Способ изготовления сцинтилляционных детекторов

Номер патента: 1277840

Опубликовано: 27.06.1995

Авторы: Прохоров, Романова, Янсон

МПК: H01L 21/306

Метки: кремниевых, подложках, положения, полупроводниковых, скрытых, слоев, слоем, формы, эпитаксиальным

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПОЛОЖЕНИЯ И ФОРМЫ СКРЫТЫХ СЛОЕВ НА КРЕМНИЕВЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПОДЛОЖКАХ С ЭПИТАКСИАЛЬНЫМ СЛОЕМ, включающий химическую обработку, отличающийся тем, что, с целью упрощения способа, повышения точности и увеличения используемой площади кристалла, химическую обработку проводят путем анодирования поверхности до образования окрашенных слоев пористого кремния или двуокиси кремния, по разности окраски которых определяют проекцию скрытых слоев на поверхность эпитаксиального слоя.

Номер патента: 1788871

Опубликовано: 20.01.1996

Авторы: Абрамов, Дерягин, Долганов, Третьяков

МПК: H01L 21/208

Метки: наращивания, подложках, слоев, эпитаксиального

...1, подложку и раствор-расплав некоторое время (обычно несколько минут) выдерживают в .контакте.Затем подложку с раствором-расплавом при помощи узла для ее закрепления, соединенного с молибденовым штоком, который приводится в движение электродвигателем, перемещают по поверхности нижней пластины графитового корпуса на заданное расстояние, обеспечивая тем самым эпитаксиальный рост в заданном температурном интервале.В качестве материала для изготовления предлагаемого устройства используют графит, При реализации способа нет необходимости удалять раствор-расплав с подложки.Управление толщиной выраженных слоев производят, варьируя толщину раствора- расплава над поверхностью подложки 9 путем изменения величины зазора между параллельными...

Номер патента: 1829679

Опубликовано: 20.05.1995

Авторы: Гунина, Комаров, Суровцев

МПК: G03F 7/26

Метки: нанесенного, подложку, слоя, термообработки, фоторезиста

...способа для термообработки резиста позволит повысить качество слоя резиста, а именно равномерность слоя по толщине по поверхности подложки, уменьшить дефектность, а следовательно, увеличить выход годных после литографических операций за счет повышения качества термообработки. Все зто дает возможность ввести в КД допуск на размеры не +0,3 мкм, а + 0,2 мкм, получить воспроизводимость от пластины к пластине и по пластине уменьшить реставрацию. термопарой, Для сравнения проводилисьоперации термообработки известными методами; для шаблонов - конвекционным,для кремниевых пластин - посредством го 5 рячей плиты, Режимы обработки приведеныв табл. 3,Все полученные данные обрабатывались статистическим методом в производственных...

Номер патента: 447667

Опубликовано: 25.10.1974

Авторы: Глобус, Гольденвейзер, Тикунов, Шитиков

МПК: G03C 1/74

Метки: методом, нанесения, подложку, светочувствительного, свинца, сернистого, слоя, химическим

...защиты .обслуживающего персонала состоит иэ реактора 7, крышки с пластинодержателем 8, мешалки 9, расположенной в реакторе, фиксирующего механизма 10, индуктора 11, конденсатора высокочастотного генератора 12, стационарной части 13 биологической зашиты, кожуха 14 подвижной части биологической защиты, приспособления 15 для подъема кожуха 14, штуцеров 16 для подачи растворов из дозаторов 2, привода 17мешалки 9, температурного датчика 18 для контроля температуры нагрева растворов, слитых в реактор 7, н датчика для контроля наличия реактора в индукторе 1 1.Устройство работает следующим образом,Исходные растворы, предназначенныедля нанесения фоточувствительного слоясернистого свинца на подложки, напримеркварцевые, заливаются в емкости 1, из...

Номер патента: 480680

Опубликовано: 15.08.1975

Авторы: Арбузов, Ксенофонтов, Пивоварова

МПК: C04B 39/00

Метки: многослойных, строительных

...ровным слоем требуемой толщины на внутреннюю стенку формы и прямо па него или на сетчатый разделительный слой заливают вспенивающуюся смесь. Затем форму закрывают и в ней создают избыточное давление. За время действия избыточного давления, которое не должно превышать времени индукционного периода вспенивания смеси, компоненты пенопласта проникают между частицами наполнителя, что способствует равномерному распределению пропитывающей смеси и образованно монолитного облицовочного слоя. Затем давление снимают, происходит свободное вспенивание внутреннего и отверждение облицовочного слоев. Компоненты, которые проникли в слой на;юлнителя, вспепиваются незначительно из-за большой поверхности контакта с наполнителем, поэтому облицовочный слой...