Билинец
Способ изготовления полупроводниковых структур
Номер патента: 1178263
Опубликовано: 10.04.1995
Авторы: Билинец, Голович, Матвеев, Стусь, Талалакин, Федак
МПК: H01L 21/208
Метки: полупроводниковых, структур
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СТРУКТУРInAs InAs1-x-ySbxPyметодом жидкофазной эпитаксии, включающий приготовление раствора-расплава, содержащего индий, мышьяк, сурьму и фосфор, приведение его в контакт с буферной пластиной арсенида индия при температуре начала эпитаксиального наращивания, изотермическую выдержку в течение 30 45 мин, приведение раствора-расплава в контакт с подложкой арсенида индия и последующее наращивание согласованных на границе с подложкой слоев твердого раствора путем принудительного охлаждения системы, отличающийся тем, что, с целью улучщения качества структур за счет снижения плотности дислокаций в эпитаксиальном слое,...
Способ изготовления структур с p-n-переходом в системе inas ingaas
Номер патента: 1433324
Опубликовано: 20.01.1995
Авторы: Билинец, Головач, Матвеев, Стусь, Талалакин
МПК: H01L 21/208
Метки: ingaas, p-n-переходом, системе, структур
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СТРУКТУР С p-n-ПЕРЕХОДОМ В СИСТЕМЕ InAs - InGaAs, включающий приготовление насыщенного раствора-расплава индий-галлий-мышьяк, приведение его в контакт с лицевой стороной подложки из арсенида индия, принудительное охлаждение системы, формирование p-n-перехода и сплошного индиевого омического контакта к тыльной стороне подложки, отличающийся тем, что, с целью упрощения технологии изготовления омического контакта и сокращения времени изготовления структур, предварительно тыльную сторону подложки толщиной 120 - 360 мкм приводят в контакт с пластиной сапфира, при температуре 970 - 1030 К лицевую поверхность подложки подвергают контактированию с раствором-расплавом, содержащим 0,01 - 0,06 ат. долей галлия, проводят...
Масса для изготовления абразивного инструмента
Номер патента: 1771939
Опубликовано: 30.10.1992
Авторы: Балог, Билинец, Драгунцов, Кияк, Лендел, Мельникович, Мигалина, Сани
МПК: B24D 3/34
Метки: абразивного, инструмента, масса
...76,0 Жидкий бакелит 5,6-5,9 Пульвербакелит 9,3 - 10,5 Криолит 6,4-7,1 Железный сурик 2,3-2,8 Железный сурик представляет собой смешанную окись ГеО (И) и Ее 20 з(Н) в кристаллической решетке которой содержатся оба типа ионов Еез 04 -ф Ее + 2 ЕеО+ 4,0были изготовлены опытные партии абразивных кругов с добавками железного сурика. Определены коэффициенты шлифования этих кругов по сравнению с прототипом, Все круги (размером 300 хЗХ 32 мм) изготовлены и испытаны в идентичных условиях,В лопастную мешалку подают абразив электрокорунд и жидкий бакелит и перемешивают 3-4 мин, Затем эту смесь подают в другую лопастную мешалку, в которой предварительно тщательно перемешана смесь пульвербакелита, криолита и железного сурика или оксид железа, Все...
Устройство для изготовления абразивных кругов
Номер патента: 1416313
Опубликовано: 15.08.1988
Авторы: Бердиков, Билинец, Кочуров, Титов
МПК: B28B 3/02
Метки: абразивных, кругов
...воздействуя нанижний торец обоймы 24 пресс-формы 7,приподнимает ее над плоскостью опорного пояска тележки б. В этом положении вал 1 1 посредством шлицевого зацепления 25 получает вращение отпривода 10. При этом формовочная плита 11 при помощи привода 9, упорногоподшипника 18, штыря 8 и диска 14 может быть приподнята относительно обоймы пресс-Формы 7 с целью получения различных по толщине нли плотности кругов. Формовочная смесь подается в пресс-форму в объеме, определяемом взаимным положением обоймы и формовочной плиты. Формовочная смесь мо" жет быть уложена в один слой или несколько слоев, перемежающихся армирующнми сетками При формовании многослойных кругов дискретное перемещение формовочной плиты 13 относительно обоймы 24 обеспечивает...
