Патенты с меткой «лучей»

Номер патента: 1753262

Опубликовано: 07.08.1992

Автор: Ляликов

МПК: G01B 11/26

Метки: голограмму, зарегистрированном, лучей, объекте, отклонения, углов, фазовом

...Выбирают п-й, например, третий источник света и с помощью его Формируют коллимированный пучок, которым освещают голограмму 3. В плоскости щелеаой диафрагмы 5 с помощью второго объектива 4 формируют изображение источника а первом порядке дифракции на голограмме, Для устранения цветной визуализации из-за некогерентности излучения источников щель 5 ориентирована перпендикулярно полосам на голограмме, а порядки дифракции расходятся в плоскости перпендикулярной плоскости чертежа, В плоскости экрана 6 наблюдают светящиеся зоны фазового объекта, зарегистрированного на голограмму 3, в которых угол отклонения лучей имеет строго определенную величину, которая определяется положением изображения точечного источника относительно щели 5, Смещают...

Номер патента: 1820204

Опубликовано: 07.06.1993

Авторы: Ляликов, Петровский

МПК: G01B 11/26

Метки: голограмме, зарегистрированном, лучей, объекте, отклонения, углов, фазовом

...во времени с такими же частотами. Объективом 4 коллимируют пучки света и освещают голограмму 5 одновременно всеми источниками сета. В первом порядке дифракции лучей перекрывают виэуализирующей щелью 7 иэображения источников, сформированными волнами. Предположим, что источники света 1 виэуализируют в плоскости экрана 10 области, оптически сопряженные объективами 68 с областями голограммы, в которых восстановленные лучи отклоняются на углы а 1,а 2,аз,а 4 иа 5, соответственно. Так как голограмма освещена одновременно всеми источниками света, то в плоскости экрана 10 будут одновременно освещены все зоны, которые соответствуют зонам голограммы, лучи в которых отклоняются на углы а 1, а 2, а.з, а 4 и а 5, так как каждый источник 7...

Номер патента: 786471

Опубликовано: 27.05.1996

Авторы: Губель, Духопел, Ефимов, Федина

МПК: G01B 11/24, G01B 9/02

Метки: асферических, вогнутых, интерферометр, лучей, обратно-круговым, оптических, поверхностей, сферических, формы, ходом

Интерферометр с обратно-круговым ходом лучей для контроля формы вогнутых сферических и асферических поверхностей оптических деталей, содержащий осветительную систему, включающую лазер и коллиматорный объектив, призменную и наблюдательную системы, отличающийся тем, что, с целью повышения точности контроля и расширения диапазона радиусов кривизны контролируемых поверхностей, призменная система выполнена в виде последовательно расположенных светоделительного кубика, плоского и двугранного зеркал и установленного между этими зеркалами высокоапертурного симметричного объектива, а коллиматорный объектив выполнен с возможностью осевого перемещения.

Номер патента: 1383969

Опубликовано: 20.07.1997

Авторы: Долик, Духопел, Ельницкая, Ефимов, Жданова, Константиновская, Серегин, Сидоров, Тульева, Федина

МПК: G01B 9/02

Метки: интерферометр, лучей, обратнокруговым, ходом

Интерферометр с обратнокруговым ходом лучей для контроля формы вогнутых сферических и асферических поверхностей оптических деталей, содержащий лазерный источник поляризованного света, последовательно расположенные по ходу потока излучения коллиматорный объектив, установленный с возможностью перемещения вдоль направления излучения, образующие зеркально-призменную систему светоделитель, выполненный в виде призмы-куба, плоское зеркало, симметричный высокоапертурный объектив и двугранное зеркало и наблюдательную систему, отличающийся тем, что, с целью повышения точности и производительности контроля, лазерный источник поляризованного света выполнен двухчастотным с взаимно перпендикулярной поляризацией частотных компонент излучения в одном...

Номер патента: 1561715

Опубликовано: 20.10.1999

Автор: Строганов

МПК: G02F 1/03

Метки: лучей, ортогональными, поляризациями, разделения

Способ разделения лучей с ортогональными поляризациями путем пропускания оптических лучей через плоскопараллельную прямоугольную пластину из двулучепреломляющего кристалла, отличающийся тем, что, с целью увеличения угла разделения и регулирования величины угла, оптические лучи пропускают на расстояниигде L - длина боковой грани пластины; - угол двулучепреломления; - угол падения лучей на пластину;nо - показатель преломления обыкновенного луча,от...

Номер патента: 1589863

Опубликовано: 20.11.1999

Авторы: Герасименко, Грищенко, Такибаев

МПК: G21H 5/00

Метки: p-nпереходы, воздействия, космических, лучей, моделирования, полупроводниковых, приборов, тяжелых, ядер

Способ моделирования воздействия тяжелых ядер космических лучей на p-n-переходы полупроводниковых приборов, включающий бомбардировку ускоренными заряженными частицами, отличающийся тем, что, с целью получения возможности изучения воздействия единичных тяжелых ядер космических лучей в земных условиях и сокращения времени эксперимента, полупроводниковые приборы с p-n-переходами облучают осколками деления, возникающими при облучении нейтронами делящегося вещества, например урана-235, дозой 103 - 105 см-2 по осколкам деления.