Реактор для эпитаксиального наращивания
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 339245
Авторы: Архиповг, Бабушкин, Веремейчук, Домницкий, Эмке
Текст
Союз СоветСких Социалистических Республик, Кл. Н 011 7/68 исоединением за киКомитет по деламобретений и открытийри Совете МинистровСССР риоритетпубликовано 21.1 Х. 72. Бюллетень Ъо 2 621,328 (088.8 та опубликования описания 8.1.197 Авторыизобретен Вере мейчу ЮМ, М. Бабушкин, И. Ф , Эмке и А, С. Архипо 3 аявител РЕАКТО П ИТАКСИАЛ ЬНО ГО НАРАЩИ ВАНИ эпитаксиального наращивания удаляо слой напыленного вещества. Однако ает неудобство в эксплуатации и приснижению качества напыляемых плеа после ют с нег это создводит к 5 нок. Цель изобретения - повышение качестванаращиваемых слоев. Достигается это тем, что в предлагаемом реакторе держатель индуктора выполнен в виде кварцевого стакана, 10 герметично вмонтированного в верхний фланец кожуха, причем индуктор установлен внутри держателя, а витки его катушки расположены вплотную к внутренним стенкам кварцевого стакана (держателя). Подложко держатель также выполнен в виде стаканаохватывающего снизу держатель индуктора.Такое выполнение реактора позволяет полностью изолировать индуктор от рабочей среды и герметизировать кожух с помощью 20 единственного уплотнения между подложка.держателем и верхним фланцем колпака.Описываемый реактор изображен на чертеже.Внутри стального охлаждаемого водой ко жуха 1 на вращающемся валу установленподложкодержатель 2 в виде графитового стакана. В верхнем фланце 8 кожуха 1 крепится держатель 4 индуктора, представляющий собой кварцевый стакан с расположен ной внутри него катушкой б. Витки катушки,Изобретение относится к производству полупроводниковых приборов. Устройство может быть использовано для эпитаксиального наращивания слоев полупроводниковых материалов, в частности германия или кремния.Известны реакторы для эпитаксиального наращивания слоев полупроводниковых материалов, выполненные в виде стального кожуха (колпака), охлаждаемого водой, внутри которого размещается графитовый подложкодержатель. Подложкодержатель представляет собой полый цилиндр, внутри которого установлен индуктор, состоящий из кварцевого держателя и катушки, причем катушка расположена на внешней стороне держателя. Колпак снабжен штуцерами для подачи рабочего газа. Такая конструкция реактора не обеспечивает достаточной герметизации индуктора от газовой среды, так как создание надежного вакуумного уплотнения между основанием кожуха и вращающимся подложкодержателем при 1500 С вызывает большие технические трудности. Поэтому индуктор в процессе работы покрывается слоем напыляемого вещества, например кремния, что приводит к короткому замыканию витков катушки. Кроме того, индуктор в свою очередь вносит загрязнения, что ухудшает качество выращиваемых пленок. Для защиты индуктора на него наносят покрытия, например золото,)ницкии ),. ,, . рур )ы .с. и",. ) г)ькова ллова орректоры: Л,иЛ,К Заказ 4181(10 Изд.1547 Тираж 406 ПодписноеЦНИИПИ Комитета по делагв изобретений и открытий при Совете Министров СССРМосква, Ж-З 5, Раушская наб., д. 4(5 Типография, пр. Сапунова, 2 изготовленные точно по внутреннему диаметру держателя, служат для его охлаждения. Подложкодержатель 2 охватывает держатель индуктор а снизу. Фланец ч выполнен съе.,- ным, Коллекторы 6 служат для подачи рабочей газовой смеси и отвода продуктов реакции. Работает реактор следующим образом, В гнезда подложкодержателя 2 загружают полупроводниковые пластины, после чего реактор герметично закрывают, Затем пода 1 от воду для охлаждения реактора, продувают его азотом, включают индукционный нагрев подложкодержателя и подают через коллектор 6 рабочую газовую смесь. Предмет изобретения5 Реактор для эпитаксиального наращиванияслоев полупроводниковых материалов, содержащий охлаждаемый кожух, вращающийсяподложкодержатель, индуктор, кварцевыидержатель индуктора, отличающийся тем,10 что, с целью повышения качества наращиваемых слоев, индуктор установлен внутри егодержателя, который выполнен в виде стакана,герметично закрепленного на верхнем фланцекожуха реактора,
СмотретьЗаявка
1387277
Н. С. Веремейчук, М. М. Бабушкин, И. Ф. Домницкий, Ю. Л. Эмке, А. С. АрхиповГ
МПК / Метки
МПК: H01L 21/36
Метки: наращивания, реактор, эпитаксиального
Опубликовано: 01.01.1972
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-339245-reaktor-dlya-ehpitaksialnogo-narashhivaniya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Реактор для эпитаксиального наращивания</a>
Эпитаксиальный реактор
Номер патента: 1541689
Опубликовано: 07.02.1990
Авторы: Веселы, Микишка, Слезак
МПК: H01L 21/205
Метки: реактор, эпитаксиальный
...в рассеивателе диаметр отверстий в заслонке в два раза больше величины диаметра в рассеивателе, причем шаг расположения отверстий в заслонке меньше шага расположений отверстий рассеивателя на величину диаметра отверстия последнего, а выходной фланецснабжен трубчатым охладителем газов.На Фиг. 1 приведен эпитаксиальныйреактор, общий вид в Фронтальнойпроекции; а на Фиг. 2 - то же, в горизонтальной проекции; на фиг. 3входной Фланец, фронтальная проекция;на фиг. ч - то же, горизонтальнаяпроекция; на фиг. 5 - разрез А-А наФиг, .; на фиг, 6 - взаимное распо 1ложение рассеивателя и заслонки; наФиг. , - выходной фланец, фронтальная7проекция, на Фиг. 8 - сечение Б-Б наФиг. 7.Реактор содержит опорную системувходной фланец 2, кварцевую трубу 3,...
