Номер патента: 823459

Авторы: Лебедев, Шнек

ZIP архив

Текст

(23)Приоритет Рвудвртевец вататИВУ ае двам мбретеЯ енрмтЯ) Заявитель 54) КАТОД ЗЕЛ шений наущности ный узел й в вакуОе основана торшень 2 ойствв яв аждения Иэ известиибопее близким,к предлагаемомдпя установок5уме, содержвщние с полостьюцах которого зНедостатклаются низкиев и производите ых технических репо технической су является катоднанесения покрытиий анод; П-образндпя хладвгентв,акреппен катод-миом известного устрэффективность охлпьность.. ус бонзе Изобретение относится к изготовлению тройств дпя катодного распыпения, вконкретно к катодам ппанарной мвгнетроиной системы ионного распыления и ,можетбить использовано в установках дпя нанесения пленок на подложки ионным распы пением.Известно устройство, где катод выпопнеи в виде основания, к которому с помо-. щью винтов прикреппены магниты, попюс-.1 ные наконечники и средства охпвждения. Мишень в виде ппастины прикреппенв к основанию катода с помощью уппотнитепьных конец так, что между обратной стороной мишени и деталями катода имеется герметичная попость, внутри которой цир-. купирует вода Я;Недостатками двиной конструкции явпяются низкая проиэводитепьность вспедствие спожной операции смены мишени и мвпой надежности герметичности уппотнитепьнык колец и спожность конструкции и крец.пения мишени. Бель изобретения - повышение эффективности охпвкдения и производительности,Укаэанная цель достигается благодаря томуу что квтодный уэеп для установОк нанесения покрытий в вакууме, содержа; щий анод, П-образное основание с полостью дпя хпадагента, нв торцах которого закреплен катод - мишень, снабжен мембраной, закрепленной на выступах, которые выпопнены на внутренней боковой поверхности Основания.На чертеже изображена конструкция устройства.-1 О 5 из алюминия ру плавления, ность, а,сле орость осажувеличена не абл 2) Устройство содержит П-образное основанне 1 с полостью для хладагента, представляющее собой корпус цилиндрическойили другой формы, изготовленное из немагнитного материала - меди или нержавеющей стали, и анод ( на чертеже не показан) в виде замкнутой петли, изготовиный из меди,Магнитные средства включают множество прямоугольных постоянных магнитов 2, . 10расположенных под полюсным наконечником3 по периметру внутри корпуса П-образного основания 1, и магнитопровод 4 сполюсным наконечником О. Вода подаетсячерез полость между двумя коаксиальными трубками 6 и 7 и выводится черезтрубу 7, расположенную в отверстии магнитонровода 4, Трубка 6, приваренная кП-образному основанию 1, служит такжедля подачи на него потенциала от источника питания (на чертеже не показан),Температурана мишени, С 6 О 0-7О В случае катода - мише имеющего низкую температу предельная допустимая мощ довательно, и предельная ск дения покрытия может быть менее, чем в 2 раза (см. тНа торцах П-образнкреплен катод-мишеньвиде диска ипи пластинвается в полость полюс3 и фиксируется с помприкрепленного к полюс3 с помощью винтов 1закреплена на выступвнутренней боковой повного основания 1. Подмембрана 11 прижимае,к поверхности катодавая хороший тепловой ого основания 1 8, выполненный в ы, который вкладь ного наконечник ощью зажима 9, ному наконечник О. Мембрана 11н ах, выполненных ерхности П-об давлением водь тся всей полос - мишени 8, со Предлагаемый катоолучением титановыхрытий на диэлектричес опробован евых ложках. алюм их по И,высооказалиния катоода - ми пы тания катодногоую эффективностмишени. Так, в сиз титана 100ости 1;О квт термкатодамишенв известных у1). ь охлажделучае катт мм при постоянной пература на поверх- и в 2 раза ниже, стройствах (см. шенк мощи ности чем табл. Изоляция П-образного основания 1 катода от стенки вакуумной камеры 12 осуществляется с помощью диэлектрических прокладок 13 и 14. Локализация плазмы над катодом мишенью достигается с помощью заземленного экрана 1 О, расположенного в непосредственной близости от П-образного основания 1. Экран изготавливается обычно из нержавеющей стали.,8-2 9-1, 0 корос аж дени 8/сек Увеличение скорости осаждения покры 35тия позволяет в конечном итого увеличитьпроизводительность процесса металлизации.Кроме того, снижение температуры катода - мишени решает проблему перегреваподложки, что особенно важно при получе 40нии толстых пленок на полупроводниковыхпластинах.Формула изобретенияКатодный узел для установок нанесения покрытий в вакууме, содержащий анод,П-образное .основание с полостью для хладагента, на торцах которого закреплен ка" .тод-мишень, о т л и ч а ю щ и й с ятем, что, с целью повышения эффективности охлаждения и повышения производительности, он снабжен мембрано 1;, закрепленной на выступах, выполненных на внутренней боковой поверхности основания.Ис точники информ ации,принятые во внимание при экспертизе55 1. Патент США М 39 О 6093,кл 204-192, 1976.2. Патент США И 387808 О,кл. 204-192, 197 О (прототип),823453 Составитель Л, Беспаловадактор В. Данко Техред Л,Пекарь Корректор В илиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная Заказ 2010/34 Тираж 1048 ВНИИПИ Государст по делам изобре 113035, Москва, ЖПодписноенного коыитета ССний и открытий

Смотреть

Заявка

2778395, 11.06.1979

ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ А-1067

ЛЕБЕДЕВ АЛЕКСАНДР ТИМОФЕЕВИЧ, ШНЕК ВЛАДИМИР МИХАЙЛОВИЧ

МПК / Метки

МПК: C23C 15/00

Метки: катодный, узел

Опубликовано: 23.04.1981

Код ссылки

<a href="https://patents.su/3-823459-katodnyjj-uzel.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Катодный узел</a>

Похожие патенты