Патенты с меткой «микроспектрального»

Номер патента: 635788

Опубликовано: 07.10.1981

Авторы: Агеев, Янковский

МПК: G01N 21/00

Метки: анализа, вещества, микроспектрального, состава, химического

...используют импульсный ОКГна неодимовом стекле с длиной волныизлучения 1,06 мкм и плотностью потока энергии 3 10" Вт/см 2 при энергии в луче -0,5 Дж и длительностьюизлучения 800 мкс, работающий в режиме свободной генерации. ИзлучениеОКГ фокусируют линзой с фокусным расстоянием 85 мм на поверхности алюминия, установленного перед входнойщелью спектрографа ИСП-ЗО,в точкус размером порядка 50 мкм.Воздействие ультразвуковых колебаний на анализируемое вещество осуществляют с помощью излучателя ультразвуковых волн, в качестве которогоиспользуют пластину титаната бария.Используется также и магнитострикционный излучатель ультразвуковых колебаний. Частота колебанийсоставляет 200 кГц при использованиив качестве источника ультразвукаГЗ, и 16...

Номер патента: 1187035

Опубликовано: 23.10.1985

Авторы: Дашук, Ковтун, Лукашенко, Мартиросов

МПК: G01N 21/39, G01N 21/67

Метки: анализа, вещества, микроспектрального, состава, химического

...напряжения на разрядном промежутке свыше 10 В/с разряд устойчиво формируетгся на поверхности диэлектрика в виде однорядного диффузорного разряда, и может формироваться на значительных площадях. При этом формирование скользящего разряда имеет место как при размещении диэлектрика в вакууме при давлении остаточного газа 1 10 Па, так и при наличии вблизи-%поверхности диэлектрика газовой среды с давлением 1 10 Па.бСкользящий разряд в незавершенной стадии в основном развивается на фронте импульса напряжения, На Фронте импульса напряжения имеет место максимальное значение вводимой в незавершенный разряд энергии 1 Еда на единицу длины разряда (Е - продольный градиент напряжения в разряде), так как значение тока 1, протекающего через...

Номер патента: 1462977

Опубликовано: 15.09.1990

Авторы: Мадин, Мадина

МПК: G01J 3/443, G01N 31/00

Метки: анализа, золота, количественного, лазерного, методом, микроспектрального, серебра

...2 Оплазмы 10060 К, так как отношение(А) и статического .веса (р) уровнядля них близко к единице (табл.1).С помощью микроскопа производят замеры лазерных кратеров в эталонахцля каждой нспыщки. Строят градуироночные граФики для серебра Д Я -"Ъ(1 ЕС), для золота 1 р(Х/Хф)= ъЬ), где 4 ч =, , - Я,Б, - зопочернение линии н спектре, 8 4почернение Фона, 1 д(с) - логариФмконцентрации соответствующего элемента, .Т.д, .1. , - интенсивность линиис вычетом Фона и интенсивность Фона.По построенным градуировочным граФи- .кам определяют предварительное значение концентрации элементов"примесей,в анализируемом образце. При этомникаких ограничений на режим лазерной 4 Овспыщки и их количество не накладывают, что способствует достижению...

Номер патента: 1633319

Опубликовано: 07.03.1991

Авторы: Галактионов, Шилоносов

МПК: G01N 1/28

Метки: анализа, лазерного, материалах, микроспектрального, образцов, приготовления, природных, стандартных, твердых, элементов-примесей

...образцов, включающем подбор природного ма 1 эриала, аналогичного исследуемому и свободного от определяемых примесей. и введение примесей, примесь наносят на поверхность материала. 2 табл. глубины взаимодействия лазерного импульса с поверхностью образца) и не вносящим существенных изменений в условия взаимодействия, Измеряя толщину нанесенного слоя, диаметр и обьем кратера, образовавшегося в результате взаимодействия лазерного импульса с поверхностью образца, рассчитывают процентное содержание определяемого элемента в продуктах лазерной эрозии, Рассчитанные концентрации затем используют для построения градуировочных графиков,П р и м е р . Изготовление стандартных образцов для лазерного микроспектрального анализа никеля в пиритах....

Номер патента: 1777052

Опубликовано: 23.11.1992

Авторы: Каликов, Розанцев

МПК: G01N 21/39

Метки: анализа, количественного, микроспектрального

...дозы энергии лазерного излучения. Эту дозу принимают за 100%. В нашем случае величина дозы составляет 100 Дж. Уменьшая дозу по геометрической прогрессии со знаменателем 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 лазерного излучения по геометрической прогрессии со знаменателем 1= 3, равным 1,3,1030,б 0,190 Дж, каждый раз экспони руя спектры лазерной плазмы на той же фотопластинке.При этом параметры лазерного излуче ния и плотность потока остаются неизменными,Проводят химическую обработку фотопластинки, затем фотометрирование спектральной линии меди, Строят два графика;1 - зависимости интенсивности спектральной линии меди от изменения концентрации в эталонных образцах (изв. способ), (кривая 4 на фиг,2).2 - зависимости интенсивности спектральной...