Способ изготовления и контроля комплекта фотошаблонов

Номер патента: 1026198

Авторы: Погоцкий, Полякова, Строенко, Точицкий

ZIP архив

Текст

Изобретение относится. к, микроэлектронике, в частности к изготовлению фотошаблонов, используемых в фотолитограФических процессах при производствеполупроводниковых приборов и интегральных схем.Известен способ изготовления и контроля комплекта Фотошаблонов, согласнокоторому на стеклянных подложхах выполняют рисунки в виде модулей, содержащих 10рабочие структуры и реперные знаки, аконтроль совмешаемости фотошаблоновпроводят путем пробных фотодитографических процессов, в результате которыхрисунки фотошаблонов попарно пропечатываются на контрольных подложках,после чего измеряется точность совмещения в различных точках контрольных подложек 1,Недостатки данного способа - низкая 20точность получаемого комплекта фотошаблонов, выраженная в его плохой совмещаемости, что обусловлено ошибкаминаложения, возникающими при пробныхфотолитографических процессах и снижающи 4 и достоверность контроля, а такженизкая производительность контроля.Наиболее близок к предлагаемому способ изготовления и контроля комплектафотошаблонов, согласно которому на стек лянных подложках формируют модули, содержащие рисунки, рабочих структур и реперные знаки, а затем с помощью оптического компаратора попарно контролируютсовмещаемость фотошаблонов путем надо- З 5жения изображений фотошабдонов друг надруга и измерения зазоров между элементами реперных знаков 21,Недостатком известного способа является низкая точность комплекта, обусловленная тем, что способ не позволяетконтоолировать совмещаемость фотошаблонов в различных точках модуля, а также,совмещаемость любых двух фотошабдоновкомплекта, что снижает достоверностьконтроля.Цель изобретения - повышение точности комплекта Фотошаблонов путем повышения постоверности контроля.Поставленная цель достигается тем,что согласно способу изготовления и50контроля комплекта фотошабдонов, включающему формирование на стеклянных подложках модулей с рабочими структурамии реперными знаками и измерение совмещаемости фотошабдонов, одновременно сформированием модулей на стеклянныхподложках по углам каждого модуля формируют дополнительные реперные знаки в виде геометричесхих фигур разной формы, а измерение совмещаемости фотошаблонов проводят путем сравнения их с базовым фотошаблонвм, содержащим реперные знаки, соответствующие основным и дополнительным реперным знакам каждого из фотошаблоновВ известном способе Фотошаблоны содержат только те реперные знаки, которые необходимы при совмещении на этапе фотолитографии. Поэтому данные реперные знаки позволяют проконтролировать совмещаемость только тех фотошаблонов, которые соответствуют топологическим слоям, совмещаемым при фотолитографии, Однако высокая чувствительность больших интегральных схем к погрешнос-. тям совмещения требует хорошей совмещаемости любой пары фотошаблонов в комплекте, В предлагаемом способе совме щаемость: контролируется 1 путем сравнения с базовым фотошаблоном, который содержит реперные знаки, соответствующие реперным знакам каждого из фотошаблонов. Это позволяет получить величины несовмещаемости каждого Фотошаблона с базовым, а значит,и между любой парой фотошаблонов комплекта.Известный способ не позволяет контролировать совмещаемость в различных точках моруля, поскольку реперные знаки расположены обычно на каком-либо одномучастке модудя, Однахо для большихинтегральных схем внутримодульные погрешности совмещения могут достигатьзначительных величин, В предлагаемом способе на этапе изготовления фотошабдоновпо углам каждого модуля формируют дополнительные реперные знаки, по которымна этапе контроля измеряется внутримодульная несовмещаемость. Причем дополнительные реперные знаки выполняются ввиде геометрических фигур разной формы,что позволяет точно определять местоположение каждого дополнительного знака вНа фиг. 1 показана схема расположения реперных знахов в модуле при наложении всех фотошаблонов комплекта; наФиг. 2 - модуль базового фотошаблона;на фиг, 3 - положение изобретения модулей базового фотошаблона (и первогоФотошаблона комплекта),На фиг. 1 3 приняты следующие обозначения: основные реперные знаки 1-8расположенные в первом - восьмом фотошаблонах комплекта соответственно, дополнительные реперные знаки О Фотошаби 1 раж 703 Подписное тентф П фи 3 10261 лонов комплекта, реперные знаки 10 базового фотошаблона, соответствующие основным реперным знакам фотошаблонов комплекта, реперные знаки 11 базового фотошаблона, соответствующие до полнительным реперным знакам фотошаблонов комплекта.П р и .м е р . Согласно изобретению на этапе проектирования рисунков высвечивают и совмещают на экране дисплея ри сунки реперных знаков 1-8 всех фотошаблонов комплекта (фиг. 1), При этом реперные знаки располагаются группами по три штуки. Затем приступают к проектированию базового фотошаблона, для че го из каждой группы берут по одному, желательно среднему, реперному знаку и включают их в рисунок базового фото- шаблона (фиг. 2), После чего в рисунки каждого фотошаблона комплекта по углам 2 О модуля включают дополнительные реперные знаки 9,(фиг. 1), а в рисунках базового фотошаблона - соответствующие им реперные знаки 11 (фиг. 2)Затем информация о. рисунках фотошаблонов выводится 25 на перфоленту, по которой последовательно изготавливают промежуточные фотооригиналы, эталонные и рабочие фотошаблоНИИПИ Заказ 4567/4 ны, На этапе контроля все изготовленные рабочие фотошаблоны на компараторе еу,5 х 5 сравниваются с базовым фотошаблоном. При этом реперные знаки рабочих фотошаблонов совмещаются с реперными знаками базового фотошаблона. Например, при контроле первого фотошаблона комплекта основной его реперный знак 1 (фиг. 3) совмещается с реперным знаком 10 базового фотошаблона и, кроме того, совмацаются дополнительные реперные знаки 9 и 11.Во время контроля измеряются величины рассовмещения в каждом реперном знаке. После этого рабочие фотошаблоны,. имеющие одинаковые величины рассовмещения относительно базового фотошаблона группируются в комплект .Таким образом, изобретение позволяет изготавливать комплекты фотошаблонов в которых любая пара фотошаблонов хорошо совмещается по всему модулю. Кроме того, существенно сокращается объем измерений при контроле и повышается его производительность, Осуществление группировки фотошаблонов увеличивает выход годных фотошаблонов и существенно повышает точность комплектов. город, ул, Проектная, 4

Смотреть

Заявка

3318344, 14.07.1981

ИНСТИТУТ ЭЛЕКТРОНИКИ АН БССР

ПОГОЦКИЙ ЭДУАРД ИОСИФОВИЧ, ПОЛЯКОВА НАТАЛЬЯ ГЕОРГИЕВНА, ТОЧИЦКИЙ ЭДУАРД ИВАНОВИЧ, СТРОЕНКО АНАТОЛИЙ АНДРЕЕВИЧ

МПК / Метки

МПК: H01L 21/66

Метки: комплекта, фотошаблонов

Опубликовано: 30.06.1983

Код ссылки

<a href="https://patents.su/3-1026198-sposob-izgotovleniya-i-kontrolya-komplekta-fotoshablonov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления и контроля комплекта фотошаблонов</a>

Похожие патенты