Способ измерения электрофизических характеристик полупроводника

Номер патента: 1802551

Опубликовано: 20.03.1995

Авторы: Бизюков, Середа, Целуйко, Юнаков

МПК: C23C 14/56

Метки: ионно-лучевого, нанесения, покрытий

...магнитного поля и заземленный электрод - токоприемник, Расстояние мишень-подложка 1. = 3 см.Производя откачку вакуумного объема до давления Р 10 мм рт.ст. с помощью системы напуска газа подсоединенной к устройству формирования ионного пучка типа СЧА, устанавливают давление рабочего газа Аг в вакуумном объеме Р 5 10 мм рт.ст. С помощью блока питания типа БПустанавливают разрядное напряжение на устройстве формирования ионного пучка О - 4 кВ и разрядный ток 1 р 200 мА. С помощью блока питания подают отрицательное относительно корпуса напряжение смещения на держатель мишени, равное Осм = 4 кВ, формируя тем самым ионный пучок на поверхности мишени, Ток ионного. пучка на мишень 1 П -150 мА.Подставляя указанные конкретные значения...

Номер патента: 739442

Опубликовано: 05.06.1980

Авторы: Гостищев, Демьянов, Дрозд

МПК: G01R 33/00

Метки: величины, магнитного, неоднородности, поля

...к неоднородности резко возрастает (примерно как тангенс углов,близких к 90 ),Способ реализуется следующим образом. На эталонном образце"йрймйваютпо его ширине несколько пар потенциальных точечных электродов в мщравленииприложенного электрического поля, Нв40фиг, 2 показан эталонный образец в собранном виде. В качестве эталонного образца берут пластину металла высокойчистоты, которую помещают Ь попереч-ное магнитное поле так, чтобы потен 45циальные электроды находились в средней части магнитного поля, При пропускании тока по образцу на контактах 1-10определяется истинный сигнал, вызванный омическим и магнитным сопротивль 50ниями металла, На остальных контактахопределяется сигнал от двух составляющих падения напряжения, вызванного...

Номер патента: 1263396

Опубликовано: 15.10.1986

Авторы: Дятлов, Кузнецов, Фалитнов

МПК: B21D 22/16

Метки: внутренней, поверхностью, полых, ступенчатой

...металла снаружи заготовки (фиг. 2). Заготовку в данном случае можно обработать на том же станке, з не снимая с оправки. После механической обработки производят прямую ротационную вытяжку, начиная с места б окончания механической обработки.При высоких требованиях к детали по равномерности структуры и точности внутреннего диаметра заготовку после прерывания обратной ротационной вытяжки снимают с оправки, растачивают изнутри на токарном станке, снимая чгстьметалла (фиг, 3), после чего снова надевают на оправку так, чтобы вновь образованный уступ 8 заготовки упирался в уступ оправки, и производят прямую ротационную вытяжку с того же места, где прервали обратную. Таким образом, деформируется вся заготовка, точность детали при этом повышает...

Номер патента: 1712987

Опубликовано: 15.02.1992

Авторы: Веденеев, Дмитриев, Ждан, Рыльков, Шагимуратов, Шафран

МПК: H01L 21/66

Метки: методом, параметров, полупроводников, холла, эффекта

...образец 1, токовые контакты 2 и 3, потенциальные зонды 4,5 и 6, дополнительный зонд 7, размещенныйна нижней поверхности образца, источник 8напряжения, измеритель 9 силы тока, измеритель 10 ЭДС Холла Чн, измеритель 11 па 45 дения напряжения между потенциальнымизондами Чизмеритель 12 разности потенциалов между дополнительным зондом и токовым контактом (стрелками указанынаправления ориентацйи магнитных полейВ и В, волнистые стрелки указывают на правление падающего на образец излучения).Способ реализуется следующим образом.Снабжают образец 1 двумя токовымиконтактами 2 и 3 и тремя потенциальнымизондами 4, 5 и 6, расположенными на противоположных токовых и боковых гранях образца, перпендикулярных его поверхности,соответственно. Снабжают...

Номер патента: 135721

Опубликовано: 01.01.1961

Авторы: Гринчук, Конюшков, Хаби

МПК: B03C 1/01

Метки: величин, магнитного, напряженности, оптимальных, поля, прибор

...плоскую поверхность и при помощи винтового механизма о может перемещаться в вертикальной плоскости, изменяя тем самым воздушный зазор между полюсами и, следовательно, величину напряженности поля.Питание прибора происходит от регулируемого источника постоянного тока. Регулировка величины напряженности поля в воздушном зазоре осуществляется изменением величины воздушного зазора между полюсами или изменением силы тока в катушке электромагнита.Исследуемые семена раскладываются па нижнем полюсе, под острием верхнего полюса. При пропускании электрического тока, под действием возникающего сильного неоднородного магнитного поля семена притягиваются к острию верхнего полюса. Измерением напряженности поля, от которого зависит сила притяжения...