Способ изготовления фотошаблонов, матриц

Номер патента: 122380

Опубликовано: 01.01.1959

Автор: Бурмистров

МПК: C25F 3/08

Метки: кварц, нанесенной, например, пленки, поверхности, подложку, стекло, стойкую, травления, хрома

...металла в вакууме на стекло, кварц, а также накие подложки и травится по рисункам, выгравированнымупорной основе, или по фотографическим изображениям наном слое коллоида или смолы раствором марганцовокис,ппоследующим осветлением или соляной кислоты с припудривками металла (например, цинка или алюминия), выделтравлении водород.В последнем случае травление можно прос металлической поверхностью, например, пили алюминия. хрома, получе- лговечнк очные изображения, не лочам и кислотам без аспылением другие стойна кислото- хромированого калия с анием опиляющего при изводить в контакте слоя ластиной из листа цинка едмет изобретен о с Способ травления поверхности хрома или пленки хрома, нанесенноп на стойкую подложку, например, стекло,...

Номер патента: 326535

Опубликовано: 01.01.1972

Автор: Фурман

МПК: G02B 5/28

Метки: диэлектрикови, металла, наносимых, подложку, последовательно, слоев, толщины

...лучистый поток от источника, например лампы накаливания. Поток, прошедший через образец, проектируют на входную щель монохроматора, расположенного вне вакуумной ка- ЗО меры. Выдслесцсьссс моцохроматором поток заданного спектрального состава направляют ца приемник лучистой эссергсссс, например фотоумножитель. Сигнал, возникающий на приемнике, подают ца регистрирующее устройство, показания которого линейно связаны с пропусканием образца.Сначала нд подложку наносят диэлектрическое покрытие, состоящее цз чередующихся четвертьволновых слоев с высоким и низким показателямп преломления. Контроль диэлектрических слоев производят на длине волны Лс, соответствующей наибольшему отражецшо диэлектрического покрытия, После нанесения...

Номер патента: 367747

Опубликовано: 07.04.1983

Авторы: Златковская, Китаев, Плоских, Чернышева

МПК: C25D 5/54

Метки: диэлектрик-металл, комбинированной, металлизации, поверхности, подложки

...получения покрытия, прочно сцеплен- .ного как с диэлектриком, так и сметаллом. При этом полученное электрическое покрытие обладает стабильными электрофизическими и механическими свойствами,Сущность предложенного способазаключается в том, что после сенсибилизации изделие , выполненноеиз диэлектрика и металла, активируют в растворе хлористого палладия. В процессе активации на поверхности изделия контактно оседаетпленка металлического палладия.Эта пленка имеет хорошее сцепление с поверхностью диэлектрическойчасти подложки и обладает стабильной электропроводностью (от десятых долей ома до десятков ом), достаточной для непосредственного осуществления электрохимического про,цесса наращивания металлическогослоя до необходимой толщины.Вместо...

Номер патента: 657077

Опубликовано: 15.04.1979

Авторы: Аренсбургер, Пирсо

МПК: C22C 29/00

Метки: карбида, материал, основе, спеченный, хрома

...является спеченн ость люзаторовоздухе арбида хром, сод ль 5-50; фосфор 0 ча остальное 21 основе с.%: ни рбид хр окунанием 1 зделие с ащитн с присоединением заявк(23) Приоритет -ение относится к порошковойи, в частности к покрытиям,в качестве компонента провного действия карбиды металнно карбид хрома,ы износостойкие покрытия, напорошковых смесей, содержаы металлов, в том числе кари металлическую связку, вклюементы, которые способствуюттемпературы ее плавления,твенно бор и углерод.7077 Спечен 1150 1800. 230 1800 230 148 02 9 30 - 7 0 1800 23 7 800 710 800 770 800 850 т 7,2 6,0 м, что, с целью пойкости, он содержит ющем соотношении,ч а ю щ и й с я тевышения износостокомпоненты в следумас.%:фосфорКарбид хрома 1,6-4 Остал...

Номер патента: 1742903

Опубликовано: 23.06.1992

Авторы: Бляшко, Кедяркин, Пекерская

МПК: H01L 21/477

Метки: арсенида, галлия, подложке, проводящих, участков, формирования

...коэффициентытермического расширения алюмосиликатного стекла и арсенида галлия близки (5 10 и 5,9 10 собтветственно), то минимизируются механические напряжения на границе раздела, что приводит к уменьшению механических повреждений пленки алюмосиликатного стекла и повышению качества маскирования, Кроме того, слой алюмосиликатного стекла наносят прикомнатной температуре и, следовательно,повышенные температуры не воздействуютна незащищенную поверхность арсенидагаллия. Интервалы температур и временидеструкции обуславливаются условиями,необходимыми и достаточными для сформирования защитного слоя. При температуредеструкции меньше 250 С и времени меньше 3 мин не полностью завершаются реакции разложения промежуточных продуктовгидролиза и...