Оптическое стекло

Номер патента: 1730223

Опубликовано: 30.04.1992

Авторы: Васев, Зайцева, Пополитов, Спицына

МПК: C30B 29/14, C30B 33/04

Метки: аналогов, дейтерированных, дигидрофосфата, калия, кристаллов, оптических, элементов

...К на длинах волн светового излучения 200 и 700 нм, 10 - полоса поглощения при 220 нм; на фиг, 4 - зависимости изменения величин К части призмы кристалла КДР, содержащего полосу поглощения при 280 нм и слабую полосу при 220 нм, от дозы гамма-излучения, где 11 - интенсивность ПП при 280 нм; на фиг, 5 - зависимости изменения величин КЛ-среза пирамиды кристалла ДКДР, содержащего ПП при 220 и 280 нм, от дозы гамма-излучения; на фиг, 6 - зависимости изменения величин К части призмы кристалла ДКДР, содержащего ПП при 220 и 280 нм, от дозы гамма-излучения,Наиболее распространенные изделия из кристаллов КДР и ДКДР - удвоители и утроители частоты лазерного излучения. В этих изделиях наиболее полно используются ИК- и УФ-области спектра. Поэтому...

Номер патента: 535235

Опубликовано: 15.11.1976

Авторы: Борисов, Васыляк, Вахрамеев, Журавлев, Клоцвог, Халилев

МПК: C03C 3/18

Метки: оптическое, стекло

...СаР, ЬгР Мд) ь гРз 21, Указанное стекло обладает низкой кристаллизационной способностью и имеет нг= 1,505 в ,56 и т= 62 - 78.С целью получения стекла с широкой облаью прозрачности, коэффициентом преломлеличиной средней орошими технолозкой кристаллизаокой степенью одают в стекло, соЯГР 2 МЯР 21 УРЗ Рз при следующем мол. Огго: и в ния пт= дисперсии гическими ционной с ыс нороднос держаще дополнит соотноше дла СаР то 5,0 - 10, 2,5 - 27,0 2,5 - 27,0 2,5 - 7,0 2,5 - 7,0 32,0 - 36,0 ят в стек в электелями при объеме до ты исвойСинт лоугле ропечи 900 - 1 0,5 л,ства с Ука ваны мыми родиосинтезпро- производинью однолей. ст 71) Заявитель Ленинградски 1,430 - 1,488ч= 86,0 - 93,свойствамипособностьюти и т. д,) пре Ва(РОз)2,ельно вводитьнии...

Номер патента: 935702

Опубликовано: 15.06.1982

Авторы: Вячин, Шандин

МПК: G01B 9/02

Метки: деталях, интерферометр, исследования, неоднородностей, оптических, стекла

...следующимобразом,Предварительно производится запись голограммы 9: пучок лучей отмонохроматического источника 1 света собирается микрообъективом 2 наотверстии в диафрагме 3, расположенной в фокальной плоскости объектива 5. Расходящийся пучок проходитчерез полупрозрачную пластинупреобразуется объективом 5 в параллельный пучок, который отражается отплоской поверхности плосковыпуклойлинзы 10 и от плоской поверхностиклиновидной пластины 6. На фотопластинке, помещенной в позицию голограммы 9, записывается иятерференционная картина двух отраженных пучков, После фотопроцесса голограмма 9 устанавливается на прежнее место, что контролируется по иэображениям выходных зрачков, наблюдаемых в окуляр 7. Перед записью голограммы 9 изображения...

Номер патента: 967969

Опубликовано: 23.10.1982

Авторы: Алексеев, Бундин, Куликова, Пишков, Степанчук, Яковлева

МПК: C03B 23/22

Метки: заготовок, кварцевого, оптического, стекла

...мм), весблока от 5 до 6 кг, полученного способом электроплавки. 30Блоки предварительно моллировалисьв формах под заготовки размером250 мм . Поверхность заготовок полировалась,на "бугор" до 10-15 колец,далее заготовки .соединялись по две 15и сплавлялись с одновременным моллированием в формах диаметрами 280,, 350, 500, 540 ю,Заготовка, обрабатывалась до диаФФррф 00 мм, высота 90 мм . Первоначальйое моллирование исходныхФлЪМбЬ,р заготовки диаметром 250 мм: рбареркение, при достижении в печи1000 С, печь наполнялась водородомдо 0,09-0,1 атм и аргоном да 0,86- 0,87 атм, далее производился подъемтемпературы до 1750 ОС и стекло выдерживалось при данной температуре1 ч 30 мин, по окончании выдержкипечь отключалась.Сплавление с одновременным...

Номер патента: 1636352

Опубликовано: 23.03.1991

Авторы: Ануфриева, Бондаренко, Вейко, Костюк, Никифоров, Яковлев

МПК: C03B 5/06

Метки: варки, горшковой, оптического, печи, стекла

...10 ЭВт),при этом получают стекло высокого качества;б) в качестве монохроматическогоисточника излучения кинопроекционныелампы типа КГМ 12-100 с монохроматическим Фильтром на я0,63 мкм иконденсором со световым диаметром35Й10 10 м; расположенным на расстоянии 3 Ъ 150 10 Эм от источникаизлучения, при этом система обеспечивает плотность мощности излучения на3поверхности шихты менее 10 , т.е.Е = --- 35 Вт/м28где 3 - коэффициент пропускания оптической системы, формирующей зону облучения на поверхности шихты ( ) - 0,8), Б= й Й - площадь зоны облучения на по 20. верхности шихты; .Йо110 м;ЭР =.О й 0,14 Вт = коэф 3 ТЯ 41 цыц ф55фищентхарактеризующий пропускание монохроматического фильтра( /35 10 Р) Р - мощность кинопроекционнойлампы, Вт,При этом...