Способ определения концентрации примеси и глубины залегания р-п-перехода встроенного канала мдп-транзисторов
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
Изобретение относится к электронике, в частности к способам определения параметров встроенного канала ЩП-транзисторов.Цель изобретения в повышение производительности способа.П р и м е р. На пластинах кремния КДБс концентрацией примеси в подложке И = 7 10 см были иэгсм -3 товлены МДП-транзисторы со встроенным каналом с поликремниевым затвором, Длина канала транзистора 1. =120 мкм, ширина канала Ъ = 710 мкм, Встроенный канал был получен с помощью ионной имплантации мышьяка.На затвор транзистора подают постоянное напряжение -10 В относительно заземленного истока, обеспечивающее инверсию ,канала на поверхности, Наступление инверсии характеризуется отсутствием влияния напряжения затвора на ток стока, в чем легко удостовериться по стабилизации стоковой характеристики.На сток транзистора подают напряжение Ч = 0 1 В, измеряют 1 стосфка (1 =- 0,45 10 А) и определяют проводимость канала 8 После этого при медленном повышении напряжения на стоке фиксируют момент перехода транзистора в насьпцение, Насыщение тока стока наступало при напряжении насыщения Ч=- 1,9 В. Полученные значения р и 7подставляют в формулы для определения концентрации примеси И и глубины залегания р-и-перехода Х3- подвижность носителей;- ширина канала транзистора;- длина канала транзистора;заряд электрона," б, - электрическая постоянная;- диэлектрическая проницаемость полупроводника;Ц - контактная разность потенциалов между встроеннымканалом и подложкой;Е- концентрация примеси вподложке.Начальное значение р быпо выбрано равным 900 см /В с.Значение констант в формупах (1)и (2) таковы:- 1 610 Кл= 12 о8 85 10 Ф/см, Ц = 0 7 В.Расчет привел к значениям К6 -Эс2,45 10 см, Х = 0,43 мкм.По графику эавнсймости(И,)для кремния находят значение шсоответствующее полученному значению И, : р = 1140 см /В с,Подставляют это число в формулы(1) и (2), проводят расчет вновь иполучают М = 1,710 см , Х0,45 мкм.Дальнейшие итерации не проводятк. заметному изменению результатов.При этом измерения по способу-прототипу заняло около трех часов, тогда как измерения предлагаемым способом были выполнены в течение10 мин,Формула изобретения Способ определения концентрации примеси и глубины залегания р-и-перехода встроенного канала МДП-транзисторов, включающий измерение проводимости канала при напряжении на стоке, стремящемся к нулю, измерение напряжения тока стока, о т л и ч а - ю щ и й с я тем, что, с целью повышения производительности способа проУ водимость канала и напряжение насыщения измеряют при напряжении на затворе, соответствующем стабилизации стоковой характеристики, а концентрацию примеси и глубину залегания р-и-перехода определяют по формулам Я, 2 ЕЕ,Ч,И1283874 где ИсХ сн Составитель И.Петрович 1 Техред В.Кадар Корректор Е.СирохманРедактор А.Ревин Заказ 7452/53 Тираж 698 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наГ., д. 4/5 Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4,концентрация примеси;глубина залегания р-пперехода;проводимость канала принапряжении на стоке, сремящемся к нулю;напряжение насыщения токастока;подвижность носителей;ширина канала транзистора;длина канала транзистора;заряд электрона; Ф- контактная разность потенциалов между встроенным каналом и подложкой;И - концентрация примеси в под 5 ложке;Е - электрическая постоянная: Е - относительная диэлектрическа проницаемость,при этом вычисления повторяют 1-2 ра эа, уточняя каждый раз значения подвижности в соответствии с полученным значением концентрации примеси.
СмотретьЗаявка
3889863, 24.04.1985
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ А-3562
ПРИГОЖИН ГРИГОРИЙ ЯКОВЛЕВИЧ, СКУРАТОВ ЮРИЙ ВИКТОРОВИЧ
МПК / Метки
МПК: G01R 31/26, H01L 21/66
Метки: встроенного, глубины, залегания, канала, концентрации, мдп-транзисторов, примеси, р-п-перехода
Опубликовано: 15.01.1987
Код ссылки
<a href="https://patents.su/3-1283874-sposob-opredeleniya-koncentracii-primesi-i-glubiny-zaleganiya-r-p-perekhoda-vstroennogo-kanala-mdp-tranzistorov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ определения концентрации примеси и глубины залегания р-п-перехода встроенного канала мдп-транзисторов</a>
Предыдущий патент: Устройство цикловой синхронизации
Следующий патент: Узел крепления диода
Случайный патент: Устройство для раскладки арматурных стержней