Способ изготовления запол1инающей матрицы

О П И С А Н И Е 397968ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕРЬСТВУ Союз Советских Социалистических Респубпик( 174797618-24 Кл. 6 11 с 1114 аявлецо 14.11.19 присоедицениек аявкц хе риоритет сударственныи комитетавета Министров СССРпо делам изобретенийи открытий убликовацо 17.1 Х.1973. Бюллетец Ле 37 УДК 681.327.66(388.8 Дата опубликовацця опцсдцця 23.1.1971 Авторыизобретени В, Остапенко, В. В. Бушин, Т,и В. А. Писто рдена Ленина Институт кибернеаявитель МАТРИЦЬ ПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАПОМИНАЮ ЛЕДУО Изобретение относится к области вычислительной техники.Известен способ изготовления запоминаО- щей матрицы, по которому ца стскляш 1 ую подложку методом вакуумного Напыления Наносятся последовательно слои псрмаллоя и меди, из которых методом фотолитографии получают полосы, а на них методом электрол итического осаждения наносится еще один слой пермаллоя. В результате получается ряд полосковых лиций с замкнутым по осц легкого цамагцичивания магцитцым потоком.Известен также способ, согласно которому ца медную подложку последовательно наносят слои пермаллоя, меди и пермаллоя. Фотолитографией трех слоев получают разрядные шины. Затем всю систему покрывают фоторезистом, который металлизируют медным слоем, нанесенным методом вакуумного напыления, На напылецный слой наносят пермаллой, Фотолитографией двух слоев получают числовые шины.Однако эти способы имеют плохие рабочие характеристики, вследствие цеодцородности магнитных свойств слоев из-за различной структуры поверхностей, ца которые осаждаются слои и из-за нанесения загцитцых слоев последовательно во времени. Процесс изготовлсция матрицы такими способами изза большого числа последовательных опера. 1.9 1, :111 с . П. Боровских, Ю, П. Паневькорсики АН Украинской ССР трудоемок, д мдгнцтцый слой элсмсцОвбдцого разряда цс раздслсц.Целью цзобрстсцця является улучшсццс рдОочих характеристик, 1 п 130 щсццс ц мдсц 1 св,1 с 5 цие тсхцологци производства,Эта цель достигается тем, что ца обе стороны ФОльГи нднос 51 т слои маГННТНОГО дццзотропцого материала, который затем с обеихсторон фотолцтографцруют ца полосы, цд 10 правленные вдоль осц легкого намдгнц 1 пв 1 ция и совмсщсццыс между собой. Одну стороцу получсццой матрицы покрывают слоемэпоксидцой смолы, который полцмсрцзуют цполучсшпп слой металла методом фотолцто 15 Графии рдздел 51 ют ца дд 1 зссцыс проводццкц,цдправлсццыс вдоль осц легкого цдмагццчцвания магцитцых слоев, а фольгу с магнитными слоями - ца разрядныс проводники,направленные вдоль осц трудного цдздгцип 120 вация,Матрицу изготавливают с, щх образом.На тонкую фольгу с двух сторон одновременно наносят слоц дццзотропцого мапп 1 тцого25 материала с прямоугольной петлсц гистерезиса по Осц Леоо цакагццчцвдцця ц лцнсйцоцоси трудного цамагццчцвация. Магнитныеслои по обеим сторонам заготовки растравлцвают с помощью метода фотолитографии цдЗ 0 совмещсццыс друг с другом полосы, цаправ.397968 о Предмет изобретения Составитель В. Гордоиова Тсхред Т. КурилкоРедактор Л, Утехина Корректор О. Тюрина Заказ 26/18 Изд, Ла 9 Тираж 576 Подписное ЦНИИПИ Государствеппого комитета Совета Мишстров СССР по делам изобретений и открытий Москва, Ж, Раушскаи паб., д. 4/5Типография, пр. Сапунова, 2 ленные вдоль оси легкого намагничивания магнитного материала. Травление производят до фольги. Остатки фоторезиста, и одну сторону такой заготовки покрывают слоем эпоксидной смолы с отвсрдитслем. Смолу подвергают полимсризации. Слой полимера металлизируют. С помощью метода фотолитографии на мсталлизированной стороне получают полосы, ориентированныс вдоль оси легкого намагничивания адрссныс проводники) и со стороны фольги с мапитным слоем - ра;ядные проводники, орпсн гированные вдоль оси трудного намагничивания.После травления задубленный фоторсзист убирают с покрытых магнитных слоев разрядных проводников и торцы проводников заращивают слоем мапитного материала, Затем остатки фоторезиста с адрссных проьодников убирают и иа адресные проводники мс. тодом элсктрофорсза наносят магнитный киппср.Предлагаемый метод изготовления запоминающих матриц позволяет получить по упрощенной тсхюлогии и на недорогостоящсм технологическом оборудовании однородные по магнитным свойствам качественныс магнитныс пленки, в результате чего значительно улучшаются характеристики элеменТов запоминаощих матриц. Способ изготовления запоминающей матри.цы путем нанесения слоев магнитного материала на фольгу, отличающийся тем, что, с10 целью улучшения рабочих характеристик,упрощения и удешевления технологии производства, на обе стороны фольги наносят слоймагнитного анизотропного материала, который затем с обеих сторон фотолитографи 15 руют на полосы, направленные вдоль оси легкого намагничивания и совмещенные междусобой, одну сторону полученной матрицы покрывают слоем эпоксидной смолы, которыйполимеризуют, затем слой смолы металлизи 20 руют и полученный слой металла методом фотолитографии разделяют на адресные проводники, направленные вдоль оси легкогонамагничивания магнитных слоев, а фольгу смагнитными слоями - на разрядные провод 25 ники, направленныс вдоль оси трудного намагничивания,