G02B 27/60 — системы, использующие “муаровый край”

Номер патента: 89430

Опубликовано: 01.01.1950

Автор: Райский

МПК: G01B 11/30, G02B 27/60

Метки: поверхностей, прямолинейности

...а Р 6 г=-(аЬ) Я:и и 5(п 3- Пр том же направлении наблюдения й периоди. ,:;самой ОСГ 1 тки Р имеет ьажущ Ося ирину О +6 = (й+6) 51 п(г - : ),В реву,.Тяте получают наложение двух систем полос одной сиСТЕМЬ Л С СрИС,О:л Пг., - 6 г и Лру. Ой СИТЕМЫ Р С ПСриодО. й "; 6 Рслсдстэие рязлп Гя в псопод;х этих двух систем Гя,ГоженГс различно в разовх участиях .Яблюдяемо картин, В одних местах, где светлые полоси теневого ГзооряжеГя якоиЯльио зягоряживяОтея рвисткой,-, ,х и:рИа няпменьГГая (этп места кажутся теми,пи), а в други", мсстях. где светлые ГОлоскп изооряжеГия мянимяльно, экрянир 1 гОтея решеткой, Иирика Гх Яибольиа: (эти места кажутся светлмГ), Поэтому при пабл:одении видно чередование светлых и темных участко картины, ооразуюших...

Номер патента: 160887

Опубликовано: 01.01.1964

МПК: G01B 11/25, G01B 11/255, G02B 27/60

Метки: 160887

...3 устацавлцвают ца расстояццц а от ооъектива фотоаппе 1 рата 2. Згттеъг ргстр, цапсенныйный ца экран 1, раьцгомрцо освегцгпот доиолггцтельцымц цсточццкамц цзлучецця (ца гертежс цс показацы) и фото. рафцруюг отражение указанного растра от цссле;1 умой погерхцостц 3 фотоаппаратом 2 через отверстие в экране 1. Не меняя взацмцого расположсцця экрана ц фотоаппарата. смецсатот цх ца велтгчц У . ОТ 1 ОСЦТЕЛЬЦО 11 ССЛЕГУЕ:1011 ПОВЕРХ 110 СТЦ В цаправлеции, перпендикулярном полосам растра, и повторно фотографиругот его отражеггц От исследуе. гой поверхгости па тот же 11 сгг ив. В результате цаложеция двух изображений растра, отражеццых от исследуемой поверхгости, цаходящейся в двух положеццях, образуется картина муаровьгх полос, вдоль...

Номер патента: 178138

Опубликовано: 01.01.1966

Автор: Львов

МПК: G02B 27/32, G02B 27/60

Метки: автоколлиматор

...в поле зрения автоколлиматора добиваются применением специальных сеток, выполненных в виде кольца концентрических окружностей с крестом в центре, просто концентрических окружностей, окружностей Френеля, последовательно нанесенных с определенным шагом штрихов и т. д,На чертеже изображена схема автоколлиматора, применяемого для измерения углов вращения луча, отраженного от прямоугольной призмы.Луч света от осветителя 1 проходит через измерительную сетку 2 и попадает на кубпризму 3, Отраженный ею пучок идет через объектив 4 к прямоугольной призме б, угол разворота которой измеряется. Картина рассматривается в окуляр б, перед которым установлена сетка 7.Сетки установлены в сопряженных плоскоях объектива, Если обычные сетки заменить...

Номер патента: 205312

Опубликовано: 01.01.1967

Авторы: Кацнельсон, Фурман

МПК: G01B 11/06, G02B 27/60

Метки: пленок, процессе, толщин, тонких

...образцом на пути напыляемого вещества устанавливают диафрагму 5, расположенную таким образом, что она экранирует часть образца, вследствие чего 30 пленка б образует на подложке ступеньку, вЫ- сота которой точно равна толщине пленки.Для измерения высоты ступеньки на эталонный образец проектируют объективом 7 изображение 8 растра 9, подсвечиваемого источником 10 с помощью конденсора 11. Оптическая ось проектирующсй системы расположена под углом 45" и больше к подложке. Поэтому, ч 1 обы изображение имело вид растра с постоянным шагом, необходимо растр устанавливать под углом к оптической оси, при этом шаг его должен меняться.После отражения от образца изображение растра проектируется объективом 12 в плос. кость, где установлен такой...

