Совина

Номер патента: 949348

Опубликовано: 07.08.1982

Авторы: Куинджи, Саамова, Совина, Стрежнев

МПК: G01J 3/40

Метки: дефекта, дифракционной, изображения, интенсивности, образуемого, относительной, решеткой, спектрального

...путем наклона апертурной диафрагмы, установленной перед решеткой, относи", тельно направления ее штрихов до разделения дефекта спектрального изображения от изображения вторичных дифракционных максимумовизмеряют интенсивность дефекта, выделяют вто ричный дифракционный максимум, рав" ный по интенсивности дефекту спектрального изображения, определяют положение этого максимума относи"8 фтельно спектральной линии, а относительную интенсивность 1 ь дефекта спектрального изображения вычисляют по формуле где х - расстояние между положениемвыделенного вторичного дифракционного максимума и спектральной линии;А - ширина заштрихованной поности решетки;1 - длина штрихов заштрихованной поверхности;3 - угол дифракции света от решетки;- фокус...