Долото

Номер патента: 1670390

Опубликовано: 15.08.1991

Авторы: Бубис, Долик, Образцов, Подоба, Серегин, Федина

МПК: G01B 11/24, G01B 9/02

Метки: интерферометра, кривизны, оптических, поверхностей, помощью, радиусов, сравнения, сферических

...пластинку 5 рассеивается, образуя расходящийся рабочий пучок, который освещает образцовое зеркало 6 и контролируемые зеркала 7 и 8. Отразившись от всех зеркал, рабочий пучок возвращается к рассеивающей пластинке 5, проходит через нее и интерферирует с опорной сферической волной. Интерферометр 1 перемещают к центру кривизны образцового зеркала до появления на его поверхности прямых интерференционных полос, Подвижками контролируемых зеркал 7 и 8 выравнивают длины хода опорного пучка и частей рабочего пучка для каждой поверхности до появления на всех поверхностях в белом свете интерференционных полос максимально возможного контраста с одинаковой частотой и ориентацией. После этой операции контролируемые поверхности пересекают...

Номер патента: 1153372

Опубликовано: 30.04.1985

Авторы: Епишин, Заславский, Неофитный, Пржевский

МПК: H01S 3/00

Метки: излучения, кривизны, пучка, радиуса, фазового, фронта, электромагнитного

...дифракционной картины и определение по параметрам этой картины искомого радиуса кривизны, дифракционную картину регистрируют в плоскости мультиплицированного изображения данной структуры по отношению к падению на нее плоской волны, определяют на одном периоде упомянутой картины отношение максимальной интенсивности поля в "области расположения искаженной тени к минимальной интенсивности поля в области неискаженной тени, по которому изкалибровочной кривой находят модульискомого радиуса кривизны, Фиксируют взаимное расположение указанныхтеней по отношению к калибровочнойметке и по нему определяют знак радиуса кривизны фазового фронта исследуемого пучка излучения,В основу способа положен тотФакт, что прп падении па редкую...

Номер патента: 1747895

Опубликовано: 15.07.1992

Авторы: Богомолов, Борейко, Еськов, Захаренков, Линский, Образцов, Подоба, Серегин, Фирсов

МПК: G01B 21/00

Метки: интерферометра, кривизны, оптических, поверхностей, помощью, радиусов, сравнения

...зеркала10 и 11, возвратный отражатель 21, прямаяреперная,линия 22 в поле зрения интерферометра.На фиг.4 показаны пробные стекла иконтролируемые поверхности при значительных отклонениях радиусов кривизныпробных стекол от номинального значения,вид сверху: пробные стекла б - 8, контролируемые зеркала 10 и 11, возвратный отражатель 21, прямая реперная линия 22. На фиг,5 показаны пробные стекла и контролируемые поверхности, размещенные на общей раме, при смещении интерферометра из центра кривизны поверхностей сравнения, вид сверху; пробные стекла б - 8, контролируемые зеркала 10 и 11, жесткая рама 9, возвратный отражатель 21, прямая реперная линия 22.На фиг.б приведен пример реализации способа с наклонной осью интерферометра при...

Номер патента: 373520

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Григорьев, Ершова, Жуковска

МПК: G01B 11/255, G01B 9/02

Метки: вогнутой, кривизны, несферичности, поверхности, прибор, радиусов, сферической

...в диске 8, закрытые заглушками И.Эталонный шар 1 выполнен в соответствии сноминальным радиусом контролируемой детали 7.ЗС Конструкция прибора позволяет производить смену эталонного шара 1 и измерительных наконечников 5 в соответствии с размерами контролируемой детали 7,На корпусе 9 предусмотрены посадочныеместа для крепления установочного устройст 5ва на оправе объектива 15 интерферометра(интерферометр для контроля плоских поверхностей),Предварительно собранное установочноеустройство располагается на интерферометре,эталонная пластина которого снята.После установки устройства на интерферометр производится регулировка измерительного клина, который создан плоской поверхностью пяты 10 и поверхностью плоскопараллельной стеклянной пластины...

Номер патента: 1291856

Опубликовано: 23.02.1987

Авторы: Лудвиг, Ортруд

МПК: G01N 23/20

Метки: кривизны, кристаллов, радиуса

...для исследования несложного устройства, предъявляющего незначительные требования к юстировке, а также простота измерений, оценки результатов, Так как для испытания всего кристалла достаточно построение одной кривой качания, скорость измерения высока, При подборе подходящих эталонных кристаллов возможно высокопроизводительное серийное испытание. Аппаратурные требования по Сравнению с известными двухкристальными дифракционными устройствами незначительны, так как испытание осуществляется только с .точностью до угловых минут (а не угловых секунд). Кривая качания неизогнутого и немозаичного (идеального кристалла) имеет ширину10,1-0,5 . Это осуществляется за счет1291856 применения пучка, расходящегося ввертикальной плоскости, что...