Экран для светового проектирования

Номер патента: 280448

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Германска, Иностранец

МПК: B01J 14/00

Метки: веществ, вязких, слое, термической, тонком

...пе регоранию материала.С целью интенсификации процесса предлагаемое устройство снабжено распределяющими элементами, которые распределяют материал в виде пленки по стенкам аппарата, сни мают указанную пленку и передают ее кследующему, нижележащему элементу для распоеделения в виде пленки. В результате, материал непрерывно движется вниз, подвергаясь термообработке в тонком слое.5 На фиг. 1 показан продольный разрез частиаппарата; на фиг. 2 - поперечное сечение аппарата по А - А на фиг. 1; на фиг. 3 - лопасть со съемно-распределительными элементами; на фиг, 4 - разрез снимающего элемен та по Б - Б,на фиг, 3; на фиг. 5 - разрез распределительного элемента по В - В на фиг.3,Аппарат 1 снабжен рубашкой 2 для нагревания или охлаждения...

Номер патента: 257462

Опубликовано: 01.01.1969

Авторы: Аникин, Ишбз

МПК: C30B 29/34, C30B 9/12

Метки: веществ, монокристаллов, особенности, тугоплавких, фтор-слюды

...конечного продукта и упрощения процесса предлагается в качестве растворителя использовать смесь обезвоженных фторидов элементов 1 и 11 групп периодической системы элементов, а в качестве растворимого - поликристаллпческий конечный продукт или смесь компонентов, образующих его в процессе реакции. При этом растворитель вводят в количестве от 3 до 80% (преимущественно 20 - 60%).П р и м е р. Химически чистые ЯР, ВаР 2 смешивают со скрапом слюды КМДзА 1 Яз 01 о 1 Р 2 фракции 0,5 - 1 мм в соотношении ЯР 30%, ВаР 37%, слюда 33%, брикетируют и загружают в тигель из мало- углеродистой стали. После этого его вакуумируют и заполняют аргоном. Внутреннюю поверхность тигля предварительно очшцают от ржавчины и для удаления механических примесей и...

Номер патента: 433570

Опубликовано: 25.06.1974

Авторы: Митрофанов, Смирнов, Чеховской

МПК: H01L 21/304

Метки: выступающих, дефектов, поверхности, слоев, удаления, эпитаксиальных

...удаляя выступающие дефекты, могутповредить эпптаксиальный слой.Цель изоорстения - создание способа, позволяющего повысить качество поверхностиэпитаксиальных слоев, т. е. удалить острые10 выступающие дефекты без влияния на остальную поверхность эпитаксиального слоя,Это достигается тем, что предварительновсю поверхность эпитаксиального слоя окисляют, а шлифование осуществляют с по 15 мощью плоского полировальника с канавкаНа чертеже схематически представлена полупроводниковая пластина с эпитаксиальнымслоем на операции обработки с помощью20 плоского полировальника,По предлагаемому способу после эпитаксиального выращивания слоя 1 на полупроводниковой пластине 2 всю поверхность эпитаксиального слоя 1 окисляют. Окисел выполня 25 ет функцию...

Номер патента: 1779

Опубликовано: 30.10.1926

Авторы: Заиковский, Павловский

МПК: G03B 21/60

Метки: веществах, изображений, проектирования, распыленных, светового

...ящик 2 со вставленным впереди его стеклом 1, Другие стенки ящика могут быть стеклянными или построенными из непрозрачного вещества. В ящик 2 в разных его частях вводятся трубы 3 - 3 с наконечниками 4, через которые поступают в ящик 2 вышеуказанные вещества в распыленном виде, напр., вода, дым и пр. Для стока распыленных жидких веществ ящик в нижней своей части может быть снабжен резервуаром б со сточным краном 7 а при пользовании дымом - отводной трубой б, которая может быть поставлена в какой-либо части ящика. На чертеже для примера вводные трубы 3 - 3 показаны на передней части рамы, а отводная труба б на задней стороне ящика 2. Число вводных труб 3 и место их расположения может быть различно и зависит от свойств вдуваемого...

Номер патента: 540681

Опубликовано: 30.12.1976

Авторы: Казарцев, Кифорюк

МПК: B05C 5/02

Метки: веществ, дозированного, нанесения, поверхность, текучих

...что приводит к снижению качества дозированного нанесения вещества на объект; ограничено ми нимальное расстояние между наносимыми дозами из-за того, что зависящие на отверстиях остатки дозируемого вещества накапливаются, соединяются с остатками вещества на соседних отверстиях (в случае группового дозирова ния) и неуправляемо отрываются от отвер.стий, а увеличивать расстояние между соседними точками отверстий за счет уменьшения наружных габаритных размеров торца не представляется возможным; наличие на от.5 верстиях поворотных заслонок для отсечкидозы вещества приводит к усложнению уст.ройства. С целью повышения тои равномерности нанесенлагаемом устройстве дозаде взаимодействующегоосновании упором двупленом конце которого закдругой его...