Устройство для изготовления объемно-пористых анодов оксидно полупроводниковых и электролитических конденсаторов

Номер патента: 211671

Автор: Марченко

ZIP архив

Текст

ОПИСАНИЕИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ 2 И 671 Союз Соаетоких Социалистических Республик(088.8) Комитет ао делам изобретений и открытий ори Сосете Мииистроа СССРАвторизобретения Б, И. Марченко Заявитель УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОБЪЕМНО-ПОРИСТЫХ АНОДОВ ОКСИДНО-ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ И ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИХ КОНДЕНСАТОРОВ Известные устройства для изготовления обьемно-пористых анодов оксидно-полупроводниковых и электролитических конденсаторов спеканием порошка металла токами высокой частоты, содержащие подключенный к генератору высокой частоты спиральный индуктор, охватывающий вакуумированную кварцевую камеру, внутри которой на опорном элементе установлены заготовки спекаемых анодов, не обеспечивают одинакового качества спекания.В предлагаемом устройстве для спекания объемно-пористых анодов токами высокой частоты под вакуумом применен короткозамкнутый танталовый цилиндр - основание, на который насаживают поэтажно плоские танталовые кольца, по окружности которых размещают спекаемые аноды. В устройстве спекание анодов осуществляют при температуре 1900 - 2000 С с лучшими качественными и экономическими результатами. В зоне спекания полностью отсутствуют инородные металлы, могущие загрязнять аноды. Спекание анодов происходит при более равномерной температуре.На чертеже представлен разрез устройства для изготовления объемно-пористых анодов.Технологию спекания анодов из порошка металла, например, танталового порошка, при температуре 1900 - 2000 С, осуществляют под высоким вакуумом. В процессе спекания идет непрерывно дегазация анодов путем вакуумной обработки их в кварцевой камере 1, установленной в вертикальном положении и имеющей сообщение через фланец 2 с вакуумным насосом, Во внутренней части кварцевой камеры на кварцевой подставке 3 установлен короткозамкнутый цилиндр - основание, на который насажены поэтажно плоские танталовые 10 кольца с размещенными по окружности спекаемыми анодами 4, Б, 6. Танталовые экраны 7, 8, 9 экранируют внутреннюю поверхность кварцевой камеры, Камеру охлаждают водой.Для получения анодов используют массу 15 из порошка металла и органического связующего материала.Нагрев опрессованных анодов до удаления связки и соединения зерен порошка осуществляют энергией, выделяемой в плоских танталовых кольцах, На конечном процессе спекания энергия выделяется так же непосредственно в спекаемых анодах.С наружной части кварцевой камеры установлен высокочастотный индуктор 10. 25Предмет изобретенияУстройство для изготовления объемно-пористых анодов оксидно-полупроводниковых и электролитических конденсаторов спеканием ЗО порошка металла токами высокой частоть.:акая 8 о,Тираж 530 Подписное 1.3 П 1 Когиитета по делали изобретений и открытий при Совете Министров СССР Москва, Цеитр, пр, Серова, д. 4Типография, ир. Сапунова, 2 содержащее подключснный к генератору высокой частоты спиральный индуктор, охватывающий вакуумированпую кварцевую камеру, внутри которой на опорном элементе установлены заготовки спекаемых анодов, отличаюи 1 ееся тем, что, с целью улучшения качества спекания, в качестве опорного элемента используется короткозамкнутый цилиндр из тантала, вдоль которого на одинаковом расстоянии один от другого размещены танталовые диски, по окружности которых установлены заготовки спекаемых анодов.

Смотреть

Заявка

1121563

Б. И. Марченко

МПК / Метки

МПК: H01G 9/052

Метки: анодов, конденсаторов, объемно-пористых, оксидно, полупроводниковых, электролитических

Опубликовано: 01.01.1968

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-211671-ustrojjstvo-dlya-izgotovleniya-obemno-poristykh-anodov-oksidno-poluprovodnikovykh-i-ehlektroliticheskikh-kondensatorov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для изготовления объемно-пористых анодов оксидно полупроводниковых и электролитических конденсаторов</a>

Похожие патенты