Способ определения относительной интенсивности дефекта спектрального изображения, образуемого дифракционной решеткой

(5 Й) СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ОТНОСИТЕЛЬНОЙ ИНТЕНСИВНОСТИ ДЕФЕКТА СПЕК 1 РАЛЬНОГО ИЗОБРАЖЕНИЯ, ОБРАЗУЕМОГ ДИФРАКЦИОННОЙ РЕШЕТКОЙретение относит ия спектральных ионных решеток овано для измер ефектов спектра , .образуемого д ми. я к техникехарактеристи может бытьния интенсив ьного изоб- фракционными Изо измере дифрак испольностираженирешетк Известтенсивнос ласно кот 15чернения ракционны .картины н н способ определения и спектральных линий, рому в качестве марок спользуются вторичные максимумы дифракционн щели Г 1. о о Недостатко что он не способа являетсает возможностьность дефекта иго вторичного дифума. аз алить интенси женного на н онного макси туда и частотапо случайному ракИзвестно, что дифракционные ре" шетки, изготовленные на делительных машинах, имеют случайные ошибки деления, ведущие к искажениям волнового фронта, формирующего спектраль ное изображение, а следовательно,к дефектам спектрального изображения. Деформации волнового фронта могут быть представлены в виде суммы гармонических компонентов, зависящих о амплитуды и пространственной циклической частоты следования ошибки по ширине заштрихованной поверхности решетки.Поскольку амплиошибок изменяются закону, дефекты"духи") частичнопереналагаются и интерферируют какмежду собой, так,и со вторичнымидифракционными максимумами, соответствующими дифракции Фраунгофера напрямоугольной апертуре дифракционной решетки, В результате в окрестности спектральных линий образуетсяхарактерная линейчатая структура, интенсивность которой существенно меняется от точки к точке.3 993"Наиболее близким по технической сущности к изобретению является способ определения относительной интенсивности дефекта спектрального изображения, образуемого дифракционной решеткой, основанный на фотометрировании линейчатого спектра решетки- полученного на спектрографе.По этому способу спектр фотографирует через ступенчатый ослабитель, а затем оп ределяют относительную интенсивность дефекта 12 "1.Недостатком этого способа является низкая точность измерения дефекта спектрального изображения. Это 15 связано с тем, что в способе также измеряется суммарная интенсивность дефекта спектрального изображения и вторично дифракционного максимума, что значительно снижает точность измерений, особеннс вблизи спектральных линий, где интенсивность вторичных максимумов может до десяти и более раз превышать интенсивность дефекта спектрального изображения, д вызванного ошибками деления дяфракционной решетки. Цель изобретения - повышение точ" ности измерений относительной интенсивности дефекта спектрального изображения, образуемого дифракционйой решеткой.Поставленная цель достигается тем, что согласно способу определения относительной интенсивности дефекта спектрального изображения, образуемого дифракционной решеткой, основанному на фотометрировании линейчатого спектра решетки, полученного на спектрографе, перед решеткой устанавливают щелевую апертурную диафрагму, разворачивают изобра жение вторичных дифракционных максимумов спектральной линии относительно оси, проходящей через центр спектральной линии перпендикулярно плоскости дисперсии решетки, путем наклона апертурной диафрагмы, установленной перед решеткой, относи", тельно направления ее штрихов до разделения дефекта спектрального изображения от изображения вторичных дифракционных максимумовизмеряют интенсивность дефекта, выделяют вто ричный дифракционный максимум, рав" ный по интенсивности дефекту спектрального изображения, определяют положение этого максимума относи"8 фтельно спектральной линии, а относительную интенсивность 1 ь дефекта спектрального изображения вычисляют по формуле где х - расстояние между положениемвыделенного вторичного дифракционного максимума и спектральной линии;А - ширина заштрихованной поности решетки;1 - длина штрихов заштрихованной поверхности;3 - угол дифракции света от решетки;- фокус спектрографа;А - длина волны спектральной инии;с - угол наклона апертурной диафрагмы к штрихам решетки,Определение относительной интенсивности дефекта спектрального изображения по предлагаемому способу проводят в следующей последовательности.Исследуемую решетку, имеющую ширину заштрихованной поверхности А идлину штрихов 1, устанавливают вспектрографе с фокусом Г под угломдифракции ф =агсэ 1 п (7),гдеКХМ10М - число штрихов на 1 мм, К - порядок спектра, остальные обозначенияте же, что и в формуле (1). Наблюдаявизуально в фокальной плоскости спектрографа спектр решетки, разворачивают изображение вторичных дифракционных максимумов относительно оси,проходящей через центр спектральнойлинии перпендикулярно плоскости дисперсии путем наклона апертурной диафрагмы, установленной перед решеткой,относительно штрихов решетки до разделения дефекта спектрального изображения от изображения вторичногодифракционного максимума, Фиксируютугол наклона о апертурной диафрагмыотносительно штрихов решетки. Затемизмеряют интенсивность дефекта спектрального иэображения фотометрированием спектра, Выделяют вторичный дифракционный максимум равный по интенсивности дефекту спектрального изображения без переналожения с вторичным верхл,2. С перимен тов диф ках."ке с. 47. етическое и эксение двух аспектических решет" е" 39, 11 7, 1960,нов Корректор Н актор Зака Подписноомитета СССРоткрытийшская наб д, 4/ иал ППП "Патент",Ужгород,ктная,нию технологических причин, ведущих к образованию дефектов спектрального изображения в спектре решетокисходя из реального распределениядефектов по различным зонам спектрального изображения, что позволилоповысить качество дифракционных рещеток, изготавливаемых на делителных машинах. Способ определения относительной интенсивности дефекта спектрального изображения, образуемого дифракционной решеткой, основанный на Фотометрировании линейчатого спектра решетки, полученного на спектрографе, о т л и ч а ю ц и й с я тем, что, с целью повышения точности измерений, перед решеткой устанавливают щелевую .апертурную диафрагму, наклоняют ее относительно направления ее штрихов до разделения дефекта спектрального изображения от иэображения вторичных дифракционных максимумов, измеряют интенсивность де" Фекта, выделяют вторичный дифракционный максимум, равный по интенсивности дефекту спектрального изображения, определяют положение этого максимума относительно спектральной линии, а относительную интенСоставитель А,илиппова Техред М.Надь729/24 Тираж 8 НИИПИ Государственног по делам изобретений 13035, Москва, И,сивность у дефекта спектральногоизображения вычисляют по Формуле расстояние между положением выделенного вторичного дифракционного максимума и центром спектральной линии; ширина заштрихованной поверхности решетки;длина штрихов заштрихованной поверхности решетки; угол дифракции света от решетки;фокусное расстояние спектрографа;длина волны спектральной линии;угол наклона апертурной диафрагмы к штрихам решетки.Источники информации,во внимание при экспертизелышев В. И. Введение в экспеьную спектроскопию. М "Нау, с. 470-471.рок Г, Теоральное изучакции на опОе дОрй 1 цо