Гибридная интегральная схема
Формула | Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1667571
Авторы: Иовдальский, Темнов
Формула
Гибридная интегральная схема, содержащая диэлектрическую плату с топологическим рисунком металлизации и выемками, в которых с помощью связывающего вещества закреплены полупроводниковые кристаллы, причем поверхность кристаллов с контактными площадками лежит в одной плоскости с поверхностью платы, а контактные площади кристаллов электрически соединены с топологическим рисунком металлизации, отличающаяся тем, что, с целью улучшения электрических характеристик и повышения плотности монтажа, выемки в диэлектрической плате выполнены в виде углублений, глубина которых выбрана превышающей на 10 30 мкм толщину кристаллов, закрепленных на дне углублений, а зазоры между стенками каждого углубления и кристаллом выбраны равными 20 - 100 мкм.
Описание
Целью изобретения является улучшение электрических характеристик и повышение плотности монтажа.
На фиг. 1 приведена конструкция ГИС, вид сверху; на фиг.2 разрез А-А на фиг.1.
ГИС состоит из диэлектрической платы 1 с топологическим рисунком металлизации 2 с углублениями 3, на дне которых установлены кристаллы 4 бескорпусных электронных приборов. Крепление кристаллов 4 в углублениях 3 осуществляется с помощью связующего вещества 5.
Пример конкретной реализации.
В диэлектрической плате 1 из сапфира выполнен топологический рисунок металлизации 2 из Тi-Pd-Au, при этом толщина золотого покрытия равна 3 мкм, золотого покрытия равна 3 мкм, выполнены углубления 3 (например, методом размерной лазерной обработки) глубиной 180-20 мкм, на дно которых с помощью клея 5 ЭЧЭ-СЫУО.028.052ТУ установлены кристаллы арсенидогаллиевых СВЧ-транзисторов ЗП325А5, ЗП326А-2, имеющих размеры 0,5х0,4х0,15 и 0,5х0,5х0,15 мм соответственно.
Заданная выше глубина углублений и толщина кристалла обеспечивают расположение поверхности кристалла с контактными площадками в одной плоскости или несколько ниже относительно поверхности платы. Аналогично кристаллам транзисторов в плату установлены кристаллы 4 емкостей типа ТС7.088.003. Электрическое соединение 6 контактных площадок 7 кристаллов 4 с металлизацией платы 2 выполнено золотой проволокой диаметром 15 мкм для кристаллов транзисторов и диаметром 30 мкм для кристаллов емкостей.
Использование изобретения позволит улучшить электрические характеристики ГИС, а также повысить плотность монтажа. Сокращение длины выводов позволит экономить драгоценные металлы.
Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано при создании гибридных интегральных схем (ГИС) и микросборок СВЧ-диапазона. Целью изобретения является улучшение электрических характеристик и повышение плотности монтажа. В конструкции ГИС размещение кристаллов электронных приборов производят на дно углублений. Глубина углублений выбрана на 10 - 30 мкм больше толщины кристаллов. Зазоры между стенками каждого углубления и кристалла составляют 20 - 100 мкм. 2 ил.
Рисунки
Заявка
4700278/21, 02.06.1989
Иовдальский В. А, Темнов А. М
МПК / Метки
МПК: H01L 23/10
Метки: гибридная, интегральная, схема
Опубликовано: 27.11.1996
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-1667571-gibridnaya-integralnaya-skhema.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Гибридная интегральная схема</a>
Предыдущий патент: Способ очистки электродов электровакуумного прибора
Следующий патент: Способ заправки тепловой трубы теплоносителем и стенд для его осуществления
Случайный патент: Аппарат для окисления аммиака