Бесшапошников

Номер патента: 1465256

Опубликовано: 15.03.1989

Авторы: Анников, Бесшапошников, Евдокимов, Моисеев, Тимахова, Толмасов, Угорова

МПК: B23Q 7/10

Метки: магазин

...мера. Внутри внутренней рамы 3 может быть размещена дополнительная съемная рама 7 с полками б припомощи штырей 30 8 и замка 9. Боковая щека 10 установлена на внешней раме 1 с возможностью регулировочного перемещения относительно рам 1 и 3, Внешняя рама 1 ус- тановлена на основании 2 с возможнос- З 5 тью подъема. Для контроля положения рам 1 и 3 относительно основания 2 в магазине имеются датчики 11 и 12,Работает устройство следующим образом. полшага размещения полок 6, а принакоплении деталей короткой длинывставляют внутрь рамы 3 дополнительную раму 7 с полками 6 посредствомштырей 8 и замка 9. Для выравниваниядеталей на полках 6 обеих рам 1 и 3используют боковую щеку 10, Контрольположения рам 1 и 3 относительно основания 2...

Номер патента: 1390020

Опубликовано: 23.04.1988

Авторы: Бесшапошников, Каленов, Сысоев

МПК: B25J 15/00

Метки: манипулятора, схват

...Л ко дактор М.Бл ПодписноеР 908комитета Си открытийская наб аказ 1618 ВНИИПИ Государ по делам иэо13035, Москва, Ж твен т/5 Ра оизводственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектна Изобретение относится к машиностроению, роботостроению и может быть использовано при создании роботизированных технологических комплексов (РТК), например РТК горячей высадки болтов,Цель изобретения - увеличение быстроты извлечения деталей, например, из высадочного штампа путем использования движения захватных рычагов иа захват изделия для его извлечения. На фиг,1 изображен сват, видсверху; на фиг.2 - вид А на фиг.1,Схват содержит захватные рычаги 1на которых жестко закреплены губки 2и направляющие пластины 3, Переносимая деталь 4 в отверстии...

Номер патента: 1116836

Опубликовано: 23.05.1985

Авторы: Апонин, Бесшапошников, Брагина

МПК: G01P 5/26

Метки: анемометр, оптический

...электронно-оптический преобразователь ЭОП) 9, вспомогательную приемную линзу 10; ФЭУ 11, блок 12 телевизионного считывания, блок 13 выделения и преобразования временных интервалов в цифровую Форму, запоминающее устройство 14, блок 15 цифровой обработки и представления результатов, а также блок 16 формирования запускающих импульсов, блок 17 формирования импульсов затвора и горизонтальной развертки, блок 18 формирования импульсов времени регистрации и вертикальной развертки 18.При этом диафрагма с тремя дифракционными решетками 4 расположена между основной входной приемнойлинзой 3 и дополнительной приемной линзой 5, в Фокальной плоскости которой расположена диафрагма 7 с 55, тремя точечными отверстиями. Триплоскопараллельные стеклянные...

Номер патента: 1112895

Опубликовано: 23.05.1985

Авторы: Апонин, Бесшапошников

МПК: G01P 5/18

Метки: анемометр, оптический

...корреляционная обработка, которая сложна и дает результат при больших усреднениях по массивам измерений. Цель изобретения - повышение точности измерений за счет увеличения отношения сигнал/шум, а также упрощение обработки результатов измерений,Цель достигается тем, что в известном оптическом анемометре, содержащем последовательно установленные и оптически согласованные источник излучения,фокусирующую оптическую систему, приемную оптическую систему и фотоприемник, подключенный выходом через усилитель-ограничитель к электронному блоку обработки информации, соединенному выходом с регистратором, источник излучения выполнен в виде многолучевого лазера с внутрирезонаторной модуляцией, а электронный блок обра 20 ботки инФормации - в...

Номер патента: 701259

Опубликовано: 23.10.1980

Авторы: Апонин, Бесшапошников, Брагина, Кулаков

МПК: G01P 3/36

Метки: измеритель, лазерно-допплеровский, скорости

...растра, вертикальной развертки и импульсов фоторегистратора, фоторегистратор 11.Изме ритель работает следующим об" разом.Излучение лазера 1 с помощью све тоделителя 2 делится на два лазер,ных луча одинаковой интенсивности, которые передающей линзой 3 фокусируются в исследуемый поток . Лазерное излучение, рассеянное на микро- частицах, естественно присутствующих или искусственно введенных в исследуемый поток при их пролете через область пересечения двух сфокусированных лазерных лучей, собирается приемной линзой 4 и через дополнитель ный светоделитель 5 одновременно подается на фотокатоды многокаскадного ,электронно-оптического преобразовате. ля 7 и фотоэлектронного умножителя б. Временная диаграмма, поясняющая суть работы...

Номер патента: 293271

Опубликовано: 01.01.1971

Авторы: Белевцев, Бесшапошников, Ефимов, Музалев, Семенов, Чижик

МПК: H01C 7/06

Метки: потенциометра, резистивный, элемент

...1 А, удельно лщиной 1 пленка хром Авторыизобретения А, Т, Белевцев, Е Изобретение истизации, вычислитнике.Известны резистивные элеметра, выполненные в видетельно нанесенных слоев, оявляется слой родия.Сопротивление резистивной дорожкняется с изменением температуры, т, етивная дорожка обладает температурэффициентом сопротивления (ТКС).С целью термостабилизации сопротв предлагаемом устройстве в качестверодня использована термообработаннака хрома,На чертеже представлена схема премого резистивного элемента потенциоУстройство содержит подложку 1, рные дорожки 2 и 3, нанесенные на ситаподложку методом вакуумного термииспарения.Изготовление резистивной ддится в две стадии.Сначала на подложку на пользуется в технике автома ельной и...

Номер патента: 279971

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Белевцев, Бесшапошников, Тницкий

МПК: G01B 7/06

Метки: пленки, толщины

...считаю котором изменениеышает класса точнос ко- тол- опрои реПредлагаемый способ отличается от известного тем, что пленку наносят на подложку слоем переменной толщины, например клинообразным, и замеряют сопротивления участков пленки при возвратно-поступательном движении трущегося по ее поверхности кон такта. Оптимальной толщиной при заданном количестве перемещений контакта считают толщину участка, на котором изменение сопротивления не превышает класса точности резистивного элемента. 15Эти отличия создают условия для определения оптимальной толщины резистивной пленки при работе ее на истирание, например в переменных резистивных элементах. та.т изоб ения е 2 вную пленкуклинообразчастков пленпри возвратНанеся на подложку резист...