Патенты с меткой «отражение»

Номер патента: 4854

Опубликовано: 31.03.1928

Авторы: Зайковский, Клемпнер, Плавский

МПК: G03B 41/10, G03B 41/12

Метки: выравнивания, оптического, отражение, проектировании, просвет

...или призмы 1 скреплена собачка 4, сцепляющаяся с храповиком 5, зубцы которого описаны по кривой такой формы, что направление отраженного луча сохраняется постоянным при движении изображения по дуге круга с центром на оси вращения зеркала. Для быстрого затухания колебаний применены пружинные амортизаторы 7 и 8, которые имеют разные периоды (размеры) и направления давления их не параллельны. Зубцы храповика 5 имеют с одной стороны указанную выше плавную кривую, с другой резкий срез, благодаря которому собачка, а следовательно, и зеркало быстро возвращаются под действием пружин в их исходное положение. В этот период движения зеркала или призмы происходит затемнение экрана обтюратором. Связь движущего механизма 11, способ освещения и...

Номер патента: 528638

Опубликовано: 15.09.1976

Авторы: Пчеляков, Стенин

МПК: H01J 37/26

Метки: отражение, электронографии

...изобретения поясняется чертежом, на котором 1 - первая позици расположения фоОэмульсионного материала; 2 - вторая позицп 51 расположспия фотоэмльсионн 010 матср 1 яля; 3 - - тОложение ООьект 2; 4 - полоксние эталона.Если дпфрагпрующая область на исследуемом образце расположена в точке 3, а эталон помещен в точку 4 на расстоянии Л 1. от точки 3, то на фотопластинках 1 и 2 дпфракцпя от образца дает рефлексы с расстояниями между ними ВО и й 2, соответственно, а дпфрякцпя н 2 эталоне в .О д и В",д. В каждой позиции фотопластинок для эталона вычисляется постоянная прибора 1.,г, (1., и ЕХХ соответственно) . Чтобы использовать величины У.,., определенные для эталона, при расчете мсжплос.Остных рассто 51 ний исследусмо 1 о ер 11- сталла,...

Номер патента: 1138717

Опубликовано: 07.02.1985

Авторы: Гусев, Дорожкин, Комяк, Левчук, Петрашень, Чернов

МПК: G01N 23/20

Метки: дифракционных, монокристаллов, отражение, рентгеновских, топограмм

...1 рентгеновских лучей располагается в одной плоскости с фотопластинкой 2 или дру гим регистрирующим устройством. При этом отражающие плоскости кристалла 3 должны быть параллельны,пласкОС". ти;регистрации., Во время съемки кристалл облучают расходящимся йубж рентгеновских лучей через щель 4 так, чтобы имело место одновременное отражение обеих составляющих К дуплета (3, и д ) и линейно сканируют в направлении, перпендикулярном к отражающим плоскостям. При этом как и согласно известному способу, имеет место фокусировка по длинам волн ( см, чертеж, штриховые линии А( А") и В 1,Вц) - точки на кристалле; А и В - соответствующие им точки в плоскости регистрирующего устройства ). В симметричном случае дифракции изображение всегда...

Номер патента: 1774238

Опубликовано: 07.11.1992

Автор: Гончаров

МПК: G01N 23/20

Метки: держатель, образцов, отражение, съемки

...струбцины, Недостатком этого держателя является то, что в нем нельзя закреплять для съемки на отражение плоские образцы произвольной формы, например круглые, и неправильной (криволинейной) Формы по их периметру. Кроме того, данный держатель не позволяет вращать образец в собственной плоскости.Цель изобретения - возможность исследования образцов произвольной формы -30 достигается тем, что в держателе аразцав в виде П-образной струбцины противоположные губки имеют по ряду отверстий, расположенных са сдвигом на полшага относительно друг друта, в отверстия устанавлены подпружиненные прижимные стержни с кулачками с одной стороны и резьбой с регулиравачнай гайкой с прот ивапалажнай стороны, между кулачком и гайкой установлены пружины и в...