Патенты с меткой «экспонированных»

Номер патента: 57699

Опубликовано: 01.01.1940

Авторы: Архангельский, Тимофеев, Штаркер

МПК: G01N 21/89

Метки: дефектов, кинопленках, материалах, например, обнаружения, светочувствительных, фотои, экспонированных

...лучей, и определяют наличие механических и других дефектов в исследуемом светочувствительном маНа чертеже изображена примерная схема устройства для осуществления предлагаемого способа.Предлагаемый способ сводится к следующему,Неэкспонированную пленку 1 или тому подобный светочувствительный материал продвигают с малой скоростью лентопротяжным или тому подобным механизмом 2 перед соответствующим ширине пленки окном и освещают неактиничными, например, инфракрасными лучами от источника 3 через светофильтр 4. Просвечиваемый участок пленки посредством объектива 5 через второй светофильтр 6 проектируют на катод 7 фотоэлектронной трубки 8 в виде стеклянной колбы с двумя плоскими стенками, на Одной из которых внутри трубки нанесен...

Номер патента: 540249

Опубликовано: 25.12.1976

Авторы: Дробченко, Шварц

МПК: G03D 3/08

Метки: аппарате, фотоматериалов, фототелеграфном, экспонированных

...резервуаром трубками, нижиц 540249препятствует поступлению рабочей жидкости в трубку 7.При превышении рабочей жидкостью уровня в ванне 9, определяемого дозирующей трубкой 11, рабочая жидкость через дозирующую трубку 11 поступает в дополнительный резервуар 12.Когда вес рабочей жидкости в дополнительном резервуаре 12 превысит усилие пружины 13, дополнительный резервуар опускается и воздействует на контакты 14, которые через блок управления 15 прекращают подачу воздуха в основной резервуар 1 через трубку 3. Давление в основном резервуаре 1 понижается до атмосферного. При этом рабочая жидкость из трубки 5 сливается в основной резервуар 1. Клапан 8 открывается и рабочая жидкость из дополнительного резервуара 12 через трубку 4, штуцер...

Номер патента: 541139

Опубликовано: 30.12.1976

Авторы: Бондарева, Ростовский, Сантурян, Шефер

МПК: G03C 5/00

Метки: фотоматериалов, экспонированных

...ч, полиалкенилциннамата в присутствии радикальных инициаторов при температуре 20 - 80 С, В качестве диорганофосфита используют диметилфосфпт или диэтилфосфит, или дифенилфосфит.После взаимодействия частично структурированного полиалкилциннамата с диорганофосфитом при температуре распада инициаторов негатив обрабатывают известными способами.П р и м е р. Пленку поливинилциннамата(40 Х 40 мм, толщина 0,15 мм) экспонируют, 5 в случае надобности, с применением трафарета ультрафиолетовым светом (лампа ПРК, расстояние 50 см). При этом полимер частично структурируется, в результате чего пленка приобретает формоустойчивость для дальней шей обработки. Затем пленку обрабатываютдифенилфосфитом с 1% перекиси бензоила по отношению к полимеру при...

Номер патента: 608116

Опубликовано: 25.05.1978

Авторы: Устимов, Яковенко

МПК: G03C 11/24

Метки: негативных, пленок, позитивных, регенерации, рентгеновских, фотографических, фототехнических, экспонированных

...пленок путем окисления металлического серебра эмульсионных слоев пленок бромсодержащими соединениями калия на основе водного раствора 15 с соляной кислотой и последующего растворения полученного бромнда серебра и растворе гипосульфита натрия 12. 2Калий бром цоватокислКалий бромистыйСоляная кислотаВодаПроцесс снятия серебтонт из двух операций: окмом и растворение бромифитом натрий,Вывод серебра из раснатрия осуществляют путфида серебра растворомПленку погружают всостава:Калий бромноватокислый 50 гКалий бромистыйСоляная кислотаВодаНо мере осветления желтвора в процессе работыкислоту порциями по 2 мл,Пленку выдерживаю2 - 3 мин (до тех пор,ные места на пленке),и промывают водой.Затем пленку погружают в раствдующего состава;Гипосульфнт...

Номер патента: 862108

Опубликовано: 07.09.1981

Авторы: Недув, Пудожгорский

МПК: G03C 5/26

Метки: галогенидосеребряным, особомелкозернистых, проявления, слоем, фотоматериалов, фоточувствительным, черно-белых, экспонированных

...тепловую, обработку и фиксирование, тепловая обработка производится передопроявлением при температуре 40 - 60 С в течение 10 - 14 ч,Сущность способа заключается в том, чтопри тепловой обработке экспонированного фотослоя возникает тепловое движение межумльных ионов серебра, что приводит к рассасы.ванию центров скрытого иэображения, Однакоэтот процесс небеспределен, так как оставши.еся ионы серебра связаны амина- и карбоксильными группами желатины с образованием ком.плексных соединений, Таким образом, независи.мо от времени хранения скрытого изображения, тепловой обработкой можно вызватьпредельную регрессию центров, а затем латен.6П Время хранения после экспонирования, ч бочая при пло м,3 1,3 1,3 1,0 1,0 1,0 1,5 15 1,3 1,0 1,0 1,0...

Номер патента: 1645935

Опубликовано: 30.04.1991

Авторы: Алеев, Моргулис, Обыграйкин

МПК: G03D 3/02

Метки: фотоматериалов, экспонированных

...кольцо плавающего подшипника 21, сидящего в овальном гнезде боковой стенки.Покровная 1 и сопловая 8 пластины вместе с пластиной 22, установленной с возможностью перемещения в плоскости, параллельной плоскости движения фотоматериала,и контактирования с нижним входным транспортирующим роликом, на дне внутренней камеры стянуты винтом 23 и гайкой 24. В пластине 22 имеются овальные отверстия, позволяющие перемещать ее к нижнему ролику. Покровная пластина 7 имеет ребра жесткости а и Ь, предохраняющие ее от деформации при применении растворов с высокими температурами, и выступы с, кромки О которых притупляют, Сопловая пластина имеет прорези е с закругленными кромками,Устройство работает следующим образом.Циркуляционный насос 16 подает рабочий...

Номер патента: 1788506

Опубликовано: 15.01.1993

Авторы: Дворецкий, Жучков, Моргулис, Обыграйкин, Шилов

МПК: G03D 3/02

Метки: проявочная, фотоматериалов, фотохимической, экспонированных

...воды задается регулятором расхода, введенным в гидравлическую схему, а кратность циркуляции рабочего раствора обеспечивается работой циркуляционного насоса,Следует также иметь в виду, что для уменьшения амплитуды температурных выбросов необходимо обеспечить выключение нагревателей раньше достижения заданной температуры, Связано это с тем, что процесс разогрева нагревателей и передача тепла раствору есть процесс значительно более быстрый чем их охлаждение,К температурной стабильности промывной воды требования ниже, чем к рабочим растворам, Так согласно ГОСТ 13,506-80 аппараты для фотохимической обработки должны обеспечивать поддержание температуры:проявителя - в пределах +.0,5 С;других обрабатывающих растворов - в пределах -1...