Способ определения чистоты обработкиповерхности

Номер патента: 508670

Авторы: Яковлев, Ярцева

ZIP архив

Текст

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ р 508670 Союз Советских Социалистических Республик61) Дополнительное 22) Заявлено 29,09.7 вт. свид-ву1) 1832266/25(51) б 01 В 113 явки Гч с присоединением Государственнын квинте Совета Министров ССС 23) ПриоритетОпубликовано 30,03.76. Бюллетень1 Дата опубликования описания 25.05.7(53) УДК 531,717,8(088.8 до делам изобретен и открытий(72) Авторы изобретени В. В, Яковлев и С. Еашкентский электротехническ це 71) Заявител институт свя(54) СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ЧИСТОТЫ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТ2 оты обв том,нтроливетовой не учиную на я развводит ты изочности руемую перпеного пои,коток будет лы навой нона,при- алгебмощью чистоту вета, кол- состоящее Изобретение относится к области контрольно-измерительной техники.Известны способы определения чистработки поверхности, заключающиесячто направляют световой поток на коруемую поверхность и регистрируют споток, отраженный от нее, Однако онитывают составляющую света, поглощенконтролируемой поверхности, которалична для различных материалов, чтонеконтролируемую ошибку в результамерения.Цель изобретения - повышение тизмерения.Для этого при испытаниях контролиповерхность поворачивают вокруг оси,дикулярной плоскости падения световтока, регистрируют угол наклона, прром отраженный от нее световой потом аксим альны м, затем регистрируют угклона, при которых отраженный светоток будет составлять заданную часть,мер, половину от максимального, и пораической разности этих углов с поградуировочных кривых определяютобработки поверхности.На чертеже доказано устройство, реализующее описываемый способ,Устройство содержит источник,1 слиматор 2 и приемное устройство,из оптической системы 3, фотоэлемента 4 имикроамперметра. 5,Процесс определения чистоты обработки поверхности по данному способу заключается в5 следующем.На контролируемую поверхность 6 направляют световой поток. Поворачивая образец,находят такое его положение, при которомпоказание микроамперметра 5 максимально,О снимают это показание. Наклоняют образецв одну сторону, пока показание микроамперметра 5 не станет вдвое меньше максимального, отсчитывают угол наклона, соответствующий этому положению образца. Наклоня 5 ют образец в другую сторону и отсчитываютугол наклона, при котором показание микроамперметра вновь будет вдвое меньше максимального. По алгебраической разности этихуглов с помощью градуировочных кривых опО ределяют чистоту обработки поверхности исследуемого образца.Формула изобретенияСпособ определения чистоты обработки по 5 верхности, заключающийся в том, что направляют световой поток на контролируемую поверхность и регистрируют световой поток, отраженный от нее, отличающийся тем,что, с целью повышения точности измерения,О поворачивают контролируемую поверхностьРедактор Т. Горячева Корректор Л. Орлова Заказ 1041/4 Изд.1216 Тираж 864 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д, 4/5Типография, пр. Сапунова, 2 вокруг оси, перпендикулярной плоскости падения светового потока, регистрируют угол наклона, при котором отраженный от нее световой поток будет максимальным, затем регистрируют углы наклона, при которых отраженный световой поток будет составлять заданную часть, например половину от максимального, и по алгебраической разности этих углов с помощью градуировочных кривых оп ределяют чистоту обработки поверхности.

Смотреть

Заявка

1832266, 29.09.1972

ТАШКЕНТСКИЙ ЭЛЕКТРОТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИ-ТУТ СВЯЗИ

ЯКОВЛЕВ ВЕНИАМИН ВАСИЛЬЕВИЧ, ЯРЦЕВА СВЕТЛАНА ЕГОРОВНА

МПК / Метки

МПК: G01B 11/30

Метки: обработкиповерхности, чистоты

Опубликовано: 30.03.1976

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-508670-sposob-opredeleniya-chistoty-obrabotkipoverkhnosti.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ определения чистоты обработкиповерхности</a>

Похожие патенты