Способ контроля отклонения формы поверхности от эталонной

Номер патента: 1165881

Авторы: Духович, Колесов

ZIP архив

Текст

СОЮЗ СОВЕТСНИХСОЦИАЛИСТИЧЕСНИРЕСПУБЛИН 881 в 1 19 цб О 1 В 11 АНИЕ ИЗОБРЕТЕ тро эта ем нтнеяв- дру- понохно- емеот та ГОСУДАРСТВЕННЫИ НОМИТЕТ СССР ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТ К АВТОРСКОМУ СВ(72) Б, Н. Колесов и В. А. Духович (71) Горьковский филиал Всесоюзного научно-исследовательского института по нормализации в машиностроении(56) Патент США3762818,кл. б 01 В. 11/30, опублик. 1973.Новицкий В. В. Новые исследования по методу муаров. - Сб. Расчет пространственных конструкций, вып. Х 1, М., Стройиздат, 1967, с. 25 - 26.(54) (57) СПОСОБ КОНТРОЛЯ ОТКЛОНЕНИЯ ФОРМЫ ПОВЕРХНОСТИ ОТ ЭТАЛОННОЙ путем проецирования на к ролируемую поверхность двух рас из двух положений, согласованных по лон пой поверхности, отличающийся что, с целью повышения точности, на к ролируемую поверхность проецируют регулярные растры, один из которых ляется негативным по отношению к гому, перемешают один из растров до1лучения в контролируемом участке пов ности освещенности, равной освеще сти этого участка на эталонной повер сти, и по величине и направлению пер щения рассчитывают величину и знак клонения контролируемого участка от донной поверхности.1165881 Составитель В. Колесов Редактор А.Шандор Техред И. Верес Корректор М. Самборская Заказ 4298/32 Тираж 651 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж - 35, Раушская наб., д. 4/5 филиал ППП Патент, г, Ужгород, ул. Проектная, 41Изобретение относится к измерению формы криволинейных поверхностей и можетбыть исполозовано для измерения неровностей поверхностей.Целью изобретения является повышениеточности контроля отклонения формы поверхности от эталонной,На чертеже изображена схема, иллюстрирующая реализацию способа.Схема включает в себя эталонную поверхность 1, нерегулярный растр 2, растр 3,являющийся негативом изображения растра 2 на эталонной поверхности 1, проекторы4 и 5, контролируемую поверхность 6 (или7), устанавливаемую на место эталонной.На эталонную поверхность 1 проектором4 проецируют нерегулярный растр 2, фотографируют изображение растра проектором 5, доработанным так, чтобы он обеспечивал фотографирование и последующее проецирование негатива без изменения его положения, и получают таким образом растр 203, согласованный с растром 2 по эталоннойповерхности. Одновременное проецированиерастров 2 и 3 на эталонную поверхностьприводит к взаимному перекрытию их темных и светлых зерен, вследствие чего эталонная поверхность будет затенена. Положение растров в проекторах определяют с помощью, например, микрометров. Далее наместо эталонной поверхности устанавливают в то же положение контролируемую поверхность 6. В местах отклонений поверхно- ЗОсти от эталонной наблюдают светлые муаровые пятна, форма и размеры которых характеризуют форму и размеры искаженныхучастков. Освещенность в муаровом пятнепропорциональна величине отклонения контролируемой поверхности от эталонной,Чувствительность способа определяетсяразмерами и плотностью расположения зерен нерегулярного растра и углом междунаправлениями прОецирования растров. Нарастание освещенности в муаровом пятне 4 Опроисходит до того момента, пока рассогласование растров не достигнет размера зерна растра и особенно резко при начале рассогласования, что повышает точность контроля.Для восстановления согласования изображений растров в районе, примыкающем например, к точке А искаженного участка, изображение растра 2 необходимо сместить на поверхности влево на величину рассогласования М Ь, где М - масштаб увеличения; Ь - величина смещения растра в своей плоскости параллельно плоскости, образованной осями проекторов. Измерив величину Ь, находят величину Ь отклонения поверхности в точке А из соотношения ь, ИаФ4+фу Тгде- углы между осями проекторов и направлением отклонения.При отклонении поверхности от эталонной в противоположную сторону (поверхность 7) изображение растра 2 перемещают вправо, определяя тем самым величину отклонения в точке А . Если на контролируемой поверхности имеется несколько участков с отклонениями от эталонной, равными отклонению в точке А, то согласование растров восстанавливается на всех таких участках одновременно, т. е. одним перемещением растра выявляют впадины или выпуклости, имеющие равные величины, что является дополнительным про. имуществом способа, повышающим точность контроля,При доводке поверхности признаком совпадения ее с эталонной на участке обработки является его потемнение, что обеспечивает контролирование поверхности непрерывно в процессе обработки, не прибегая к измерениям и анализу муаровых полос как в известном. Таким образом, способ обеспечивает повышение точности контроля и упрощение его.

Смотреть

Заявка

2956757, 14.07.1980

ГОРЬКОВСКИЙ ФИЛИАЛ ВСЕСОЮЗНОГО НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКОГО ИНСТИТУТА ПО НОРМАЛИЗАЦИИ В МАШИНОСТРОЕНИИ

КОЛЕСОВ БОРИС НИКОЛАЕВИЧ, ДУХОВИЧ ВАЛЕРИЙ АРКАДЬЕВИЧ

МПК / Метки

МПК: G01B 11/25, G02B 27/60

Метки: отклонения, поверхности, формы, эталонной

Опубликовано: 07.07.1985

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-1165881-sposob-kontrolya-otkloneniya-formy-poverkhnosti-ot-ehtalonnojj.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ контроля отклонения формы поверхности от эталонной</a>

Похожие патенты