Способ эталонного измерения параметров решетки монокристаллов

Номер патента: 1293453

Опубликовано: 28.02.1987

Авторы: Галяткин, Костенко, Формозов

МПК: F25D 3/00, H01L 31/00

Метки: аппарате, космическом, параметров, преобразователя, расположенного, стабилизации, фотоэлектрического

...1 система стремится к новому тепловому равно-. весию. При этом наличие плавящегося вещества в теплообменнике 1 обеспечивает за счет скрытой теплоты плавления стабилизацию его температуры на уровне температуры плавления Т . Ю и, следовательно, стабилизацию параметров преобразователей 2 и 10. После окончания плавления вещества в теплообменнике 1 его температура начинает повышаться и при достижении 15 температуры, равной температуре Т, начинается процесс плавления вещества, размещенного в контейнерах 3 и 12, При этом большая теплоемкость теплообменника 1 из-за наличия в нем рас плавленного вещества увеличивает тепловую инерцию системы, способствует замедлению процесса плавления вещества в контейнерах 3 и 12 и тем самым...

Номер патента: 462120

Опубликовано: 28.02.1975

Автор: Кузнецов

МПК: G01N 21/26

Метки: кристаллов, натяжения, поверхностного, удельной, энергии

...жесткость кристалла и радиус кри- з 0 где Е - жесткость образца,/г - толщина откалываемой пластп Л - радиус кривизны откалываемо стиики.Известный способ является разруша трудоемким, и его нельзя применять к цам малых размеров.С целью ускорения определения снимается ИК-спектр отражения с подобных граней эталонного и исследуемого кристаллов, определяются максимальные коэффициенты отраже. ния кристаллов и рассчитывается удельцая энергия поверхностного натяжения исследуемого кристалла по формуле:ВЕ = - ЕСпособ заключается в следующем.На серийном спектрометре пли спектрофо. тометре устанавливается эталонный кристалл с известной энергией поверяюстного натяжения и определяется максимальное значение коэффициента отражения относительно...

Номер патента: 441490

Опубликовано: 30.08.1974

Автор: Генкин

МПК: G01N 23/20

Метки: внутренних, монокристаллах, напряжений

...плоскости, причем напряжения определяют по изменению разности брэгговских углов отражения этих лучей.Используя отражения двух рент геновских лучей от одной кристаллографической плоскости, исключают недостатки известного способа, связанные с необходимостью воспроизводить и сопоставлять брзгговские отражения рентгеновского луча от 2 О двух кристаллографических плоскостей исследуемого монокристалла.Выбирая величину угла между падающими рентгеновскими лучами, равную разности их брзгговских углов отражения, сокращают на эту величину измеряемый интервал, доводя его до области разности угловых приращений брэгговских максимумов. Этим исключают недостаток известного 30 способа, связанный с необходимостью вычислять искомые приращения как малые...

Номер патента: 1365026

Опубликовано: 07.01.1988

Авторы: Горлушкина, Димитров

МПК: G02B 27/62

Метки: отражатель, телескопический

...в своей задней фокальной плоскости, совпадающей с передней фокальной плоскостью объектива 2При этом призмы 3 и 4 осуществляютизлом оптической оси на 180 , не нарушая инвариантности направления отраженного пучка. Выходящий из объектива 2 параллельный пучок лучейсмещается ромб-призмой 6 на величину,равную величине преломляющей граниромб-призмы 6. Вращение ромб-призм 5 и 6 вокруг оптических осей объективов 1 и 2 позволяет изменять межосевое расстояние входящего и выходящего пучков в пределах от Ь до Ь. Использованиеминпентапризмы 3 и прямоугольной призмы 4 сохраняет направление падающего и2 А+ В+Р = 21 где Р - приращение хода луча эа счетстекла призм 3 и 4 плюс дополнительная величина хода в пентапризме 3. С+ (Е+11)п = Г,(2) где п -...

Номер патента: 501377

Опубликовано: 30.01.1976

Авторы: Магдич, Сасов

МПК: G02F 1/33

Метки: акустооптический, дефлектор

...акустооптичеокого элемента,Если разрешающая способность дефлектора оказьввается недостаточной, то для ее увеличения применяют оптическую систему, которая уменьшает расходимость падающего лазерного луча за счет увеличения его щирины, а затем уменьшает ширину выходящего дифрагированного луча до прежнего размера.Для уменьшен 1 ия потерь оптического излучения на отражение оптические поверхности дефлектора и оптической системы обычно просветляют.Недостатками известного акдефлектора являются потери лучения при отражении от входнои и выходной поверхностей акустооптического элемента, а также необходимость применения оптической системы, уменьшающей расходимость лазерного луча, падающего на акустический пучок, с целью увеличения...