Всесоюзная мшш4х; -; г-шбтисг; -“

Номер патента: 138352

Опубликовано: 01.01.1961

Автор: Васильев

МПК: E04F 21/12, E04G 21/04, F04F 1/16

Метки: бетона, нанесения, поверхность, слоя, уплотненного

...шнеком, шаг винта которого уменьшается в направлении от питателя к камере пневматического прессования, питаемой сжатым воздухом пониженного давления против воздуха, подаваемого в нижнюю часть дозатора.На фиг. 1 изображено устройство; на фиг. 2 - схема разводки шлачгов.Устройство для нанесения на поверхность слоя уплотненного бетона состоит из тележки 1, бункера 2 с ситом 3 и сотрясательным механизмом 4, смесительной камеры 5, питателя б, дозатора 7, электродвигателя 8, гибкого шланга 9 с соплом 10 и гибких шлангов 11, 12, И, 14 и 15.От электродвигателя 8 через редуктор 1 б вращение передается валу 17 шнекового питателя б и валу 18 дозатора 7, от которого посредством цепной передачи 19 приводится вал 20 сотрясательного механизма...

Номер патента: 594276

Опубликовано: 25.02.1978

Авторы: Квитко, Стабников, Хазанов, Хоминский

МПК: E04D 5/12

Метки: гидроизоляционного, изделия, клеющим, нанесенным, него, поверхностью, рулонного, слоем, соединения

...оулонного материала с нанесенным на него клеющим слоем,с поверхностью изделия, предусматривающийраскладку рулонного материала и прижатие 20его к поверхности изделия 121.Недостатком этого способа является невысокое качество гидроизоляции изделия.Белью изобретения является повышениекачества гидроизоляции изделия. 25 динжстроя и Ленинградскийции и Трудового КрасногВ, Плеханова594276 35 жимают рулонный материал 5 рабочим катком 8. При включении источника 7 электромагнитных волн между ним и поверхностью1 возникает бегущее электромагнитное поле,воздействующее на материал изделия 1, слойдиэлектрического материала 3 и рулонныйматериал 5. Тангенс угла диэлектрическихпотерь асфальтита на 2 - 3 порядка выше,чем у изделия и клеюшего...

Номер патента: 38989

Опубликовано: 30.09.1934

Автор: Рихард

МПК: B23K 5/18

Метки: доведенных, жидкого, металлических, металлов, нанесения, окисляющихся, поверхность, покровов, состояния, сплавов, твердых, трудно

...ие привели к надежным результатам.Предлагаемый способ заключается в нанесении на поверхность металлических изделий из тонкого слоя покровов из трудно окисляемых и твердых сплавов, в состав которых входят 30 в,хрома, 10 о никеля и 60 оо железа, а также 15 о вольфрама, 10 о никеля, 5 а, меди и 70 ОО железа, причем весьма пригодными для таких сплавов примесями оказались обычно применяемые для изготовлении стали элементы в ванад и титан, Такого рода сплавы, приведенные в капельно-жидкое состояние, поддаются вполне гомогенному и нераздельному соединению с такими менее ценнымн материалами, как .железо, проч причем покровный, из данныхсплавов, слой достигает толщины не более 2 - 3 мм. То обстоятельство, что покровный слой сплава и под ним...

Номер патента: 71003

Опубликовано: 25.10.1977

Авторы: Лившиц, Розенталь

МПК: B23P 1/14

Метки: между, металлов, расстояния, установке, электродом-изделием, электродом-инсрументом

...ступенчатость регулирования приводят к прерывистому протеканию процесса, чторезко снижает производительность установки. 3 предлагаемом устройстве используют соленоиды, питаемые током зарядной цепи, с сердечником, представляюаим собою деркавку электрода или сам электНа чертеже показана принципиальная схема предлагаемой установки бесконтактного действия,При достижении на конденсаторе С напряжения И пр, равного пробивномудля разрядного промежутка а, последний будет пробит, и при этом произойдетперенос искрой материала эдектрода. Конденсатор разрядится до напряжения потухания искры, цепь разорвется и схема подготовлена к новому циклу.В установившемся процессе эрозийного переноса металла при данном режиме опредеденному искровому промежутку...

Номер патента: 433570

Опубликовано: 25.06.1974

Авторы: Митрофанов, Смирнов, Чеховской

МПК: H01L 21/304

Метки: выступающих, дефектов, поверхности, слоев, удаления, эпитаксиальных

...удаляя выступающие дефекты, могутповредить эпптаксиальный слой.Цель изоорстения - создание способа, позволяющего повысить качество поверхностиэпитаксиальных слоев, т. е. удалить острые10 выступающие дефекты без влияния на остальную поверхность эпитаксиального слоя,Это достигается тем, что предварительновсю поверхность эпитаксиального слоя окисляют, а шлифование осуществляют с по 15 мощью плоского полировальника с канавкаНа чертеже схематически представлена полупроводниковая пластина с эпитаксиальнымслоем на операции обработки с помощью20 плоского полировальника,По предлагаемому способу после эпитаксиального выращивания слоя 1 на полупроводниковой пластине 2 всю поверхность эпитаксиального слоя 1 окисляют. Окисел выполня 25 ет функцию...