Рефлектометр для вакуумного ультрафиолета

СООЗ СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКРЕСПУБЛИК 1 1/О ИС БРЕТЕН титут овский зкотемпераному моноы и техникас. 80.(57) Изобретческому прибтения - повышкоэффициента МЕТР ДЛЯ В УМНО опт ние относи ростроению ение точно Цель изобрети измерения сокращение отражен/Я СУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССРДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИИ Н АВТОРСКОМУ СВИ ЕТЕЛЬСТ)и др. Нк вакуум- Прибор8, 9 6,757196,1981,801368655 времени измерений. Рефлектометр содержит источник монохроматическогоизлучения 1, фотометрическую головку 2, в которой на внутренней поверхности вокруг выходного отверстия 4нанесено флуоресцирующее вещество.Фотометрическая головка 2 установлена на фотоприемнике 6. Для одновременного измерения падающего и отра-.женного лучей по ходу отраженноголуча введен второй фотоприемник 7 сфотометрической головкой Я, в которой на внутренней зеркальной поверхности в месте приема отраженного луча нанесено флуоресцирующее под воздействием вакуумного ультрафиолетавещество. Оба фотоприемника 6 и 7подключены к обрабатывающей электронной схеме 13 с воэможностью одновременного запуска. 1 ил.Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для автоматического измерения спектрального распределения абсолютного коэффициента зеркального отражения.Цель изобретения - повышение точности определения коэффициента отражения, сокращение времени измерений, 10 упрощение конструкции рефлектометра и расширение спектрального диапазона,На чертеже приведена схема устройства в его обрабатывающей электронной схеме. 1.Рефлектометр содержит перестраиваемый по энергии фотонов источник 1 монохроматического излучения, зеркальную фотометрическую головку 2 с отверстиями 3 и 4 с блендами на них, 20 причем внутренняя поверхность фото- метрической головки вокруг отверстия покрыта флуоресцирующим веществом 5 (оалицилатом натрия). Выходное отверстие 4 выполнено таким, что периферическая часть входящего луча отсекается краями отверстия 4 и задерживается на флуоресцирующем покрытии 5.Фотометрическая головка 2, являющаяся дополнительной, второй, установлена на фотоприемнике (ФЭУ) 6. На фотоприемнике 7 установлена первая фотометрическая головка 8 с отверстием 9, имеющим бленду, и флуо ресцирующим покрытием 10, находящимся напротив входного отверстия 9 на внутренней ее поверхности. Устройство содержит также держатель образца 11 и эталона 12 с механизмом их пере мещения. Фотоприемники 6 и 7 подключены к электронной обрабатывающей схеме 13 с возможностью одновременной обработки электрических сигналов фотоприемников. 45Обрабатывающая электронная. схема включает два аналого-цифровых преобразователя (АЦП) 14 и 15, к которым через усилители 16 и 17 соответственно подключены фотоприемники 6 и 7, 50 АЦП подключены к входам специализированного управляющего вычислительного устройства (СУВУ) 18, информация с которого выводится на графопостроитель 19 и печатающее устройство 20. 55 СУВУ управляет источником 1 монохроматического излучения.Рефлектометр работает следующим образом. СУВУ устанавливает. требуемое значение энергии излучения источника 1. Монохроматический луч от источника 1 проходит через отверстия 3 и 4 фото- метрической головки 2. Часть луча, попадая на флуоресцирующее покрытие 5, вызывает его свечение, которое непосредственно или отражаясь от зер. кальной внутренней поверхности фото- метрической головки 2, попадает на фотоприемник, Луч отраженный от образца (или эталона), попадает в фото- метрическую головку 8 через отверстие 9 на флуоресцирующее покрытие 1 О, вызывая его свечение. Это свечение, непосредственно или отражаясь от зеркальной внутренней поверхности фото- метрической головки 8, попадает .на фотоприемник 7, Электрические сигналы от фотоприемников 6 и 7 поступают каждый на свой АЦП через усилители 16 и 17. С подачей от СУВУ 18 импульса "Запуск измерений" на вход Внешний запуск" АЦП 14 и 15 происходит одновременное преобразование сигналов, поступающих на АЦП в цифровой код. После завершения преобразования СУВУ принимает двоичную информацию с выходов АЦП 14 и 15. Информация запоминается в памяти СУВУ. После этого СУВУ устанавливает новое значение энергии излучения источника 1.После завершения накопления информации в памяти СУВУ при различных значениях энергии источника излучения такие же измерения проводят с эталоном. Информация от АЦП заносится в другую область памяти СУВУ. После завершения сканирования информация обрабатывается и выводится с помощью графопостроителя 19 и печатающего устройства 20.Таким образом, рефлектометр позволяет повысить точность определения коэффициента отражения и сократить время измерений за счет одновременного измерения падающего и отраженного лучей и трансформации ВУФ излучения в излучение, находящееся в диапазоне максимальной чувствительности фотоприемников; упростить конструкцию рефлектометров за счет замены сложного по исполнению зеркального коммутатора второй однотипной по конструкции с первой зеркальной фотометрической головкой с фотоприемниками и флуоресцирующим покрытием в местах падения излучения.Заказ 279/40 Тираж 499 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий13035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 3368 Формула изобретения Рефлектометр для вакуумного ультрафиолета, содержащий источник излучения и расположенные последовательно по ходу излучения держатель образца и эталона, а также фотометрическую головку с входным отверстием и зеркальной внутренней поверхностью 10 и соединенный с фотометрической головкой и оптически связанный с ней фотоприемник с обрабатывающей электронной схемой, соединенной с источником излучения, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью расширения спектрального диапазона, повышения точности, сокращения времени измерений и упрощения конструкции, рефлектометр дополнительно содержит вторую 20 фотометрическую головку с входным и 6554выходным отверстиями и зеркальной внутренней поверхностью, второй фото- приемник, соединенный с второй фото- метрической головкой и оптически связанный с ней, причем вторая фото- метрическая головка установлена между источником излучения и держателем образца и эталона, а второй фотоприемник соединен с обрабатывающей электронной схемой, при этом диаметр выходного отверстия второй фотометрической головки меньше диаметра ее входного отверстия, на внутренней поверхности второй фотометрической головки вокруг выходного отверстия нанесено флуоресцирующее покрытие, при.чем идентичное покрытие нанесено на внутреннюю поверхность первой фото- метрической головки напротив входного отверстия по ходу излучения.