Раствор для химического кобальтирования диэлектриков

ОП ИСАЙИ ЕИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Соей . СоветскинСоциалистическиеРеспублик в 926065пе делам изобретений н атнрытнй(2) Авторы изобретения Г.В.Соловьева, Е.И.Саранов и И.И.Калиниченко Уральский ордена Трудового Красного Знамениполитехнический институт им, С,М.Кирова ..(5 Й) РАСТВОР ДЛЯ ХИМИЧЕСКОГО КОБАЛЬТИРОВАНИЯ ДИЭЛЕКТРИКОВ Изобретение относится к нанесению химических, в частности, кобальтовых покрытий на диэлектрики.Наиболее близким к предлагаемому является раствор для химического кобальтирования диэлектриков, содер" жащий кобальт хлористый или серно" кислый, гипофосфит натрия или калия, комплексообразователь, тетраборат натрия и щелочь 1 .Однако нанесение сплошных покрытий из известного раствора возможно только при температуре более 80 оС, цто не позволяет использовать его для нетермостойких полимеров, .Цель изобретенйя - снижение температуры процесса осаждения кобальтовых покрытий.Поставленная цель достигается тем, цто в раствор; содержащий кобальт хлористый или сернокислый, гипофосфит натрия или калия, комплексообразователь, тетраборат натрия и щелоць, в качестве комплексообразователя содержит сульфосалициловую кислотуили ее натриевую или калиевую сольпри следуоцем соотношении компонентов, моль/л:Кобальт хлористый илисернокислый 0,01-0,20Сульфасалйциловаякислота или ее натриевая или калиевая соль 0,25-1,00Гипофосфит натрияили калия 0,05-0,50Тетраборат натрия 0,05-0,10релочь до рН 10, 0-11,5При приготовлении раствора сульфосалицилат-ионы образуют с кобальтом (11) достаточно прочные комплексы,позволявшие создать в кобальтирующемрастворе рН 10-12. Сульфосалицилатные комплексы кобальта Юв знацительно меньшей степени подвержены 20окислению на воздухе. цем, например,аммиачные,и в тоже времФ сульфосэлицилатные комплексы кобальта (1 Ц легко восстанавливаются гипофосфитом5 4практически без индукционного периода и проходит со скоростью от 0,8 до 3,6 мкм/ч при 20-40 С. Для удобства термостатирования рекомендуется вести процесс осаждения при 30 ОС. Получаемые Со-Р покрытия однородны, подложка не имеет непокрытых участков. Постоянство скорости роста кобальтовой пленки позволяет получать покрытия заданной толщины, Использование в растворе вместо сульфосалициловой кислоты ее солей при поддерживании одинакового значения рН не отражается на скорости кобальтирования или качестве покрытий,Пример,10,7 10,5 9,5. 40 30 20 0,5 0,3 1,0 3,6 1,7 0,3 Формула изобретения 0,05-0,50 3 92606 при комнатной температуре, По указанным причинам из сульфосалицилатных растворов при комнатной температуре на поверхности диэлектриков осаждается без индукционного периода одно- родное кобальтовое покрытие, причем скорость кобальтирования не уменьшается в ходе роста покрытия. Активирование поверхности перед нанесением покрытий осуществляют по общепринятой методике в растворах хлоридов олова 11) и палладия 617.Для достижения высокой скорости кобальтирования в растворе необходимо поддерживать указанные соотношения соли кобальта и лиганда, а также значение рН. Наибольшая скорость ,осаждения достигается при рН, близких к рН образования гидроксида кобальта 11. Процесс осаждения начинается Компоненты и свойства Сульфосалициловая кислота Сульфосалицилат натрия (калия) О, 81 Щелочь до рНТемпература, О СИндукционный период, минСкорость осаждения, мкм/ч Как видно из данных таблицы, предложенный раствор позволяет получать45 покрытия хорошего качества с высокой постоянной скоростью. Предлагаемые растворы стабильны и не окисляются на воздухе.50 Раствор для химического кобальтирования диэлектриков, преимущественно 55 нетермостойких, содержащий кобальт хлористый или сернокислый, гипофосфит натрия (калия), комплексообразоИспользование различных комплексообразователей в растворе кобальтирования по примерам 1-4 представлено в таблице. ватель, тетраборат натрия и щелочь, о т л и ч а ю щ и й с я тем,что, с целью снижения температуры осаждения, в качестве комплексообразователя он содержит сульфосалициловуюкислоту или ее натриевую (калиевую)соль при следующем соотношении компонентов, моль/л:Кобальт хлористый илисернокислый 0,01-0,20Сульфосалициловаякислота или ее натриевая (калиевая) соль 0,25-1,00 Гипофосфит натрияили калия5 92606Тетраборат натрия 0,05-0, ПГЩелочь до рН 10,0-11,5Источники информации,принятые во внимание при экспертизе 5 б1. Горбунова К.И. и др. физико- химические основы процесса химического кобальтирования,И., "Наука", 1974,. с. 23-27, Редактор Н.РомжаЗаказ 2895/12 Составитель Е.КубасоваТехред И. Гайду. Корректор Е,Роако Тираж 1049 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035; Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5ВЕВЕЕЕЕЕФилиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4