Номер патента: 1065683

Опубликовано: 07.01.1984

Авторы: Казак, Чебакова

МПК: G01B 11/25, G02B 27/60

Метки: отклонения, поверхности, сложной, формы

...контроля отклоне 30 ний формы целесообразно использовать в качестве стадии технологического процесса формообразованияасферической поверхности без съемадетали со шпинделя станка. Если же35 при вращении детали 18 луч 20 описывает в обратном ходе окружностивокруг самого себя в прямом ходе,то при помощи юстировочных подвижексистемы 2 можно совместить в прост 40 ранстве оба хода луча 20, напримерпри визуа.льном наблюдении этого совмещения на полупрозрачной поверхности 13. Далее вводится в ход луча,20оптическая система 2, и ось этойсистемы 2 устанавливается сооснооси симметрии детали 18, причем положение соосности контролируетсятакже на указанной полупрозрачнойповерхности 13 по постоянству к:ртины совмещения луча 20 в прямоми обратном ходе,...

Номер патента: 1094016

Опубликовано: 23.05.1984

Авторы: Белонучкин, Козел, Лепехин, Локшин

МПК: G02B 27/46, G02B 27/60

Метки: изображений, когерентно-оптического, преобразования

...преобразования изображений,содержащее установленные последовательно блоки ввода изображений, оптического преобразования и вывода 25преобразованного изображения 2 3.В данном устройстве блок оптического преобразования выполнен в видезонной пластинки Френеля. Благодаряэтому оно не требует подстройки для 3 Оодновременного получения сфокусированных изображений, введенных черезоптические блоки ввода, находящиесяна различных расстояниях от устройства, так как эонная пластинка обладает многофокусностью.Однако такая схема позволяетодновременно преобразовывать не болеетрех изображений, поскольку собираемая зонной пластинкой энергия приходится в основном только на три ее фокуса.Кроме того, в фокальных плоскостях пластинки низким...

Номер патента: 1165881

Опубликовано: 07.07.1985

Авторы: Духович, Колесов

МПК: G01B 11/25, G02B 27/60

Метки: отклонения, поверхности, формы, эталонной

...эталонную поверхность 1 проектором4 проецируют нерегулярный растр 2, фотографируют изображение растра проектором 5, доработанным так, чтобы он обеспечивал фотографирование и последующее проецирование негатива без изменения его положения, и получают таким образом растр 203, согласованный с растром 2 по эталоннойповерхности. Одновременное проецированиерастров 2 и 3 на эталонную поверхностьприводит к взаимному перекрытию их темных и светлых зерен, вследствие чего эталонная поверхность будет затенена. Положение растров в проекторах определяют с помощью, например, микрометров. Далее наместо эталонной поверхности устанавливают в то же положение контролируемую поверхность 6. В местах отклонений поверхно- ЗОсти от эталонной наблюдают...

Номер патента: 1173181

Опубликовано: 15.08.1985

Авторы: Духович, Колесов

МПК: G01B 11/25, G02B 27/60

Метки: бесконтактного, имеющей, образующую, поверхности, формы

...3 поверх ности, проецируя на нее,как на экран растр с помощью проектора 4, формируют два растра, согласованных с эталонным, путем фотографирования эталонйого растрас заданныхраправлений. 25 Фотографирование производят фотокамерами 5 и б методом многократной экспозиции на один и тот же кадр в течение времени перемещения образующей 3 поверхности от одного крайнего по- З 0 ложения до другого. Скорость перемещения образующей выбирают из условия обеспечения необходимой для фотосъемки экспозиции. В результате фотографирования на двух фотопластинках, по 35 ,лученных от двух фотокамер 5 и б, получают растры, как если бы они -были сфотографированы с эталонной поверхности. фотокамеры 5 и 6 обеспечивают возможность какфотографирования...

