Способ проявления ядерных фотослоев

27208 ОПИСАНИЕИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советских Социалистических РеспубликЕстттаб Зависимое от авт. свидетельства М Ь, 13/О аявлено 16,Х 1.1966 ( 1113665/23-4)присоединением заявкиПриоритет Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССРДК 77.023,417,1(088,8 убликовано 26.1 Ч.1968. Бюллетень15та опубликования описания 15.Ч 11.196 Авторыизобоетени еров, Н, Р. Новикова и Н. А. Перфило адиевый институт им. В. Г. Хлопии итель СПОСОБ ПРОЯВЛЕНИЯ ЯДЕРНЫХ ФОТОСЛОЕ скрыто.не про- проявля, потенко ниже абоиони- данном ни ют д ар зовани происх се про 11 ри о вую и в В пер оксалатнжелезоокс-ред. Изобретение относится к способу проявления ядерных эмульсионных слоев любой толщины и различной чувствительности к заряженным частицам,Известен двухтемпературный способ проявления ядерных фотослоев, заключающийся в том, что ядерный слой пропитывают в проявляющем растворе, включающем щавелевокислый калий, феррисульфат и ферросульфат, при 2 - 5 С, после чего проявляют при 18 24 С. При этом возникают деформации эмульсионных слоев, приводящие к искажению траекторий заряженных частиц, вследствие изменения температуры во второй стадии проявления. С целью улучшения регистрационных характеристик слоя, сокращения времени проявления и повышения стабильности проявления воспроизведения результатов, предлагается пропитывать слои при 16 - 22 С и скисли. тельно-восстановительном потенциале ниже порога проявления скрытого изображения, после чего проявляют при той же температуре н окислитсль о-вссстансвитсльном потенциале выше порога проявления скрытого изображения. уществлении спссооа различаютссую стадии проявления.ой стадии слои пропитывают.м проявителем с величиной потенциала выше порога проявленияго изображения. Следы в этом случаеявляются. Во второй - интенсивноются следы, так как величина окс-ред5 циала в растворе проявителя нескольпорога проявления следов самых слзирую;цих частиц, регистрируемых вопыте.Прп обработке ядерных эмульсий во10 меньшие деформации в слоях, благонотемпературному режиму и испольгроявителя с низким рН, в которомдит слабое набухание слоев в процеявления.15 П е лагаемый способ обеспечивае р д т полную воспроизводимость процесса, вследствие постоянного потенциометрического контроля, и высокие регистрационные характеристики - максимальная величина чувствительности сравнима с результатами, полученными в пирогаллоламидоловом проявителе двухтемпературным методом. При этом полностью отсутствует дихроическая вуаль и получается низкая величина зерновой вуали,Новый метод предусматривает также возможность проведения избирательного проявления частиц различной природы (дискриминации), т, е. при использовании эмульсии одной чувствительности (релятивистской) путем изменения величины скс-ред. потенциала про.Промывка в проточной воде,лаан Проявление, мин фиксирование,Толщинафотослоя, ли слоя час 30 30 400 90 36 (до осветления) 36 (до осиетления)6 6 460 30 16 ПластинкиСлои в наклеенном состоянии 90 400 30 30 16 200 400 100 50 20 30 30 30 30 30 20 20 10 10 5 30 30 30 4 4 2 60 30 1 - 2 2 - 10 20 являющего раствора, можно получать весьтребуемый интервал чувствительностей,П р и м е р. Готовят проявитель следующегосостава: раствор 1вода дистиллированная, нагретая до 50 Слимонная кислотащавелевокислый калийферрисульфатбромистый калийвода дистиллированная до раствор 11вода дистиллированная, нагретая до 50 Слимонная кислотаферросульфатбромистый калийвода дистиллированная до Запасные растворы 1 и 11 хорошо сохраняются длительное время. Рабочий раствор проявителя готовят непосредственно перед проявлением, вливая раствор 11 в кювету с растХарактеристика обрабатываемого ПластинкиСлои в ненаклеенпом состоянии . ПластинкиПластинкиПластинкиОбразцы для электронного микро- скопа Фиксирование, сушку толстых слоев в спиртовых растворах и наклеивание их на стекло проводят по известному способу.Плотность зерен в следах заряженных частиц в глубине и на поверхности толстых слоев обеспсчивасгся введением дгухпотенциальной системы проявлсния и большей скоростью проникновения железооксалатного проявителя в глубину слоя и отличается высокой равномерностью:глубина от поверхности слоя, якплотность зерен50 - 70 40,5 90 - 110 41,3130 в 1 41 При осуществлении предлагаемого способа уменьшается деформация слоя за счет снижения степени набухании в проявителе и применения однотемперагурного режима процесса проявления, сокращается время фотогравором 1, где измеряют окс-ред. потенциал.рН проявляющего раствора 3,5.Количество раствора 11, вводимого в раствор 1, определяют по потенциалу, величина 5 которого выбирается в зависимости от проявляемого материала.Для эмульсии ПР-релятивистская величины пороговых потенциалов проявления скрытого изображения, образованного частицами 10 различной пр ироды, следу ющие, лв:осколки деления - 130 я-частицы - 180 р-частицы (электроны) - 230 15 На графике представлена зависимость плотности зерен в следах релятивистских электронов от оке-ред. потенциала при второй стадиипроявления,В зависимости от поставленной задачи в20 эксперименте подбирают требуемую величинуокс-ред, потенциала первой стадии, а из данных графика - величину окс-ред. потенциалавторой стадии проявления.В таблице приведен режим фотографиче 25 ской обработки эмульсионных слоев различной олщны,фической обработки толстых эмульсионных слоев за счет исключения стадии предварительного набухания слоев в дистиллированной воде и устранения стоп-ванны (4 час для 30 слоев толщиной 400 мк), а также сокращениявремени пропитывания, вследствие большой скорости пропитывания проявляющего растьора з глубину слоя.Преимущества предлагаемого способа так же в исключении низкотемпературной стадиипроявления, требующей специального устройства и дополнительных затрат на охлаждение растворов, в возможности дискриминации частиц различной природы путем проведения 40 избирательного проявления за счет изменениявеличины окс-ред, потенциала проявляющего раствора. Кроме того отпадает необходимость тсрмостатирования процесса проявления, так как в железсоксалатном45 -уст слабая зависимость плотности проявленных зсрсн в следах от температуры раствора.217208 Предмет изобретения Составитель Э. РамзоваРедактор С. Лазарева Техред Р. М, Новикова Корректоры: С. ф, Гоптаренкои С. А. Башлыков: аказ691;5 Тираж 530ПИИПЯ Комитета по делам изобретений и открытий при СовеМосква, Центр, пр. Серова, д, 4 Подписио Министров СССТипография, пр. Сапунова Также можно варьировать в широких пределах величину проявленного зерна в следах заряженных частиц путем изменения длительности стадии проявления и температуры проявляющего раствора. Способ проявления ядерных фотослоев с применением проявляющего раствора, включающего щавелевокислый калий, феррисуль 6фат и ферросульфат, отличающийся тем, что, с целью улучшения регистрационных характеристик слоя, сокращения времени проявления и повышения стабильности воспроизведения 5 результатов, слои пропитывают при 16 - 22 Си окислительно-восстановительном потенциале ниже порога проявления скрытого изображения, после чего проявляют при той же температуре и окислительно-восстановительном 10 потенциале выше порога проявления скрытого изображения.