Устройство для измерения толщины слоя жидкости на поверхности твердого тела
Номер патента: 1272104
Опубликовано: 23.11.1986
Авторы: Билинец, Головач, Кондратьева, Сызранов
МПК: G01B 11/06
Метки: жидкости, поверхности, слоя, твердого, тела, толщины
...инфракрасной радесяцееи атисточника 1 излучения, пагеязая наисследуемую поверхность тзерцсга те -ла 5, проходит слои жидко:те 1 Отражается в точке С, вторична праха,гетслой жидкости и зятем няправлясгся(луч с) на регистрирующий ;вел 3.При этом пластина 2 выдвинута и непопадает в ход луча. В этом случаеимеет место ход луча па рабочему каналу, причем мощность излу гения, попадающего на регистрирующий узел 3,пропорциональна прапусканию слоежидкости на поверхности тверцагс тела 5, прапусканию паров жидкости надисследуемой поверхностью и коэффициенту отражения этой поверхности,Для создания Опарнога каняля впоследующий момент времени в ход луча от источникаизлучения при помо.щи виброприводя вводится пластина 2,При этом геаток...
Газоанализатор
Номер патента: 1188600
Опубликовано: 30.10.1985
Авторы: Билинец, Головач, Перчи, Федак
МПК: G01N 21/61
Метки: газоанализатор
...по одному сферическому зеркалу (соответственно 4 и 5),причем источник 1 излучения размещенв фокальной плоскости зеркала 4, априемник 3 излучения - в фокальнойплоскости зеркала 5. Такое расположение элементов в кювете обеспечивает двухкратное прохождение излучения через кювету с анализируемымгазом, что в совокупности со средствами юстировки (зеркал 4 и 5) приво- З 5дит к увеличению порога чувствительности газоаналиэатора.Электронная схема газоанализатора включает усилитель 6, резонанс. 40ный усилитель 7,синхронные детекторы8 и 9, логарифмические усилители 10и 11, схему 12 вычитания, масштабныйусилитель 13, схему 14 коррекциинуля, регистрирующий прибор 15 иблок:45питания источника 1 б излучения,Импульсное питание подается с.блока 16...
Газоанализатор
Номер патента: 1187033
Опубликовано: 23.10.1985
Авторы: Билинец, Крайслер
МПК: G01N 21/61
Метки: газоанализатор
...импульсы питания на светодиоды, излучение которых спектрально разнесено по длине волны, причем излучение рабочего светодиода 2 совпадает, а сравнительного 3 не совпадает с полосой поглощения исследуемого газа,Диаграмма направленности излучения светодиодов имеет лепестковую Форму (фиг. 2), поэтому светодиоды помеще ны в фокусы параболических зеркальных отражателей 4, что позволяет создать высокопараллельный интенсивный поток инфракрасного излучения светодиодов и направить его под налеред заданными углами Ч,и Ч" (для сравнительного и рабочего светодиода соответственно) на входное окно оптической кюветы, выполненное в виде пропускающей голографической дифракционной 55 решетки 5, Параболические зеркальные отражатели устанавливают так,...
Стекло
Номер патента: 912697
Опубликовано: 15.03.1982
Авторы: Билинец, Головач, Козич, Федак, Химинец
МПК: C03C 3/12
Метки: стекло
...10-60 Сурьма 2"15 Наиболее близким к изоб технической сущности и дос результату является халько стекло 21 включающее, вес 37; Я 24-30; Те 20-41; ЙЬОсновным недостатком ук стекол являются высокие те размягчения 120-1 при герметизации их разогрева до 2 Цель изобретен ратуры размягчени Поставленная ц что стекло, включ му, серу, дополни лен и бром при сл компонентов, вес. Мьиаьяк Сурьма Сера Селен3 912697 4держивают при этой температуре в те"тель преломления 2,4 - 3,1 на Л = чение 10-15 ч. После чего охлаждают И,06 мкм, коэффициент термического его до комнатной температуры со ско- расширения 1,0 - 8,5 10град ростью не менее 25 град/ч. удельное сопротивление при комнатнойВ таблице представлены состав ,температуре более 10 ф Ом м, темпе"....