Способ формирования рисунка в полиимидной пленке
Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1757395
Авторы: Воробьев, Коршунов, Кульгачев, Сенько, Снитовский
Описание
Способ формирования рисунка в полиимидной пленке, включающий нанесение на полупроводниковую подложку пленки полиамидной смолы, обработку участков пленки и травление не обработанных участков пленки, отличающийся тем, что, с целью снижения трудоемкости за счет исключения фотолитографии, обработку проводят путем одновременного фотонного облучения дозой не менее 0,6 МДж·м-2 при мощности потока излучения (0,01-2,0) МДж·с-1 ·м-2 и нагрева подложки до температуры не менее 80°С.
Заявка
4798158/25, 16.01.1990
Институт физики твердого тела и полупроводников АН БССР и Специальное конструкторско-технологическое бюро с опытным производством Института физики
Коршунов Ф. П, Кульгачев В. И, Сенько С. Ф, Снитовский Ю. П, Воробьев О. А
МПК / Метки
МПК: H01L 21/268
Метки: пленке, полиимидной, рисунка, формирования
Опубликовано: 20.03.2012
Код ссылки
<a href="https://patents.su/1-1757395-sposob-formirovaniya-risunka-v-poliimidnojj-plenke.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ формирования рисунка в полиимидной пленке</a>
Предыдущий патент: Способ создания омических контактов к кремнию
Следующий патент: Способ приготовления образцов для контроля величины локальных механических напряжений на границе раздела si sio2
Случайный патент: Реверсивная муфта обгона