Устройство для катодного распыления

Номер патента: 315723

Авторы: Квасников, Мешков, Радванский, Цветков, Шалимов

ZIP архив

Текст

рф"ОФ:,О П И С А Н И Е 315723ИЗОБРЕТЕН ИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Свита Советских Социалистических РеспубликЗависимое от авт. свидетельства1387826/26-9) с 15/00 Заявлено 23,Х 11.1969 МПК присоединением заявкиПриор ит Комитет по делаь; зобретеиий и открытийУДК 539,231(088.8 убликовано 01,Х.197 ллетеньпри Совете Мииистрав СССРата опубликования описания 15.Х 1,197 Авторы изобретен А, Радванский, В. А. Мешков, В, А. Цветков, С. В. Шалим и В, В. Квасниковявитель Я КАТОДНОГО РАСПЫЛЕ УСТРОЙСТВ 2 Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано для получения катодным распылением многослойных пленок и пленок из смеси компонентов разных материалов. 5Известно устройство для катодного распыления с применением нескольких катодов. В известном устройстве катоды выполнены в виде отдельных плоских секторов, изготовленных из разных материалов. Напряжение на 10 каждый катод подается отдельно.Цель изобретения - избирательное распыление и упрощение процесса распыления многослойных пленок и смесей компонентов разных материалов в течение одного цикла еа куумирования. Для достижения цели катод выполнен в виде последовательно расположенных в соответствии с заданной последовательностью напыления цилиндров из различных материалов, цилиндры соединены между 20 собой торцами, что обеспечивает надежный электрический контакт, а напротив части рабочей поверхности катода с возможностью перемещения вдоль оси катода расположен экран. 25На чертеже схематически изображено устройство.Цилиндрический катод 1 состоит из нескольких цилиндров, изготовленных из разных материалов. Экраны 2 и 3, гасящие тлеющий ЗО разряд напротив части рабочеи поверхности катода, изготовлены в виде цилиндров, расположенных напротив рабочей поверхности катода на расстоянии, меньшем глубины темного катодного пространства, и заземлены, Анод (анод-подложкодержатель) 4 расположен напротив катода в том месте, где нет экранов 2 и 3. Лнод заземлен, Экран 5 расположен напротив нерабочей поверхности катода 1 на расстоянии, меньшем глубины темного катодного пространства. Катод 1, анод 4 и экраны 2, 3 и 5 разметцены в вакуумной камере 6. Газ из камеры откачивают через отверстие 7. Высокое напряжение на катод по. дают через высоковольтный ввод 8. Камеру наполняют рабочим газом через отверсгие 9, Подложки 10, на которые напыляют распыляемый материал, расположены напротив центра отверстия между экранами 2 и 3.Устройство для катодного распыления работает следующим образом. После откачки рабочего объема камеры до вакуума 10 о хгл рт. ст. в нее через отверстие 9 нагнетают рабочий газ, например аргон, до давления 10- - 10- хтпт рт. ст. При подаче на катод напряжения порядка 1 - 10 кв возникает тлеющий разряд, следствием которого является распыление материала катода и осаждение его на подложках 10, причем разряд возникает на участке катода, не закрытом экрана315723 Составитель М. ПорфироваТехред Е. Борисова Корректор Л. В. Орлова Редактор И. Орлова Заказ 3080/18 Изд. ЛЪ 1285 Тираж 473 ПодписноеЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССРМосква, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Типография, пр. Сапунова, 2 ми 2 и 3. Роль экранов 2 и 3 состоит в подавлении тлеющего разряда напротив тех участков катода, в распылении которых в данный момент нет необходимости. При вертикальном перемещении экранов 2 и 3 и анода 4 с подложками 10 вдоль катода производится последовательное напыление на подложки слоев различных материалов, из которых сделаны, цилиндры катода. В случае необходимости, возможно одновременное распыление нескольких материалов. Предмет изобретенияУстройство для катодного распыления, состоящее из вакуумной камеры с расположенной внутри нее электродной системой, соедипенной с источником высокого напряжения, анода, цилиндрического катода и экранов для гашения тлеющего разряда, отличающееся тем, что, с целью избирательного распыления и упрощения процесса распыления многослойных пленок и смесей компонентов разных материалов в течение одного цикла вакуумировапия, катод выполнен в виде последовательно расположенных в соответст вии с заданной последовательностью напыления электрически соединенных между собой торцовыми поверхностями цилиндров из различных материалов, а экран расположен напротив части рабочей поверхности катода с 15 возможностью перемещения вдоль оси катода.

Смотреть

Заявка

1387826

И. А. Радванский, В. А. Мешков, В. А. Цветков, С. В. Шалимов, В. В. Квасников

МПК / Метки

МПК: C23C 14/36

Метки: катодного, распыления

Опубликовано: 01.01.1971

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-315723-ustrojjstvo-dlya-katodnogo-raspyleniya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для катодного распыления</a>

Похожие патенты