Сеточный выпрямитель с игнайтором

Номер патента: 1821493

Опубликовано: 15.06.1993

Авторы: Емельянов, Лазаренко, Свистунов, Швец

МПК: C23C 14/02

Метки: металлических, поверхностей, сложной, формы

...тока регулировалась с понанесенных диэлектрических частиц, Если,20 мощью балластного сопротивления 9 и ревблиэи поверхности, площадь которой рав- гистрировалась с помощью шлейфовогона площади катодного пятна, есть поверх- осциллографа 10 с оптронной развязкой 11,ность покрытия высокодисперсными На поверхность изделий кистью наночастицами, то катодное пятно перемещает- силась 30% суспензия А 120 з в ацетоне. Конся на этот участокповерхности, Такое пере центрация А 120 з в суспензии подбираласьдвижение происходит до .тех пор, пока опытнымпутем, Прибольшем 30%содержасуществует поверхность покрытия этими ча- нии АЬОз покрытие после высыхания станостицами. Если частицнет,дуговой разряд вилось неоднородным, с трещинами, прип,реходит в...

Номер патента: 182245

Опубликовано: 01.01.1966

Автор: Степанищев

МПК: H03F 3/58

Метки: бегущей, волны, импульсной, компенсации, лампе, нестабильностей, сдвига, фазы

...электрод - замедляющая система,1-1 а чертеже изображена схема предлагаечого устройства.В устройстве использован пиковый детектор, состоящий из диода 1 с малым внутренним сопротивлением и ечкости 2 между фокуснрующим электродом и замедляющей системой.При подаче на ЛБВ импульса питающегонапр кения емкость 2 заряжается через диод 201 до амплитудного значения импульса.Емкость и диод выбирают так, чтобы напряжение на фокусирующем электроде достигало амгглитудного значения импульса черезвремя 1 эдр,ЗСР(С иип где тимп, дли тельность импульса питающего напряжения.В течение спада полочки импульса питающего напряжения диод заперт, а емкость раз. ряжается через паразитные утечки, Скорость разряда емкости т разр. = - Р пар.инп.1 следовательно,...

Номер патента: 802601

Опубликовано: 07.02.1981

Авторы: Абрамов, Ахметзянов, Ильин, Романенко

МПК: F04B 25/00

Метки: компрессор, электроразрядный

...боковых стенок параллельнодруг другу. 25 На чертеже показан общий вид компрессора. Электроразрядный компресоор содержит корпус 1 с всасызаюд 1 им и нагнетательным клапанами 2 и 3 и размещенные внч три корпуса два электрода4 и 5.Электроды 4 и 5 имеют плоскую.форму, подключены к генератору импульсных токов 6 и расположены вдольбоковых стенок параллельно друг другуеПри возникновении разряда между электродами 4 и 5 происходит нагрев и расширение газа, причем наибольшую температуру имеет газ, заключенный в объеме между электродами 4 и 5, а выходящий через клапан 3 гаэ имеет более низкую температуру.Для нагрева газа может быть использован не дуговой, а объемный импульсный разряд, КПд передачи энергии к которому от емкостного...

Номер патента: 810199

Опубликовано: 07.03.1981

Авторы: Говорун, Комяк, Крот, Храповицкий, Цекунов, Черенкевич

МПК: A23L 3/32

Метки: пищевых, продуктоврастительного, происхождения, хранения

...2массу (через 50 дней хранения в зимний период)Содержание сахаров э(для мандарин и яблок - в 2,4 и 1,5 разасоответственно),Характерно, что по содержанию витамина С все плоды, подвергавшиеся обработке,5моют более высокие показатели. 1 ериодинеская Бремя обработки,мин обработка0О,110 10 10 10 10 0 5 10 а10 1 10 0606060 На фиг, 1 - 3 изображена кинетика роста потерь общих сахаров (А) и витамина С (Б) в яблоках, апельсинах и лимонах при различных режимах хранения соответственно; 15 на фиг. 4 - изменение содержания общих сахаров (А) и кинетика роста потерь витамина С(Б) в моркови в процессе хранения при различных режимах озонно-аэроионной обработки; на фиг. 5 - изменение общей 20 кислотности (А) и сахарокислотного коэффициента (Б) яблок в...

Номер патента: 901357

Опубликовано: 30.01.1982

Авторы: Белан, Иващенко, Маштылев, Ткаченко, Шипилов

МПК: C23C 13/12

Метки: вакууме, многокомпонентных, нанесения, покрытий

...обеспечивает получение многокомпонентныхпокрытий, обладающих высокими эксплу".атационнымн свойствами.Формула изобретения. Устройство для нанесения многокомпонентных покрытий в вакууме,содержащее соосно размещенные расходуемый катод, анод, электромагнитную катушку, источник ионизованного газа, подложкодержатель и.источник электропитанйя, о т л и ч а -ю щ е е с я тем что, с целью улучшения качества покрытий за счет снижения микрокапельной фазы в пароплазменном потоке испаряемого материала катода, источник ионизованногогаза выполнен в виде полого цилиндрического катода, а расходуемый катодвыполнен с центральным отверстием, причем полый катод размещен вобласти, прилегающей к центральномуотверстию расходуемого катода.2. Устройство по п, 1....