410251

.0 П И С"А"Н И ЕИЗОБРЕТЕН ИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ 410261 Союз СоветскиттСоциалистическихРеспублик Зависимое от авт. свидетельства200811Заявлено 19,Х 1,1971 ( 1716559/25-28)с присоединением заявкиПриоритетОпубликовано 05.1,1974, Бюллетень1Дата опубликования описания 8 Л,1974/06 М. Кл. осударственньи иомитеСовета Министров СССоо делам изобретенийи открытий ДК 531.715.27(088,8) Авторы зобретени расик, А. А, Антонов, М. А. Антонов, Р, И. Волк В. П. Кудинов и Г, С. Маркова аявит необходима высо- диафрагмы и можные технологичеприводят к нели- , появлению квадой регистраименяется в например, в вации в п одулирующеи маски диафрагмы и друло, должна быть потребление энеротличается от изповышения точноые зоны диафрагштрихи шаг кото- шкалы, модулируюк, что направление рно направлению ия, а амплитуда маски меньше поиафрагмы.сываемого устройма; на фиг. 3 - ющей маски и диашкалу; ца фиг. 4 -приводимого в двиатором 2, закрепле, например непрокоторой в среднем ОТОЭЛЕКТРИЧЕСКОЕ УСТ Изобретение служит для точиции линейного перемещения и проптико-механических приборах,фотоштампах при мультиплициро р цессе изготовления фотошаблонов.Фотоэлектрическое устройство для визирования по основному авт. св.200811 содержит оптическую систему для формирования изображения объекта, например штриха шкалы, модулятор светового потока (колеблющаяся щель или модулирующая маска) и фотоэлектрический регистратор.Между модулятором и фотоприемником установлена диафрагма в виде маски с двумя прозрачными зонами, смещенными на равные расстояния от средней линии диафрагмы, принимаемой за ось наведения в противоположные стороны.В известном устройстве измерение перемещения осуществляется по штриху шкалы. Для облегчения обработки сигнала и повышения точности используется модуляция световых потоков, проходящих через прозрачные зоны диафрагмы.Однако, во-первых, визирование и регистрация линейного перемещения по одному штриху требует высокой точности нанесения штрихов, так как случайные ошибки в положении штриха полностью входят в ошибку отсчета; во-вторых, при модуляции в направлении реВО ДЛЯ ВИЗИРОВАНИ гистрируемого перемещения кая точность изготовления дулирующей маски, Неизбе ские ошибки изготовления 5 нейным искажениям сигнал ратурной составляющей. Амплитуда колебаний мо определяется параметрами гих деталей и, как прави 10 большой, что увеличиваетгии. Предлагаемое устройств вестпого тем, что, с целью сти регистрации, в прозрач 5 мы введены непрозрачные рых равен шагу штрихов щая маска установлена та ее колебаний перпендикул регистрируемого перемеще и колебаний модулирующей ловины прозрачной зоны д На фиг. 1 датта схема оп ства: па фиг. 2 - диафра схема наложения модулир фрагмы на измерительную 6 - эпюры сигналов. На ножке камертона 1,жение камертонпым генер на модулирующая маска 0 зрачная шторка, границы4102514Амплитуда переменной составляющей Фсопределяет величину смещения измерительнойшкалы, а фаза - направление смещения (см,фиг. 6),5 Предлагаемое устройство обладает высокойчувствительностью, определяемой в основномпороговой чувствительностью фотоприемника,Так, например, если применить решетку на измерительной шкале с шагом =0,2 мм, освети 10 тельное устройство, которое дает световой поток через оптическую систему Ф,=10 -люм(эти параметры соответствуют реальным вдатчике АФШ-В при использовании лампы СЦ 80), а в качестве фотоприемника - фо 15 тодиод ДФК, то при смещении шкалы на600,01 мкм=0,001 10 -мм, амплитуда переменной составляющей суммарного потока будет0,01 1020 ф,=ф,= 02 10 - == 5 10-8 лм,что соответствует порогу чувствительности фотодиода.25 В большинстве случаев измерение перемещения с более высокой чувствительностью нетребуется.В случае необходимости можно повыситьчувствительность устройства за счет применеЗ 0 ния фотоприемника с более низким порогомчувствительности, например фотоэлектронногоумножителя, или увеличения светового потокаосветителя при том же фотоприемнике,35Предмет изобретенияФотоэлектрическое устройство для визирования по авт, св.200811, отл и ч а ю ще ес я 40 тем, что, с целью повышения точности регистрации, в прозрачные зоны диафрагмы введены непрозрачные штрихи, шаг которых равен шагу штрихов шкалы, модулирующая маска установлена так, что направление ее колебаний 45 перпендикулярно направлению регистрируемо.го перемещения, а амплитуда колебаний модулирующей маски меньше половины прозрачной зоны диафрагмы.410251 Фиг Составитель Лобзоваедактор В. Дибобес Техред Т. Ускова Корректоры: Л, Корои А, Никола 64/13ЦНИИ одписно ака пография, пр. Сапуню Иэд.334сударственного комитет по делам изобретений Москва, Ж, Раушск Тираж 760Совета Министров ССоткрытийнаб., д, 4/5