е. Братчикова Техред Р,Олиян%т. 4 и г:ккч Заказ 38 5 6/7 Тираж 889 .Подписное...

Номер патента: 567581

Опубликовано: 05.08.1977

Авторы: Быков, Голованенко, Зеличенок, Коннова, Медведев, Суровцев, Сухолитко, Чернышев

МПК: B23P 3/02

Метки: биомеиаллических, листов, пакет, сталь-титан

...0,1-0,2 мм. Прослойки, толщина которых меньше 0,1 мм, впРоцессе нагрева после прокатки растворяютея вследствие взаимной диффузии. Толщина прослоек выше 0,2 мм неэкономична,При сборке пакета одна из прослоек,может быть нанесена способом металлиэацни, а другая введена в виде фо тьги. В двойной прослойке возможны любые сочетания из предложенных составов никелевых и молибденовых сплавов,Горячая прокатка биметаллического пакета осуществляется с температуры.о1100-1150 С. Этот интервал температурявляется оптимальным для прокатки стальных листов,П р и м е р, Биметапп сталь-титанполучен горячей прокаткой четырехслойного симметричного пакета. В качестве основного слоя использованы пластины сталимарки ст. 3 из молибденового сплаваПМА (с 0,1%...

Номер патента: 568119

Опубликовано: 05.08.1977

Авторы: Амбросимович, Блюменкранц, Вальчихин, Громов, Мышкин, Панин

МПК: H02K 15/12

Метки: активной, качества, машин, сегментов, стали, статоров, электрических

...достигается благодаря тому, что в процессе измерений устанавливают удельное давление подвижных электро- дов равным давлению отпрессовки сердечника электрической машины, фиксируют плошадь сегментов с пониженной по сравнению с нормой изоляцией и число мест продавли- вания пленки лакового покрытия, сравнивают зафиксированные показатели с уставками и отбраковывают сегменты с превышающими устави показателями.5 йа 119 зКонтроль осуществляется следующим образом.Листы электротехнической стали кэступают ца штампы, проходят операции гратосьема и лакировки. Готовые сегменты по,даются в контрольный станок и проходятмежду вращающимися датчиками, Сигналыот датчиков поступают в электронный блок,который обрабатывает полученную информа,цию, сравнивает ее...

Номер патента: 936387

Опубликовано: 15.06.1982

Автор: Шелухин

МПК: H03H 9/00

Метки: акустических, волнах, отражающими, поверхностных, решетками, устройств

...фотошаблона и ионного травления преобразователей.Напыление регулирующего слоя в области расположения отражаюищх решеток, обесп,чиваюшего необходимую глубинУ 25 канавок при одновременном изготовлении преобразователей и отражающих решеток, позволяет производить формирование защитной фоторезистивной маски одновременно для преобразователей и отражаюшихрешеток, что повышает точность их взаимного расположения,Толшина регулирующего слоя выбирается такой, чтобы суммарная длительность ионного травления регулирующего слоя и канавок отражающих решеток в подлож 35 ке равнялась длительности травления преобразователей. Толщина регулирующего слоя определяется по формуле40 Ь =Ч )пр ПодлРЕг РЕГ Члр Члодл где ЧрЕ,ЧР иЧПО - скорости...