Рентгеновская трубка
Номер патента: 473237
Опубликовано: 05.06.1975
Автор: Храбров
МПК: H01J 35/02
Метки: рентгеновская, трубка
...оболочку, состоящую из металлической части 1, катодното изолятора 2 и выгодного окна 3, вакуумноплотно скреплщшыг между собой. Выгодное окно 3 выполнено в виде полусферы из бериллия. На внутреннсй повсргности окна создан антикатод 4, которым является слой металла с большим атомным номером, в частности рения,Лнтпкатод 4 имеет надежный электрический копгакт с металличсской частью 1 оболочки, которая одновременно служит выводом анти- катода.Через изолятор 2 вдоль его оси проходит катодный вывод 5 в виде полой трубки, кото. рая одновременно является штенгелем, герме. тизируемым после откачки внутренней полости трубки, На выводе 5 установлен подогревный оксидпый катод 6 в виде полусферы, копцентрично расположенной относительно...
Подвеска для электрохимической обработки деталей
Номер патента: 1611996
Опубликовано: 07.12.1990
МПК: C25D 17/06
Метки: подвеска, электрохимической
...цилиндрической формы,Целью изобретения является повышение качества обработки деталей,Нв фиг.1 изображена подвеска, общий вид; на фиг.2 - сечение А - А на фиг,1,Подвеска для электрохимической обработки деталей состоит из блока 1, защитного слоя 2, электромагнитов 3, токоведущих шин с держателями 4, обрабатываемых изделий 5 и рымболта 6,В процессе работы на держатели 4 укладываются изделия 5 и с помощью грузо- подъемного манипулятора за рымболт 6 блок 1 опускают в гальваническую ванну, На токоведущие шины подается ток необходимой полярности, а на последовательно соединенные катушки электромагнитов - прерывистый постоянный или выпрямленный ток необходимой величины.Держатели изделий имеют вид крюка, причем его прямолинейная часть...
Бассейновый ядерный реактор и способ аварийного охлаждения бассейнового ядерного реактора
Номер патента: 1648209
Опубликовано: 30.06.1994
Авторы: Доронин, Зверев, Иванов, Романов
МПК: G21C 15/18
Метки: аварийного, бассейнового, бассейновый, охлаждения, реактор, реактора, ядерного, ядерный
1. Бассейновый ядерный реактор, содержащий активную зону с горизонтальными экспериментальными каналами, бак аварийного охлаждения, контур принудительной циркуляции теплоносителя с насосом, перегородку, разделяющую бассейн на надзонное и подзонное пространства и установленную не ниже верхней отметки горизонтального экспериментального канала, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности, ядерной и радиационной безопасности реактора и увеличения времени на устранение аварии, вызванной разгерметизацией оболочек подзонного пространства за счет уменьшения утечек теплоносителя и обеспечения надежного расхолаживания реактора, он снабжен дополнительной магистралью с клапаном, вход в которую расположен в напорной части контура, а выход - в...
Устройство для получения многослойной ленты
Номер патента: 1792816
Опубликовано: 07.02.1993
Авторы: Стефанов, Фрейдин, Шур
МПК: B23K 20/04
Метки: ленты, многослойной
...ленты обеспечивается их подогрев непосредственно упрокатных валков, что улучшает условиядеформации и плакирования ленты, улучшает ее качество (исключение надрывов,повышение сцепления составляющихмногослойной ленты). Благодаря тому, чтона торцевых частях индукторов установлены направляющие в виде раструбов, улучшаются условия заправки и центрированияленты, что улучшает условия устойчивостипрокатки и помогает избежать пблучениесерповидности полуфабриката, т.е. такжеулучшает качество получаемой ленты, Изготовление раструбов из немагнитного материала обеспечивает отсутствие наводки вних вторичных индуктированных токов и,следовательно, искажение магнитного поляиндукторов и неравномерность нагрева полосы.Нафиг. 1 схематично изображено...
Предыдущий патент: Способ изготовления переключающего диода
Следующий патент: Полупроводниковый индуктивный элемент
Случайный патент: Затвор для сосудов