Состав для травления железоокисных слоев

ОП ИСАНИЕИЗОБРЕТЕН ИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ(51)М, Кд. С 09 К 13/06 3 ЪаударстаааеМ комитет СССР ю делам кзебретеник н атарытлкДата опубликования описания 15,02.80(54) СОСТАВ ДЛЯ ТРАВЛЕНИЯ ЖЕЛЕЗООКИСНЫХ СЛОЕВ Изобретение относится к составам для травления, используемым при изготовлении полупрозрачных фотошаблонов с маскирую. щим покрытием из окисла железа. Такие фотошаблоны применяют в производстве ин. тегральных схем и друтих аналогичных издеЛий в силу своих высоких спектральных и прочностных характеристик,Известно использование для травления желе зоокисных слоев соляной, а иногда и фосфор. ной кислоты 11. Известен также состав для травления желе.зоокисных слоев, содержащий соляную кислоту (21,4 - 57,5%) треххлористый титан 12,8 -5,3% и воду остальное 21,Недостаток известного состава - невысо.кая скорость травления 0,15 - 0,25 мкм/мин,а также агрессивность его из-за большоговыделения ири травлении водорода, в присут.ствни которого повышается агрессивность травителя по отношению к фоторезистору.Цель изобретенияиовьнпение скороститравления и снижение агрессивности состава,Поставленная цель достигается тем, что всостав для травления железоокисных слоев,содержащий раствор треххлористого титанав соляной кислоте, вводят глицерин и глюко;зу при следующем соотношении компонентов,5вес.ч.:Раствор треххлористоготитана в соляной кислоте 100 - 140Соляная кислота,уд.вес. 1,18 г/см 5080Глицерин 35-55Глюкоза 2-6Раствор треххлорнстого титана в солянойкислоте имеет концентрацию 153, плотность15при 20 С около 1,2 г/смз. Описываемый состав обладает пониженнойхимической агрессивностью. Он нс разрушаетзащитные маски из различных фоторсэисто 20ров (позитивных и негативных) с различ.ной степенью кислотостойкости, подвергну..тые термообработке или без нее. Ск 5 ростьтравления пленок окисла железа в данномсоставе сосавлет не менее 0,5 мкм мни,71 5610 Тираж 725 Подписное ЦНИИПИ Заказ 9622/7 Филиал 11 Пзгент", г, Ужгород, ул. Проектная, 4 Состав сохраняет работоспособность неменее двух месяцев без изменения скороститравления, качества получаемого микрорелье.фа и гомогенности состояния,Состав для травления приготавливаютпутем смешения солянокислого раствора трех.хлористого титана с соляной кислотой и гли.церином, добавления в полученный растворглюкозы и перемешивания раствора до полно.го ее растворения,Порядок операций при получении железоокисного микрорельефа на стекле следующий:нанесение фоторезиста, сушка, экспонирование,проявление, химическое травление через защит.ную маску фоторезиста, удаление фоторезиста.Для образования защитной маски используются как позитивные, так и негативныефотореэисты.Ниже приведены примеры использованияпредлагаемого травителя на пленках окислажелеза толщиной 0,3 мкм. Травление проводят при 18-20 С.Пример,Треххлористый титан,г 100Соляная кислота,с = 1,18 гсм 50Глицерин, Г 35Глюкоза, Г 2Темцература 18-20 С.Фоторезист ФП - 270 без термообработкипосле проявления.Скорость т 1 авления 0,520 мкм/мин,Пример 2.Треххлористый титан, г 120Соляная кислота,/ 3 70Глецерии, г 40Глюкоза, г 3Фоторезист ФП - РИ - 7 без термообработкипосле проявления.Скорость травления 0,56 мкм/мин.ПримерЗ.Треххлористьй титан, г 140Соляная кислота,3 80Глицерин, г 55глюкоза, г 6Фоторезист на основе ПВС, очувствленногобихроматом аммония.Скорость травления 0,600 мкм/ми 1.Оптимальные количества компонентов обусловлены следующим.При содержании раствора. треххлористоготитана менее 100 г уменьшается скорость травления и ухудшается качество аравления,при увеличении количества соли свьппе 40 гна стекле остаюгся нестравленные участкипленки окисла железа, Содержание солянойкислоты в травителе менее 50 г.непелесооб.разно ввиду уменьшения скорости травле.ния, при содержании данной кислоты более90 г наблюдается небольпгой подтрав подслой фоторезиста. Глицерин добавляется вб травитель в количестве 35-55 г, а глюкозав количестве 2.-5 г, Установлено, что совмест.ное добавление в травитель данных веществв указанных весовых интервалах обеспечива.ет увеличение скорости травления более чем15 в 2 раза и уменьшение агрессивности раствора.Добавление глицерина менее 35 г глюкозыменее 2 г не влияет на скорость травленияи химическую агрессивность раствора, а добавление глицерина более 55, г глюкозы бо 20 лее 5 г нецелесообразно, так как не приводит к дальнейшему увеличению скорости травления.Предлагаемый состав .обладает,более высокой скоростью травления и25 меньшей химической агрессивностью,более высокой работоспособностью и жизнеспособностью, что позволяет осуществить меха.низированное изготовление железоокисных фото.шаблонов, так как не разлагается с выпадением30 осадка,Формула изобретения 35 Состав для травления железоокисных слоев,содержащий треххлористый титан и солянуюкислоту, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что,с целью повышения скорости травления иснижения агрессивности состава, он дополни 40 тельно содержит глицерин и глюкозу при следующем соотношении компонентов, вес.ч.:Раствор треххлористого титанав соляной кислоте 100-140Соляная кислота45 уд.вес. 1,18 г/см 50-80Глицерин 35-55Глюкоза 2 - 6Источники информации,принятые во внимание при экспертизе0 1.ЕестгосЬегпса Тос, 1971, 118, М 2,р. 34,2, Эмаль и эмалирование металлов. Матери.алы третьего совещания, "Октябрь", 961, Л.,с, 206-208 прототип).