Эллипсометрический способ контроля качества полирования образца

(51 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТН А ВТОРСНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ И ельни о СССР ПОСОБ КОНТ ОБРАЗЦАе ех едй изготовлении, видеокамер.ества нием ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИЯПРИ ЖНТ СССР(54) ЭЛЛИПСОМЕТРИЧЕСКИЙ СОЛЯ КАЧЕСТВА ПОЛИРОВАНИЯ(57) Изобретение относится к изм рительной технике, в частности к тодам наразрушающего контроля в нологии обработки ферритов на пр приятиях оптической и электронно промьпцленности. Пель изобретения повышение чувствительности контр Изобретение относится к измерительной технике, в частности к методам неразрушающего контроля в технологии обработки, и может быть использовано на предприятиях оптической и электронной промъш 1 ленно сти принапример, записывающихЦель изобретения - повышение чувствительности контроля кач полирона 11 ия образцов из феррита за счет помещения этого образца в маг- НИТНОЕ ;1 ОЛЕ С Пс .ЛЕДУЮЩИМ ВРаЩЕСпособ осуществляют следующим образом.Образец из форрита помещают в магнитное попе так, чтс контролируемая плоскость 1,-рвлпепь 11 а, и затем перпендикулярна ектору напряженности маг нитного испи, а образец и(цли) магкачества полирования образцов изферрита. Способ заключается в том, .что устанавливают угол падения светаи азимут поляризатора и анализатораэллипсометра, Помещают контролируемый образец из феррита в магнитноеполе так, что контролируемая плоскость параллельна, а затем перпендикулярна вектору напряженности магнитного поля. Образец и(или) маг -нитное поле вращают относительнодруг друга, сохраняя их взаимную ориентацию, а оценку качества полирования производят сравнением с эталономпо эллипсометрическим параметрамизмеренным при одинаковой ориентацииобразца и эт, чона относительно внешнего магнитного поля. нитное поле вращан т один относите 1 ьно другого, сохраняя цх взаимную ориентацию, а оценку качества полирования производят сравнением с эталоном по эллипсометрическим параметрам(минимальная эллиптичность), измеренным при одинаковой ориентации образца и эталона относительно внешнегомагнитного поля.При наложении внешнего магнитного поля на образец цз феррита изменяется состояние поляризации страженного от поверхности образ 1 а из ферритапервоначальн.и 1 нсй 1.-поляризованного света вследствие влияния намагниченности. Это извест ия. эффект Керра, падающий под углом лииейио в исляризованньп свет ирис бретиет после отражения ст поверхисстц Феррцта эллиити1536199 ле, и в поверхностном слое частицы Составитель Л. Лобзова Техред М,Ходанич Корректор 11.Мпксимишинец Редактор Н, Горват Заказ 100 Тираж 482 1 тодписносВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при 13.ПТ СССР113035, Москва, Ж, Раушская наб д. 4/5 1 11Производственно-издательский комбинат Патент, г.ужгород, ул. г: г,1 рп пч,01 ческую поляризацию и изменяет свою интенсивность.Известный эффект использован для контроля нарушений в поверхностном слое ферритов после мехобработки, т,е. на основе эффекта Керра в описываемом способе количественно анализируется совершенство структуры полированной поверхности феррита. Чем выше совершенство магнитной структуры, тем условия отражения ближе к отражению от образца с идеальной поверхностью. Этот магнитно-оптический эффект обладает высокой чувствительностью.Контроль качества полированной поверхности производят бесконтактным эллипсометрическим методом, Схема (не показана) включает ртутно-кварцевую лампу, поляризатор, устанавливаемый последовательно под азимутамио- 0 и 90 относительно плоскости падения, образец иэ феррита, анализатор, ориентированный под фиксироованным азимутом= 25 , и монохроматор, выделяющий ртутную линию. В способе использовано свойство ферритов намагничиваться в магнитном пополучают преимущественную ориентациюмагнитной структуры, зависящую в своюочередь от наличия нарушений на по 5верхности. Формула изобретенияЭллипсометрический способ контролякачества полирования образца, заключающийся в том, что устанавливаютугол падения света и азимут поляризатора и анализатора эллипсометра,измеряют эллипосометрические параметры сравнением с эталоном и оцениваюткачество полирования образца, о т л ич а ю щ и й с я тем, что, с цельюповышения чувствительности контролякачества полирования образцов изферрита, помещают в магнитное поле 2 О контролируемой плоскостью параллельно и перпендикулярно вектору напряженности магнитного поля, каждый раз производят относительное вращение образца и магнитного поля, сохраняя их вза имную ориентацию, а оценку качестваполирования производят сравнением сэталоном по эллипсометрическим параметрам, измереннь 1 м при одинаковойориентации образца и эталона относительна магнитного поля.