Способ получения фотополимеризуемых элементов
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
(51) Ч Кл.з 6 03 С 11/ с присоединением заявкиГосударственныи комитет овета Министров СССР. Хорт и М. Б. Шпул 71) Заявител 4) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЕМЫХ ЭЛЕМЕНТОВИзобретение относится к области получения фотополимеризуемых элементов, которые могут быть использованы в полиграфии, электротехнике, электронике, радиотехнике и при изготовлении печатных плат.Известен способ получения фотополимеризуемых элементов путем нанесения слоя фотополимерной композиции на гибкую пленку- основу и переноса фотополимерного слоя на подложку 1.Недостатком этого способа является сложность переноса фотополимерного слоя на подложку, вызванная необходимостью производить термическое прессование, заключающееся в подплавлении самого фотополимерного слоя при температурах 50 - 120 С с последующей прикатной его к подложке под давлением. При использовании этого способа фотополимерный слой подвергается нежелательным температурным воздействиям, вследствие чего в качестве фотоинициаторов могут применяться вещества термоустойчивые и не термоактивные до 185 С. В качестве мономеров могут применяться преимущественно твердые вещества или высококипящие. В состав фотополимерного слоя должны входить ингибиторы термополимеризации, пластификаторы, а также легкоплавкие полимерные компоненты, совместимые со всеми ингредиентами состава и не ухудшалощие светочувствительности. Кроме того, слой необходимо высушивать до содсркания остаточного растворителя не более 0,5%, что является довольно сложной технологической задачей (в противном случае 5 при термопереносе возможно вскипанис остаточного растворителя, сопровождаемое появлением в слое газовых пузырей).Целью изобретения является упрощениепроцеСса переноса фотополпмеризуемого слоя10 на подложку.Это достигается тем, что подложку в известном способе получения фотополимеризуемых элементов перед нанесением слоя обрабатывают акриловой или метакриловои 15 кислотой или их эфирами.При холодном прессовании фотополимерной пленки на смоченную карбоксилсодержащим мономером подложку происходит подрастворение фотополимерного слоя и пред варительное его закрепление на подложке. Г 1 ри последующем экспонировании ультрафиолетовым светом происходит фотополнмеризация облучаемых участков пленки, а в пограничном слое фотополимер подложка под воздействием Уф-света мономср, с одной стороны, сополимеризуется с фотополимерной пленкой, а, с другой стороны, образует с металлом химическое соединение за счет образования коордиационных 30 связей.Формула изобретения Составитель Б. Сорокин Тсхред И. Карандашова Корректор Н, Аук Редактор Т. Никольская Подписное Заказ 2084/17 Изд. М 715 Тиранс 585 НПО Государственного когиитста Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж.35, Раушская наб., д. 4/5Типография, пр. Сапунова, 2 При этом прочное соединение фотополимерного слоя с подложкой происходит только в облученных участках, т. е. там, где образуется резистивное изображение, в участках, закрытых от воздействия ультрафиолетового света, прочного соединения фотополимерного слоя с подложкой нс происходит,вслсдствие чего при проявке резистивногоизображения указанные участки подложкилегко освобождаются от фотополимсра.Холодный перенос фотополимсризующихсяизображений позволяет:не вводить в состав низкоплавкую компоненту, ингибитор термополимеризации и пластификатор - все это упрощает и удешевляет фотополимеризующуюся композицию, ускоряет процесс приготовления и повышаетстабильность состава при хранении;использовать широкий ассортимент фотополимерных составов в качестве пленочныхфоторезистов, причем для этой цели становятся пригодными составы на фотоинициаторах,не отличающихся термостойкостью и без ограничений по термической активности, с применением широкого круга жидких летучихмономеров;упрощается конструкция ламинатора -вместо греющих башмаков с системой терморегулирования устанавливают увлажняющийвалок.П р и м е р. На лавсановую пленку-основутолщиной 25 - 2 мкм наносят раствор полиамидно-акрилатной фотополимерной композиции, сушат при температуре 50 - 70 С до образования воздушно-сухого слоя. Полученныйна пленке - основе фотополимерный слойтолщиной 20 мкм с помощью эластичных валков приводят в контакт с заготовкой платы,медная поверхность которой предварительнообработана акриловой или метакриловойкислотой или их эфирами,После прикатки под давлением 4 - 5 кг/см 2и выдержки, необходимой для прохождениярелаксационных процессов (45 - 60 мин), фотополимеризующийся слой облучают черезфотошаблон ультрафиолетовым светом, отслаивают от него лавсановую пленку - основу и плату помещают в проявочное устройство, где путем вымывания незасвеченных участков фотополимерного слоя получают необходимое рельефное изображение. Использование предлагаемого способа обеспечивает по сравнению с известными способами следующие преимущества:расширение ассортимента фотополимерных 5 композиций, пригодных для переноса фотополимеризуемых изображений (в настоящее время известны и начинают находить практическое применение не один десяток фотополимерных композиций, в то время, как пригод ны для термического переноса изображенийединицы);отпадает проблема подбора подходящихпар полимеров; основное пленкообразующее, отвечающее всем технологическим требовани ям, и легкоплавкая компонента, котораядолжна совмещаться с основным полимером и другими компонентами фотополимерного состава, хорошо растворяться в растворителе и проявляющих составах, не снижать свойст ва фотополимерного слоя;расширение ассортимента подходящих фотоинициаторов вследствие пригодности фото- инициаторов, не отличающихся термостойкостью;25 расширение ассортимента подходящих мономеров за счет возможности применения жидких мономеров;повышение производительности за счетувеличения скоростей сушки фотополимерных 30 слоев или снижения размеров сушилок (засчет снижения требований по остаточному растворителю в слое после сушки);повышение качества фотополимерных изображений за счет исключения прогрева фото полимерного слоя до состояния размягчения. Способ получения фотополимеризуемых 40 элементов путем нанесения слоя фотополимерной композиции на гибкую пленку - основу и переноса слоя на подложку, о тл и ч а ющ и й с я тем, что, с целью упрощения процесса переноса, подложку перед нанесением слоя 45 обрабатывают акриловой или метакриловойкислотой или их эфирами. Источники информации,принятые во внимание при экспертизе 50 1. Патент США М 3261686, кл, Сг ОЗС 11/12,94-96, 1966,
СмотретьЗаявка
2156655, 16.07.1975
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ В-8406
ХОРТ ГЕОРГИЙ ГРИГОРЬЕВИЧ, ШПУЛАК МАРИЯ БРОНИСЛАВОВНА
МПК / Метки
МПК: G03C 11/12
Метки: фотополимеризуемых, элементов
Опубликовано: 30.08.1977
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-570871-sposob-polucheniya-fotopolimerizuemykh-ehlementov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ получения фотополимеризуемых элементов</a>
Предыдущий патент: Способ формирования слоя фоторезиста
Следующий патент: Устройство для резки рулонных фотографических материалов с контактными метками на расстоянии шага фотокадра друг от друга
Случайный патент: Устройство для распределения световодных кабелей с односторонним расположением кабельных вводов