Способ негативно-позитивного градационного маскирования

Класс 57 д, 1 о 184532 СССР ПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЪСТВУ ский и В. Д. Глушко ленко, Г. АДАЦИОННОГО ПОСОБ НЕГАТИВНО-ПОЗИТИВНОГО МАСКИРОВАНИЯ23 в Комитет по изобретен Министров СССР фотомеханическом воспроизведеовых оригиналов производитсяионной ретуши, т. е, корректиредачи градаций изображения вучную, Этот процесс весьма трудожественной подготовки ма аск сновного негатива с негативной масается со стороны целлулоидной подие и склеивание о этом маска помещ негатива.ние контактным или основного, с правил оекцион й перед В настоящее время при нии одноцветных и многоцветных тон градационная ретушь. Процесс градац ования на фотографических формах пер производстве, обычно выполняется вр доемкии и требует большого опыта и ху стера-ретушера,Описываемый способ негативно-позитивного градационного маскирования при фотомеханической репродукции позволяет устранить указанные недостатки тем, что, с целью градационного исправления при воспроизведении одноцветных и многоцветных оригиналов, светлые тона маскируются на негативе, а тени - на диапозитиве, причем маски изготавливаются со значительной недодержкой, но с повышенным контрастом в маскируемой части полутонов изображения.Сущность способа негативно-позитивного градационного м иро. вания характеризуется следующими основными моментами:1. Изготовление с тонового оригинала двух негативов на пленке: одного - основного, с,пропорциональной передачей средних полутонов изображения, фотографически мягких; второго - дополнительного, являющегося маской для корректирования оптических плотностей основного негатива в светлых деталях рисунка, На этом, более слабом против основного, негативе-маске должна быть пропорционально передана только светлая часть шкалы полутонов оригинала, но с повышенной контрастностью против основного негатива, что достигается режимом недодержки и увеличенного времени проявления,Этот йегатив-маску светов лучше изготавливать на диапозитивной фотопленке,2. Совмещенкой светов. Приложки основного3. Изготовле пр ным путем двух диапозитивов: одного, ьно ачей светлых и средних84 3,э 2 полутонов оригинала, но с учетом особенностей последующего растро. вого процесса; второго - более слабого, на котором должны быть переданы только темные полутона оригинала, причем контрастнее, чем они переданы на основном диапозитиве, Зто достигается недодержкой и удлиненным временем проявления.Второй диапозитив является маской для корректирования оптических плотностей основного диапозитива в темных деталях рисунка.4, Совмещение и склеивание основного диапозитива с диапозитивной маской теней.Дальнейшие операции - обычные и зависят от способа печати и принятой технологии производства.Чтобы избежать возможной при широкой шкале полутонов ориги нала потери деталей яркости в крайних светлых и крайних темных то. нах оригинала, следует вручную увеличить оптические плотности нан. более ярких деталей оригинала (бликов) - на негативной маске светов. а наиболее темных деталей - на диапозитивной маске теней,Сенситометрическая характеристика основных негативов и диапозитивов и масок определяется для разных модельных оригиналог (шкал), отличающихся интервалом яркостей, контрастностью и способом исполнения применительно к используемым негативному и позитивному фотографическим материалам.Контроль процесса осуществляется по эталонным негативным и диапозитивным шкалам, изготовленным по предлагаемому способу с модельных оригиналов, которые фотографируются вместе с репродукционными оригиналами,Настоящий способ применим и в процессе многоцветной репродукции. При этом сначала каждый из частичных цветоразделенных негативов маскируется по светам изображения, а после изготовления диапозитивов последние маскируются по теням изображения.Цветокорректирующая ретушь, в случае применения этого способа, частично может быть выполнена обычным путем на негативах, а в основном должна быть произведена на растровых диапозитивах химическим путем (химическая ретушь). Предмет изобретения Редактор Б. И. Новиков Текрсд А. А. Камышникова Корректор Г. Голубятникова Гсдп. к печ. 26.1 ЧгЗак. 2855 Формат бум. 70 Х 108/1 б Тираж 220 ЦБТИ при Комитете по делам изобретений и при Совете Министров СССР Москва, Центр, М. Черкасский пер д.2/6 Типография ЦБТИ Коми 1 ета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР, Москва, Петровка,.Способ негативно-позитивного градационного маскирования при фотомеханической репродукции, о тл и ч а ю щи й с я тем, что, с цельо градационного исправления при воспроизведении одноцветных и многоцветных оригиналов, светлые тона маскируются на негативе, а темнь;е - на диагозигиве, причем маски изготавливаются со значительной нсдодержкой, но с повышенньм контрастом в маскируемой части полутонов изображения.