Номер патента: 1200859

Опубликовано: 23.12.1985

Авторы: Иван, Ларс

МПК: G01B 11/26, G02B 27/60

Метки: визуальной, индикации, объекта, положения

...и прозрачных промежутков первого и второго экранов относительно друг друга;на фиг.5 - вид интерференционноймуаровой полосы при положении объекта перед устройством индикации; нафиг.б и 7 - вид интерференционноймуаровой полосы при положенииобъекта соответственно справа ислева от устройства индикации.Устройство для визуальной индикации состоит из экранов 1 и 2, каждый из которых имеет непрозрачные,темные штрихи 3, разделенные прозрачными промежутками 4. Экраны 1 и2 имеют различные деления, т.е. различное число темных штрихов на единицу длины, перпендикулярной темнымштрихам. Ширина непрозрачных темныхштрихов одного экрана обозначенаЪ этот экран имеет прозрачные про 7межутки шириной Й ширина непрозрачных штрихов другого экрана такжеЪ а...

Номер патента: 807776

Опубликовано: 30.03.1986

Авторы: Алехин, Васильев, Ершов

МПК: G01N 21/41, G02B 27/60

Метки: исследования, нестационарных, прибор, процессов, теневой, фотоэлектрический

...способаограничивается дифракцией на исследуемой неоднородности и визуализирующей диафрагме прибора и фоновойзасветкой. Дифракционные ограничениясвязаны с разрешающей силой и чувствительностью прибора и могут бытьуменьшены только при ухудшении этиххарактеристик.Из-за высокой чувствительностифотоэлектрической системы практическая чувствительность способа оченьсущественно зависит также от величины фоновых засветок, обусловливаемыхрассеянием света на неоднородности,оптических и конструктивных элементах. Величина фонового сигнала определяется общей величиной световогопотока, проходящего через все полеприбора. С увеличением световогопотока возрастает роль шумов, уменьшается минимальная величина освещенности, которая еще может быть...

Номер патента: 1327800

Опубликовано: 30.07.1987

Автор: Ларс

МПК: G01C 5/00, G02B 27/60

Метки: наблюдателя, направления

...промежуток 4.3 13 ны непосредственно друг перед другом, если смотреть в направлении, перпендикулярном плоским поверхностям экранных пластин 1 и 2.Исключительно важно, чтобы линии непрозрачных полос 3 и прозрачных промежутков 4 были параллельны одна другой и их положение было таким, чтобы могла получиться интерференционная картина, состоящая из темных полос 11, параллельных одна другой как показано на фиг.2, когда на прибор смотрят в направлении, перпендикулярном плоским поверхностям экранных пластин 1 и 2 в направлении наблюдения, указанном стрелкой 12 на фиг,3, т.е. в,оль направляющей линии, показываемой прибором.Интерференционная картина или точность, выражаемая как отклонение от направляющей линии, когда интерференционная...

Номер патента: 1376951

Опубликовано: 23.02.1988

Автор: Ларс

МПК: G02B 27/60, G03F 5/22

Метки: картины, муаровой

...при условии, что наблюдательнаходится в пределах углового сектора 2 Ф. Луч б света, падающий под небольшим углом на одну из задних поверхностей 7 и 8 растровых элементов,отражается от них под углом за пределами названного углового сектора полязрения, то же относится к лучу 9 света, который падает на одну из задних45поверхностей элемента 8 под большимуглом.В растровой системе 1 и 2 наблюдатель, который находится в пределахазванного углового сектора, наблюдает 50муаровую картику, совершенно свободную от интерференции, независимо отсветовых условий, созданных светомот фона 5,На фиг.2 и 7 описываются условия 55расчета поперечного сечения 10 раст-ровых элементов. Как видно из фиг,2,поперечное сечение 10 таково, что задние поверхности 7...

Номер патента: 1657946

Опубликовано: 23.06.1991

Авторы: Гукасов, Ильин

МПК: G01B 11/06, G02B 27/60

Метки: ионной, процесса

...обработки остается плоским.,Лругая поверхность 7 свидетеля 5 подверга 5 ется обработке одновременно с поверхностью детали, при этом часть поверхности 7 экранируют неконтактной пластиной 9, которую располагают на расстоянии 0,5-5,0 мм от поверхности 7 свидетеля 5 так, что кромка пластины 9 ориентирована параллельно ребру .клина свидетеля 5.В исходном состоянии афронт волны, отравленной от поверхности 7, тоже плоский, В процессе обработки на поверхности 7 Формируется ступенька, величина которой отражается на Форме волнового фронта и соответственно на наблюдаемой интерференционной картине. В поле зрения окуляра 8 происходит искривление полос равной толщины на величину И, пропорциональную глубине травления неэкрани ронанной части...